CN213447288U - 一种智能真空镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种智能真空镀膜机，包括壳体，壳体具有腔体，腔体内装有磁控溅射靶，工件架围绕所述磁控溅射靶自转和公转；所述工件架包括公转架和均匀安装于磁控溅射靶周围的多个自转组件；每个自转组件通过轴承安装于公转架；自转组件与壳体内壁设有多个拨动件相接触，自转组件通过拨动件的阻挡相对磁控溅射靶自转；该实用新型工件架围绕磁控溅射靶产生自转和公转，减少待镀膜产品因位置不同引起膜层厚度差异。

Description

一种智能真空镀膜机

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，特别是涉及一种智能真空镀膜机。

背景技术

CN207002836U实用新型专利公开的智能型磁控溅射真空镀膜机，有镀制参数闭环监控功系统以及相对应的控制系统，相关监测对象有工转及转速、靶转及转速、靶温，油温，水温，气体流量，混气比例，气压、真空度、工作电压、工作电流、膜层厚度等；本实用新型启动后各工序操作过程零介入，镀制过程零介入，镀制参数闭环监控自动调整并记录，实现镀制工艺精确、制程稳定；本实用新型智能化监控自动化程度高、工作效率高，所产出产品合格率高品质优，并且极大的节省人力资源。上述结束方案中工件架仅公转，产品镀膜的均匀性需要提高。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种智能真空镀膜机，该实用新型工件架围绕磁控溅射靶产生自转和公转，减少待镀膜产品因位置不同引起膜层厚度差异。

为解决此技术问题，本实用新型的技术方案是：一种智能真空镀膜机，包括壳体，壳体具有腔体，腔体内装有磁控溅射靶，工件架围绕所述磁控溅射靶自转和公转；

所述工件架包括公转架和均匀安装于磁控溅射靶周围的多个自转组件；每个自转组件通过轴承安装于公转架；

自转组件与壳体内壁设有多个拨动件相接触，自转组件通过拨动件的阻挡相对磁控溅自转。

进一步改进，所述公转架通过公转电机驱动。本实用新型仅需要一公转电机，有效减少腔体内空间占用，提高生产效率。

进一步改进，所述自转组件包括自转板和固连于自转板的立杆，沿着立杆的长度方向均匀固定有多个支撑件。本实用新型自转组件可以放置多组用于放置产品的支撑件，均相对磁控溅射靶发生自转和公转，有效提高生产效率。

进一步改进，所述支撑件相对其所在的立杆为对称结构，支撑件包括两分叉结构；每个分叉结构具有三支撑点。三个支撑点的分叉结构利于产品的稳定放置，利于稳定的完成镀膜且对产品表面的影响较小，利于获得高品质镀膜产品。

进一步改进，所述自转板水平凸出设有与所述拨动件相配合的接触件。随着自转板的公转，自转板的接触件与拨动件相接触，固定的拨动件带动自转盘相对公转架相对转动，实现产品相对磁控溅射靶发生转动。

进一步改进，每一自转板具有至少一个接触件。本实用新型每个自转板可以设置多个接触件与拨动件相配合，提高产品发生自转的几率。

进一步改进，所述拨动件等高度的均匀分布于所述壳体的内壁。本实用新型沿着壳体的内壁设置多个拨动件，保证产品在公转的同时有效发生自转，减少产品与磁控溅射靶径向距离不同造成膜厚不均匀，利于获得高品质产品；同时结构简单，方便实施。

通过采用上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

本实用新型的工件架相对磁控溅射靶发生自转和公转，其具体的转动过程为：

公转架带动磁控溅射靶周围的多个自转组件围绕磁控溅射靶公转，与此同时，自转组件与壳体内壁设有多个拨动件相接触，自转组件通过拨动件的阻挡相对磁控溅自转，工件架的待镀膜产品相对磁控溅射靶自转和公转，避免了因产品位置不同造成膜厚度不同；

本实用新型中自转出现是通过自转组件与拨动件之间的相对阻碍实现的，随着公转的进行，拨动件驱动一自转组件转动后，该自转组件经过该拨动件，因此本实用新型仅产品的公转需要动力，产品的自转无需提供额外动力，腔体内空间占用小，结构简单，同时提高生产效率和产品膜厚的均匀性。

从而实现本实用新型的上述目的。

附图说明

图1是本实用新型涉及的一种智能真空镀膜机的主视图；

图2是本实用新型涉及的一种智能真空镀膜机的俯视图。

图中：

壳体1；拨动件11；腔体100；磁控溅射靶2；工件架3；公转架31；自转组件32；自转板321；立杆322；支撑件323；轴承33；接触件34；公转电机35。

具体实施方式

为了进一步解释本实用新型的技术方案，下面通过具体实施例来对本实用新型进行详细阐述。

本实施例公开一种智能真空镀膜机，如图1和图2所示，包括壳体1，壳体1具有腔体100，腔体100内装有磁控溅射靶2，工件架3围绕所述磁控溅射靶2自转和公转；

所述工件架3包括公转架31和均匀安装于磁控溅射靶2周围的多个自转组件32；每个自转组件32通过轴承33安装于公转架31；自转组件32与壳体1内壁设有多个拨动件11相接触，自转组件32通过拨动件11的阻挡相对磁控溅射靶2自转。本实施例用于制成待镀膜产品的工件架3围绕磁控溅射靶2产生自转和公转，减少待镀膜产品因位置不同引起膜层厚度差异。本实施例的工件架3相对磁控溅射靶2发生自转和公转，其具体的转动过程为：

公转架31带动磁控溅射靶2周围的多个自转组件32围绕磁控溅射靶2公转，与此同时，自转组件32与壳体1内壁设有多个拨动件11相接触，自转组件32通过拨动件11的阻挡相对磁控溅射靶2自转，工件架3的待镀膜产品相对磁控溅射靶2自转和公转，避免了因产品位置不同造成膜厚度不同；

本实施例中自转出现是通过自转组件32与拨动件11之间的相对阻碍实现的，随着公转的进行，拨动件11驱动一自转组件32转动后，该自转组件32经过该拨动件11，因此本实施例仅产品的公转需要动力，产品的自转无需提供额外动力，腔体100内空间占用小，结构简单，同时提高生产效率和产品膜厚的均匀性。

本实施例中所述公转架31通过公转电机4驱动。本实施例仅需要一公转电机4，有效减少腔体100内空间占用，提高生产效率。

本实施例中所述自转组件32包括自转板321和固连于自转板321的立杆322，沿着立杆322的长度方向均匀固定有多个支撑件323。本实施例自转组件32可以放置多组用于放置产品的支撑件323，均相对磁控溅射靶2发生自转和公转，有效提高生产效率。

本实施例中所述支撑件323相对其所在的立杆322为对称结构，支撑件323包括两分叉结构；每个分叉结构具有三支撑点。三个支撑点的分叉结构利于产品的稳定放置，利于稳定的完成镀膜且对产品表面的影响较小，利于获得高品质镀膜产品。

本实施例中所述自转板321水平凸出设有与所述拨动件11相配合的接触件34。随着自转板321的公转，自转板321的接触件34与拨动件11相接触，固定的拨动件11带动自转盘相对公转架31相对转动，实现产品相对磁控溅射靶2发生转动。

本实施例中每一自转板321具有至少一个接触件34。本实施例每个自转板321可以设置多个接触件34与拨动件11相配合，提高产品发生自转的几率。

本实施例中所述拨动件11等高度的均匀分布于所述壳体1的内壁。本实施例沿着壳体1的内壁设置多个拨动件11，保证产品在公转的同时有效自转，减少产品与磁控溅射靶2径向距离不同造成膜厚不均匀，利于获得高品质产品；同时结构简单，方便实施。

上述实施例和图式并非限定本实施例的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本实施例的专利范畴。

Claims (7)

1.一种智能真空镀膜机，其特征在于：包括壳体，壳体具有腔体，腔体内装有磁控溅射靶，工件架围绕所述磁控溅射靶自转和公转；

所述工件架包括公转架和均匀安装于磁控溅射靶周围的多个自转组件；每个自转组件通过轴承安装于公转架；

自转组件与壳体内壁设有多个拨动件相接触，自转组件通过拨动件的阻挡相对磁控溅射靶自转。

2.如权利要求1所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：所述公转架通过公转电机驱动。

3.如权利要求1所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：所述自转组件包括自转板和固连于自转板的立杆，沿着立杆的长度方向均匀固定有多个支撑件。

4.如权利要求3所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：所述支撑件相对其所在的立杆为对称结构，支撑件包括两分叉结构；

分叉结构具有三支撑点。

5.如权利要求3所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：所述自转板水平凸出设有与所述拨动件相配合的接触件。

6.如权利要求5所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：每一自转板具有至少一个接触件。

7.如权利要求5所述的一种智能真空镀膜机，其特征在于：所述拨动件等高度的均匀分布于所述壳体的内壁。

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