CN213547109U - 一种分布式微机综合弧光保护测控系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种分布式微机综合弧光保护测控系统，包括用于检测弧光的光敏元件，以及与所述光敏元件连接的处理器，与处理器连接的射频通信模块，以及为所述光敏元件、处理器、射频通信模块供电的电源，所述射频通信模块用于将监测信息上传至服务器；所述光敏元件为三个或三个以上，各光敏元件采用分布式的方式铰接在一转筒的下端内壁，使得光敏元件的俯仰角度可调；所述转筒的上端通过轴承安装在固定座上，转筒外侧壁设置有一圈从动齿轮，所述固定座安装有电机，所述电机转轴安装有与所述从动齿轮啮合的主动齿轮，本方案将用于检测弧光的光敏元件采用分布式安装的模式实现不同角度的动态监测，从而提高了检测精度。

Description

一种分布式微机综合弧光保护测控系统

技术领域

本实用新型涉及微机保护领域，具体涉及一种分布式微机综合弧光保护测控系统。

背景技术

电弧是放电过程中发生的一种现象，当两点之间的电压超过其工频绝缘强度极限时就会发生。当适当的条件出现时，一个携带着电流的等离子产生，直到电源侧的保护设备断开才会消失。空气在通常条件是很好的绝缘体，但由于温度的升高或者其他外部因素的作用，其化学和物理特性发生改变时，它可能变成通电的导体。弧光保护是指电力系统由于各种的短路原因可引起弧光，弧光会以300m/s的速度爆发，摧毁途中的任何物质。只要系统中不断电，弧光就会一直存在。要想最大限度的减少弧光的危害，我们需要安全、迅速地切断电弧光，这样可以在发生弧光故障的时候，保护操作人员不受伤害，并且可以降低财产损失程度简称电弧光保护。

目前传统的弧光保护都是单点检测，一旦检测设备故障或者检测设备的安装角度问题就会造成弧光检测不准，容易出现漏检现象。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种分布式微机综合弧光保护测控系统，将用于检测弧光的光敏元件采用分布式安装的模式实现不同角度的动态监测，从而提高了检测精度。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种分布式微机综合弧光保护测控系统，包括用于检测弧光的光敏元件，以及与所述光敏元件连接的处理器，与处理器连接的射频通信模块，以及为所述光敏元件、处理器、射频通信模块供电的电源，所述射频通信模块用于将监测信息上传至服务器；

所述光敏元件为三个或三个以上，各光敏元件采用分布式的方式铰接在一转筒的下端内壁，使得光敏元件的俯仰角度可调；

所述转筒的上端通过轴承安装在固定座上，转筒外侧壁设置有一圈从动齿轮，所述固定座安装有电机，所述电机转轴安装有与所述从动齿轮啮合的主动齿轮。

为了解决传统弧光检测因为角度或者元件失灵造成的检测不到位的情况，本发明利用分布式安装的方式设置多个光敏元件用于检测弧光，同时利用电机驱动整个光敏元件转动，实现360°不同俯仰角度下的动态监测，从而提高了弧光监测的可靠性。

进一步的，所述光敏元件对称安装在转筒的下端内壁。

进一步的，所述电机的转速为60-100转每分钟。该设计的目的是为了保证光敏元件检测的灵敏性，其原因在于弧光每次产生的时间都是维持在1秒或者1秒以下，因此光敏元件转速必须不低于该时间，才能在这个时间内转动一圈进行弧光捕捉。

进一步的，所述转筒的直径大于弧光检测区域的尺寸，使得各光敏元件所围成的区域将弧光检测区域全覆盖。

进一步的，所述固定座两端伸出，并通过螺栓固定在弧光检测区域上方。

进一步的，所述电源为蓄电池，安装在所述转筒内所在区域的固定座上。

进一步的，所述转筒为绝缘材料制成。

本实用新型的有益效果是：和传统的单点检测相比，本方案对同一检测区域利用电机的驱动以及分布式设置的光敏元件形成一个动态不同俯仰角度下的360°检测，使得弧光一旦产生必然无法被漏检，从而提高了监测的灵敏度。

附图说明

图1是本实用新型的俯视图；

图2是本实用新型的剖面图；

图3是本实用新型的使用状态图；

图4是本实用新型的原理框图。

具体实施方式

下面结合附图进一步详细描述本实用新型的技术方案，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。

如图1和图4所示所示，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，包括用于检测弧光的光敏元件6，以及与光敏元件6连接的处理器，与处理器连接的射频通信模块，以及为光敏元件6、处理器、射频通信模块供电的电源，射频通信模块用于将监测信息上传至服务器。

参考图2所示，光敏元件6为三个或三个以上，各光敏元件6采用分布式的方式铰接在一转筒3的下端内壁，使得光敏元件6的俯仰角度可调；

转筒3的上端通过轴承2安装在固定座1上，转筒3外侧壁设置有一圈从动齿轮5，固定座1安装有电机7，电机7转轴安装有与从动齿轮5啮合的主动齿轮4。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，光敏元件6对称安装在转筒3的下端内壁，也就是各光敏元件6均匀安装在转筒3内。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，电机7的转速为60-100转每分钟。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，转筒3的直径大于弧光检测区域的尺寸，使得各光敏元件6所围成的区域将弧光检测区域全覆盖。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，固定座1两端伸出，并通过螺栓固定在弧光检测区域上方。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，电源为蓄电池，安装在转筒3内所在区域的固定座1上。

可选的，一种分布式微机综合弧光保护测控系统，转筒3为绝缘材料制成，从而消除电弧造成的信号干扰，避免因转筒3的导电导致信号传输中断。

工作原理说明：

参考图3所示，调节各光敏元件6的俯仰角度，使其始终处于弧光检测区域内，且各光敏元件6的俯仰角均不相同，监测状态下由电机7驱动转筒3转动，也就是各光敏元件6在各自的俯仰角度下做360°巡检，从而提供了不同视角下的弧光监测，相较于传统的单一视角单一检测点的检测，本方案具有检测更加灵敏，消除漏检的技术进步。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。

Claims (7)

1.一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，包括用于检测弧光的光敏元件（6），以及与所述光敏元件（6）连接的处理器，与处理器连接的射频通信模块，以及为所述光敏元件（6）、处理器、射频通信模块供电的电源，所述射频通信模块用于将监测信息上传至服务器；

所述光敏元件（6）为三个或三个以上，各光敏元件（6）采用分布式的方式铰接在一转筒（3）的下端内壁，使得光敏元件（6）的俯仰角度可调；

所述转筒（3）的上端通过轴承（2）安装在固定座（1）上，转筒（3）外侧壁设置有一圈从动齿轮（5），所述固定座（1）安装有电机（7），所述电机（7）转轴安装有与所述从动齿轮（5）啮合的主动齿轮（4）。

2.根据权利要求1所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述光敏元件（6）对称安装在转筒（3）的下端内壁。

3.根据权利要求2所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述电机（7）的转速为60-100转每分钟。

4.根据权利要求3所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述转筒（3）的直径大于弧光检测区域的尺寸，使得各光敏元件（6）所围成的区域将弧光检测区域全覆盖。

5.根据权利要求4所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述固定座（1）两端伸出，并通过螺栓固定在弧光检测区域上方。

6.根据权利要求5所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述电源为蓄电池，安装在所述转筒（3）内所在区域的固定座（1）上。

7.根据权利要求6所述的一种分布式微机综合弧光保护测控系统，其特征在于，所述转筒（3）为绝缘材料制成。

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