CN213457427U - 一种光学成像膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种光学成像膜。该光学成像膜包括:图文层、聚焦层及反射层,所述图文层、配置有复数子图文,所述子图文配置成预设图文的部分图案,所述聚焦层、配置有复数依据一定规则排布的聚焦结构且所述聚焦结构位于所述图文层的下方侧,所述聚焦结构与子图文一一匹配对应,所述反射层配置于所述聚焦层的远离所述图文层侧,在视角范围内,所述光学成像膜呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像。该实施方式下在不增加光学成像膜的厚度情况下,即能增加光学成像膜的可视角,且在可视角范围内没有串扰,又能呈现清晰的图像。
Description
技术领域
本申请涉及光学薄膜技术领域,具体地涉及一种光学成像膜。
背景技术
基于微透镜(微透镜阵列)实现的成像技术凭借完整的视差、连续的视点以及无需任何观察眼镜和特殊光照等优点,具有极大的潜力和发展前景,成像通常采用莫尔成像技术,形成光学成像膜。在一种技术中,只保留位于透镜层焦平面处微图文部分的结构区域,并去除不必要的微结构,实现了大悬浮图案且悬浮高度不高的莫尔防伪膜。该类型膜的可视角小,并不是在任意角度都能看到莫尔图案,莫尔图案只存在一定视角区域内,一旦超出这很小的可视角就会呈现串扰如图1所示,限制了膜的应用场合。
因此,业内亟需一种新的光学成像膜。
实用新型内容
本实用新型实施例的目的在于:提供一种新的光学成像膜,其能增加可视角的同时,又能得到清晰的图像。
为了实现上述目的,本申请采用如下技术方案:
一种光学成像膜,其特征在于,包括:
图文层、聚焦层及反射层,
所述图文层、配置有复数子图文,所述子图文配置成预设图文的部分图案,
所述聚焦层、配置有复数依据一定规则排布的聚焦结构且所述聚焦结构位于所述图文层的下方侧,所述聚焦结构的占空比介于85%~95%且与所述子图文一一匹配对应,
所述反射层配置于所述聚焦层的远离所述图文层侧,
在视角范围内,所述光学成像膜呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像。该实施方式在不增加光学成像膜的厚度的情况下,光学成像膜的可视角,又能呈现清晰的图像。降低防伪膜中莫尔像的串扰问题,并且这样对所成像的清晰度影响不大。
在一实施方式中,该聚焦结构包括:微透镜阵列或菲涅尔透镜。
在一实施方式中,该各所述聚焦结构的形状和/或大小相同,各所述聚焦结构呈四方形、半球形或正六边形。
在一实施方式中,该光学成像膜,其特征在于,各所述聚焦结构为半球形的凸起,其直径介于20μm~1000μm。
在一实施方式中,该聚焦结构为蜂窝分布的微透镜阵列。
在一实施方式中,该光学成像膜,其特征在于,还包括:
基底,所述基底的一侧配置图文层、另一侧配置有聚焦层且所述聚焦结构位于所述图文层的下方侧。
在一实施方式中,该光学成像膜,其特征在于,还包括:
保护层,其设置于图文层的外侧。
在一实施方式中,该光学成像膜,其特征在于,还包括:
油墨层,其配置于反射层的远离聚焦层侧。
在一实施方式中,该子图文包括:印刷图案、浮雕图案、填充图案中的一种或其组合,且所述子图文为基于完整图案分割的且依据一定规律排布。
有益效果
相对于现有技术中的方案,本申请实施方式提出的光学成像膜其对微透镜阵列及其匹配的子图文阵列的结构进行优化,同时增大微图案和微透镜周期的方式或微图案配与微透镜的位置的方式,显著的减小因为视角减小带来的串扰问题,最终使得防伪膜的成像效果更佳。
附图说明
为了更清楚地说明本说明书实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本说明书中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图:
图1为光学成像膜图像出现串扰的示意图;
图2为本申请一实施例的成像膜的结构示意图;
图3为图2不同视角的示意图;
图4为图2的不同视角下成像的示意图
图5为本申请另一实施例的成像膜的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请提出的技术方案,下面将结合本说明书实施例中的附图,对本说明书实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本说明书中的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本说明书中的一个或复数实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护的范围。
本申请提出一种光学成像膜,其包括:图文层、聚焦层及反射层,所述图文层、配置有复数子图文,聚焦层具有复数依据一定规则排布的聚焦结构且聚焦结构位于图文层的下方侧(观察者观看成像的视角下,该聚焦结构位于图文层的下方侧),聚焦结构的占空比介于85%-95%,且与图文层的子图文一一匹配对应,以使在可视角范围内光学成像膜具有呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像。该实施方式下即能增加光学成像膜的可视角,又能呈现清晰的图像。反射层位于聚焦层的外侧。该实施方式通过反射式的成像,微透镜采样时焦距不能直接按照它本来的焦距算,因为反射时光路是经过透镜两次,所以实际的焦距很小应为它本身焦距的六分之一。针对同样的膜厚场合下,该反射式的成像膜需要焦距和膜厚匹配就代表透镜焦距要是原来的六倍,进而透镜焦距变大相应的其口径要变大,为匹配放大率微图案的周期也相应变大。最终得到的结果是膜厚不变的情况下视角明显增大,且在可视角范围内没有串扰,又能呈现清晰的图像。本申请提出的光学成像膜,通过对微透镜阵列及其匹配的子图文阵列的周期进行优化,这样的设计,在不增加膜厚度的情况下,增大了成像膜的可视角又能得到清晰的图像。本申请中图文层包括多个子图文,且各子图文与对应的聚焦结构的一一匹配对应的作用下,能够形成具有放大效果的影像。例如,聚焦结构的成像倍率为200,在聚焦结构不变的情况下,将图文层设置为多个子图文,该子图文对应的预设图文为现有目标图形的3~5倍,则经过莫尔成像后,能够形成放大倍数为200×(3~5)倍的影像。从而,可在不改变影像高度或深度的情况下,可得到放大倍数更大的影像。
下面结合附图来详细的描述本申请提出的光学成像膜。
如图2所示为光学成像膜的结构示意图,该光学成像膜300,依次的配置有图文层303、基底301、聚焦层及反射层304,该图文层303、配置有复数子图文303a;该聚焦层配置于图文层303的下方侧,其具有复数依据一定规则排布的聚焦结构302;其中,聚焦层的聚焦结构302与图文层的子图文303a一一匹配,以使从聚焦结构302在视角范围内,光学成像膜具有呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像。该聚焦结构的占空比为85%-95%。该反射层304设置于与聚焦层的外侧,用于反射进入该光学成像膜的光,从而促进光从聚焦层射出,提高成像效果。该实施方式下聚焦结构302包括的微透镜阵列的透镜采样时实际的焦距应为它本身焦距的六分之一。聚焦结构包括微透镜阵列或菲涅尔透镜(菲涅尔透镜阵列)。本实施方式中,制作的微图文可以非常大,可以达到300um宽度且可以继续增大,依然可以保持清晰的图像。较佳的,该聚焦结构的微透镜阵列以合适角度(如,45°、60°)放置于周期接近的子图文阵列的下方。在一实施方式中,聚焦结构采用蜂窝分布的微透镜阵列。该基底的材质可与微透镜相同或选自PET层、PC层、PI层、PMMA层或CPI层或其组合。子图文配置成预设图文的部分图案,这样在不增加成像膜厚度的情况下增大了成像膜的可视角又能保证成像质量。本申请提出的光学成像膜,在同等膜厚度的条件下,光学成像膜提高可视角,且不降低成像效果。
下面结合图3及图4描述图2的光学成像膜的成像。
视角从C移至B(或B移至C)时光学成像膜具有呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像(如图4所示)。这样在不增加膜厚度的情况下提高膜的可视角,减小因为可视角过小带来的防伪膜中莫尔像的串扰问题。其可用作防伪膜、装饰膜等对膜的厚度要求比较高的场合。
在一实施方式中,上述的子图文包括,印刷图案、浮雕图案、填充图案中的一种或其组合。该子图文为基于完整图案分割的且依据一定规律排布。该微透镜阵列以合适角度(如,45°、60°)放置于周期接近的子图文阵列的上方,在可视角的范围内看到具有放大、动态、立体效果的图案。该聚焦结构与子图文一一对应,且子图文位于对应聚焦结构的焦平面或其附近,其中,对于聚焦结构(微透镜)来说,其焦平面定义为:过焦点且垂直于系统主光轴的平面为焦平面。
在一实施方式中,光学成像膜还包括油墨层,其配置于反射层的远离聚焦层侧。
在一实施方式中,省略该基底301(如图5所示),这样光学成像膜300的图文层302与聚焦层可为一体式结构。聚焦结构302的远离图文层302侧配置有反射层。
上述实施例中的光学成像膜,其可用作防伪膜、装饰膜等,其可用于家电。电子产品的外壳、各种外包装以及各种防伪场合,或者既可以实现防伪功能又可用于装饰场合。
上述实施方式中,各聚焦结构的形状和大小相同,其呈四方形、半球形、正六边形等,本实施方式中各聚焦结构为半球形的凸起,其直径介于20μm~1000μm。
上述实施例只为说明本申请的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本申请的内容并据以实施,并不能以此限制本申请的保护范围。凡如本申请精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本申请的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种光学成像膜,其特征在于,包括:
图文层、聚焦层及反射层,
所述图文层、配置有复数子图文,所述子图文配置成预设图文的部分图案,
所述聚焦层、配置有复数依据一定规则排布的聚焦结构且所述聚焦结构位于所述图文层的下方侧,所述聚焦结构的占空比介于85%~95%且与所述子图文一一匹配对应,
所述反射层配置于所述聚焦层的远离所述图文层侧,
在视角范围内,所述光学成像膜呈现上浮和/或下沉的预设图文的放大影像。
2.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述聚焦结构包括:微透镜阵列或菲涅尔透镜。
3.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,
各所述聚焦结构的形状和/或大小相同,各所述聚焦结构呈四方形、半球形或正六边形。
4.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,各所述聚焦结构为半球形的凸起,其直径介于20μm~1000μm。
5.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述聚焦结构为蜂窝分布的微透镜阵列。
6.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,还包括:
基底,所述基底的一侧配置图文层、另一侧配置有聚焦层且所述聚焦结构位于所述图文层的下方侧。
7.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,还包括:
保护层,其设置于图文层的外侧。
8.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,还包括:
油墨层,其配置于反射层的远离聚焦层侧。
9.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述子图文包括:印刷图案、浮雕图案、填充图案中的一种或其组合,且所述子图文为基于完整图案分割的且依据一定规律排布。
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CN113687522A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-11-23 | 苏州大学 | 一种反射式成像薄膜 |
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2020
- 2020-11-30 CN CN202022834243.9U patent/CN213457427U/zh active Active
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CN113687522A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-11-23 | 苏州大学 | 一种反射式成像薄膜 |
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