CN213507168U - 一种靶材位置可调整的溅射靶材基座 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座，所述底座上设有立柱，所述立柱的上端设有放置台，所述放置台上设有工件座，所述立柱上转动设有转筒，所述转筒上设有转盘，所述底座上设有驱动电机，所述驱动电机的输出轴设有主动齿轮，所述转筒上设有卡齿，所述转盘的两侧均设有弧形安装板，所述转盘上设有竖板，所述弧形安装板和竖板之间设有可移动的移动座，所述移动座的上方设有套筒，所述套筒内设有升降杆，所述升降杆的上端设有靶材固定座。本实用新型与现有技术相比的优点在于：靶材固定座位置可调，能够在镀膜的过程中根据靶材厚度的变化或者其它的加工需求实时调整靶材与工件之间的距离。
Description
技术领域
本实用新型涉及溅射靶材技术领域，具体是指一种靶材位置可调整的溅射靶材基座。
背景技术
在金属或金属工件的制备过程中，往往需要镀膜的工序，镀膜在日常生活中使用范围极广，目前，镀膜技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用镀膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使镀膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展，通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等，但在镀膜过程中，这样靶材与工件的距离发生变化(距离变大)，从而会使得溅射的效果发生变化，进而导致镀膜的不均匀。并且在镀膜时，当靶材的尺寸相对工件较小时，靶材到工件上的不同位置的距离会不同，也会导致镀膜的不均匀。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服以上的技术缺陷，提供一种靶材位置可调整的溅射靶材基座。
为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座，所述底座上设有立柱，所述立柱的上端设有放置台，所述放置台上设有工件座，所述立柱上通过轴承转动设有位于放置台下方的转筒，所述转筒上设有转盘，所述底座上设有驱动电机，所述驱动电机的输出轴设有主动齿轮，所述转筒上设有位于转盘下方的卡齿且主动齿轮与卡齿啮合设置，所述转盘的两侧均设有弧形安装板，所述转盘上设有两个靠近放置台边缘设置的竖板，所述弧形安装板和竖板之间设有可移动的移动座，所述移动座的上方设有套筒，所述套筒内设有升降杆，所述升降杆的上端设有靶材固定座，两个所述靶材固定座相对的端面均设有靶材放置口。
作为改进，所述弧形安装板和竖板之间转动设有丝杆，所述丝杆远离竖板的一端设有转把，所述移动座与丝杆螺纹连接，所述移动座的底部设有滑块，所述转盘上设有滑槽且滑块滑动设置在滑槽内。
作为改进，所述转盘上设有位于滑槽一侧的刻度线。
作为改进，所述套筒上螺纹连接有限位螺丝，所述升降杆上竖向设有若干与限位螺丝限位配合的限位孔。
作为改进，所述底座的底部设有防滑垫。
本实用新型与现有技术相比的优点在于：本实用新型的一种靶材位置可调整的溅射靶材基座中的转盘能够转动，从而带动转盘上的两个靶材固定座圆周运动，而工件座内的工件保持不动，从而使两个靶材固定座内的靶材都能旋转到工件不同位置的侧面，使镀膜更为均匀，且靶材固定座位置可调，能够在镀膜的过程中根据靶材厚度的变化或者其它的加工需求实时调整靶材与工件之间的距离，且刻度线的设置能更好的控制两侧靶材固定座移动的距离，从而达到更好的镀膜效果。
附图说明
图1是本实用新型一种靶材位置可调整的溅射靶材基座的结构示意图。
图2是图1中A的结构放大示意图。
如图所示：1、底座，2、立柱，3、放置台，4、工件座，5、转筒，6、转盘，7、驱动电机，8、主动齿轮，9、卡齿，10、弧形安装板，11、竖板，12、移动座，13、套筒，14、升降杆，15、靶材固定座，16、靶材放置口，17、丝杆，18、滑块，19、滑槽，20、限位螺丝，21、限位孔，22、防滑垫，23、转把。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明。
下面结合附图来进一步说明本实用新型的具体实施方式。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
结合附图1-2，一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座1，所述底座1上设有立柱2，所述立柱2的上端设有放置台3，所述放置台3上设有工件座4，所述立柱2上通过轴承转动设有位于放置台3下方的转筒5，所述转筒5上设有转盘6，所述底座1上设有驱动电机7，所述驱动电机7的输出轴设有主动齿轮8，所述转筒5上设有位于转盘6下方的卡齿9且主动齿轮8与卡齿9啮合设置，所述转盘6的两侧均设有弧形安装板10，所述转盘6上设有两个靠近放置台3边缘设置的竖板11，所述弧形安装板10和竖板11之间设有可移动的移动座12，所述移动座12的上方设有套筒13，所述套筒13内设有升降杆14，所述升降杆14的上端设有靶材固定座15，两个所述靶材固定座15相对的端面均设有靶材放置口16。
所述弧形安装板10和竖板11之间转动设有丝杆17，所述丝杆17远离竖板11的一端设有转把23，所述移动座12与丝杆17螺纹连接，所述移动座12的底部设有滑块18，所述转盘6上设有滑槽19且滑块18滑动设置在滑槽19内。
所述转盘6上设有位于滑槽19一侧的刻度线。
所述套筒13上螺纹连接有限位螺丝20，所述升降杆14上竖向设有若干与限位螺丝20限位配合的限位孔21。
所述底座1的底部设有防滑垫22。
本实用新型在具体实施时，将工件放置在工件座内，将镀膜用的靶材安装在两个靶材固定座内，启动驱动电机，驱动电机带动主动齿轮转动，主动齿轮带动转筒上的转盘转动，从而使两个靶材固定座内的靶材都能旋转到工件不同位置的侧面，使镀膜更为均匀，当需要调节靶材与工件之间的距离时，转动转把，转把带动丝杆转动，丝杆带动移动座移动，从而根据刻度线调整两个靶材固定座的移动距离，提高镀膜效果，同时可根据工件的镀膜高度调整两个靶材固定座的高度，从而调整镀膜的高度。
以上对本实用新型及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上设有立柱(2)，所述立柱(2)的上端设有放置台(3)，所述放置台(3)上设有工件座(4)，所述立柱(2)上通过轴承转动设有位于放置台(3)下方的转筒(5)，所述转筒(5)上设有转盘(6)，所述底座(1)上设有驱动电机(7)，所述驱动电机(7)的输出轴设有主动齿轮(8)，所述转筒(5)上设有位于转盘(6)下方的卡齿(9)且主动齿轮(8)与卡齿(9)啮合设置，所述转盘(6)的两侧均设有弧形安装板(10)，所述转盘(6)上设有两个靠近放置台(3)边缘设置的竖板(11)，所述弧形安装板(10)和竖板(11)之间设有可移动的移动座(12)，所述移动座(12)的上方设有套筒(13)，所述套筒(13)内设有升降杆(14)，所述升降杆(14)的上端设有靶材固定座(15)，两个所述靶材固定座(15)相对的端面均设有靶材放置口(16)。
2.根据权利要求1所述的一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，其特征在于：所述弧形安装板(10)和竖板(11)之间转动设有丝杆(17)，所述丝杆(17)远离竖板(11)的一端设有转把(23)，所述移动座(12)与丝杆(17)螺纹连接，所述移动座(12)的底部设有滑块(18)，所述转盘(6)上设有滑槽(19)且滑块(18)滑动设置在滑槽(19)内。
3.根据权利要求2所述的一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，其特征在于：所述转盘(6)上设有位于滑槽(19)一侧的刻度线。
4.根据权利要求1所述的一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，其特征在于：所述套筒(13)上螺纹连接有限位螺丝(20)，所述升降杆(14)上竖向设有若干与限位螺丝(20)限位配合的限位孔(21)。
5.根据权利要求1所述的一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，其特征在于：所述底座(1)的底部设有防滑垫(22)。
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