CN213255889U - 一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮、机壳和第一腔室，所述机壳底端的四个拐角处固定连接有滚轮，所述机壳的内部分别设置有第一腔室、第二腔室和第三腔室，所述第一腔室内部设置有消毒机构，所述第二腔室内部设置有循环机构，所述第三腔室内部的一侧固定连接有超声波发生器，所述第三腔室内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构，所述机壳的一侧固定连接有输送管道。本实用新型通过设置有进水管道、水泵、出水管道、水箱、过滤网和阀门，装置在工作时水泵将水箱内部的水抽出输送到清洗管道，然后利用喷头输送到清洗框内部，清洗结束后，拧动阀门，清洗框内部的水流入水箱的内部，再经过过滤网过滤残渣。

Description

一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机

技术领域

本实用新型涉及半导体清洗机技术领域，具体为一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机。

背景技术

随着科技发展的越来越迅速，我们日常生活中所需要使用到的半导体物品也越来越多，那么清洗半导体的问题也变成了重点关注的问题，现有的半导体清洗机还存在很多不足，大部分清洗机没有循环利用水资源，浪费水资源。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：

(1)传统的半导体柜式清洗机，没有循环利用水资源的机构，导致浪费水资源，提高成本；

(2)传统的半导体柜式清洗机，装置在工作时，清洗完的半导体依然潮湿，取出还会沾染较多污渍；

(3)传统的半导体柜式清洗机，半导体在清洗完成后，没有放置消毒的地方，导致清洗完的物品没有进一步消毒。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，以解决上述背景技术中提出没有水循环提高成本、半导体干燥后得不到除湿和干燥后的半导体没有放置消毒区域的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮、机壳和第一腔室，所述机壳底端的四个拐角处固定连接有滚轮，所述机壳的内部分别设置有第一腔室、第二腔室和第三腔室，所述第一腔室内部设置有消毒机构，所述第二腔室内部设置有循环机构，所述第三腔室内部的一侧固定连接有超声波发生器，所述第三腔室内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构，所述机壳的一侧固定连接有输送管道，且输送管道的一侧固定连接有清洗管道，所述清洗管道的底端均匀固定连接有喷头，所述第三腔室内部的底端均匀设置有清洗框，所述机壳的另一侧固定连接有控制器。

优选的，所述循环机构由进水管道、水泵、出水管道、水箱、过滤网和阀门组成，所述水箱设置在第二腔室内部的底端，所述水箱内部的顶端活动连接有过滤网，所述水箱一侧的顶部固定连接有水泵，所述水箱一侧的顶部设置有出水管道，所述水泵的输入端固定连接在出水管道的顶端，所述水泵的输出端固定连接在输送管道的底端，所述水箱顶端的中间位置处设置有进水管道，所述进水管道的一端设置有阀门。

优选的，所述进水管道的顶端分别贯穿第三腔室的底端并与清洗框的底端固定连接。

优选的，所述除湿机构由固定板、箱体、出风口和风扇组成，所述固定板均固定连接在第三腔室内部的顶端，所述固定板的底端固定连接有箱体，所述箱体内部设置有风扇，所述箱体的底端设置有出风口。

优选的，所述消毒机构由紫外线灯、网板、固定块、滑槽、滑块、托盘和把手组成，所述紫外线灯均固定连接在第一腔室内部的顶端，所述网板均设置在第一腔室的内部，所述网板的两侧均固定连接有滑块，所述滑槽均固定连接在固定块的一侧，所述网板的顶端均匀设置有托盘，所述托盘的一端固定连接有把手。

优选的，所述紫外线灯设置有两组，所述紫外线灯关于机壳的垂直中心线分布。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机不仅实现了利用水循环降低成本，实现了利用冷风机对半导体进行除湿，而且实现了设置了消毒放置区域；

(1)通过设置有进水管道、水泵、出水管道、水箱、过滤网和阀门，装置在工作时水泵将水箱内部的水抽出输送到清洗管道，然后利用喷头输送到清洗框内部，清洗结束后，拧动阀门，清洗框内部的水流入水箱的内部，再经过过滤网过滤残渣；

(2)通过设置有固定板、箱体、出风口和风扇，半导体在清洗结束后，启动除湿机构，风扇转动从出风口送风，半导体的表面可以被除去一大部分的水分，保持干燥；

(3)通过设置有紫外线灯、网板、固定块、滑槽、滑块、托盘和把手，清洗干燥之后的半导体可以将其取出放置在托盘上，托盘底部是网状，上下都可以被紫外线灯照射到，进行消毒，利然后用网板两侧的滑槽和滑块，可以取消网板进行替换和清理。

附图说明

图1为本实用新型的正视剖面结构示意图；

图2为本实用新型的循环机构正视剖面结构示意图；

图3为本实用新型的除湿机构正视剖面放大结构示意图；

图4为本实用新型的消毒机构局部剖面放大结构示意图。

图中：1、滚轮；2、机壳；3、第一腔室；4、循环机构；401、进水管道； 402、水泵；403、出水管道；404、水箱；405、过滤网；406、阀门；5、第二腔室；6、超声波发生器；7、输送管道；8、清洗管道；9、除湿机构；901、固定板；902、箱体；903、出风口；904、风扇；10、第三腔室；11、喷头； 12、控制器；13、清洗框；14、消毒机构；1401、紫外线灯；1402、网板； 1403、固定块；1404、滑槽；1405、滑块；1406、托盘；1407、把手。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供的一种实施例：一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮1、机壳2和第一腔室3，机壳2底端的四个拐角处固定连接有滚轮1，机壳2的内部分别设置有第一腔室3、第二腔室5和第三腔室10，第一腔室3内部设置有消毒机构14；

消毒机构14由紫外线灯1401、网板1402、固定块1403、滑槽1404、滑块1405、托盘1406和把手1407组成，紫外线灯1401均固定连接在第一腔室3内部的顶端，网板1402均设置在第一腔室3的内部，网板1402的两侧均固定连接有滑块1405，滑槽1404均固定连接在固定块1403的一侧，网板1402 的顶端均匀设置有托盘1406，托盘1406的一端固定连接有把手1407；

紫外线灯1401设置有两组，紫外线灯1401关于机壳2的垂直中心线分布；

具体地，如图1和图4所示，使用该机构时，首先，清洗干燥之后的半导体可以将其取出放置在托盘1406上，托盘1406底部是网状，上下都可以被紫外线灯1401照射到，进行消毒，利然后用网板1402两侧的滑槽1404和滑块1405，可以取消网板1402进行替换和清理；

第二腔室5内部设置有循环机构4；

循环机构4由进水管道401、水泵402、出水管道403、水箱404、过滤网405和阀门406组成，水箱404设置在第二腔室5内部的底端，水箱404 内部的顶端活动连接有过滤网405，水箱404一侧的顶部固定连接有水泵402，该水泵402的型号为W36，水箱404一侧的顶部设置有出水管道403，水泵402 的输入端固定连接在出水管道403的顶端，水泵402的输出端固定连接在输送管道7的底端，水箱404顶端的中间位置处设置有进水管道401，进水管道 401的一端设置有阀门406；

进水管道401的顶端分别贯穿第三腔室10的底端并与清洗框13的底端固定连接；

具体地，如图1和图2所示，使用该机构时，首先，装置在工作时水泵 402将水箱404内部的水抽出输送到清洗管道8，然后利用喷头11输送到清洗框13内部，清洗结束后，拧动阀门406，清洗框13内部的水流入水箱404 的内部，再经过过滤网405过滤残渣；

第三腔室10内部的一侧固定连接有超声波发生器6，第三腔室10内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构9；

除湿机构9由固定板901、箱体902、出风口903和风扇904组成，固定板901均固定连接在第三腔室10内部的顶端，固定板901的底端固定连接有箱体902，箱体902内部设置有风扇904，箱体902的底端设置有出风口903；

具体地，如图1和图3所示，使用该机构时，首先，半导体在清洗结束后，启动除湿机构9，风扇904转动从出风口903送风，半导体的表面可以被除去一大部分的水分，保持干燥；

机壳2的一侧固定连接有输送管道7，且输送管道7的一侧固定连接有清洗管道8，清洗管道8的底端均匀固定连接有喷头11，第三腔室10内部的底端均匀设置有清洗框13，机壳2的另一侧固定连接有控制器12。

工作原理：本实用新型在使用时，首先，装置在工作时水泵402将水箱 404内部的水抽出输送到清洗管道8，然后利用喷头11输送到清洗框13内部，清洗结束后，拧动阀门406，清洗框13内部的水流入水箱404的内部，再经过过滤网405过滤残渣。

之后，半导体在清洗结束后，启动除湿机构9，风扇904转动从出风口 903送风，半导体的表面可以被除去一大部分的水分，保持干燥。

最后，清洗干燥之后的半导体可以将其取出放置在托盘1406上，托盘1406 底部是网状，上下都可以被紫外线灯1401照射到，进行消毒，利然后用网板 1402两侧的滑槽1404和滑块1405，可以取消网板1402进行替换和清理。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮(1)、机壳(2)和第一腔室(3)，其特征在于：所述机壳(2)底端的四个拐角处固定连接有滚轮(1)，所述机壳(2)的内部分别设置有第一腔室(3)、第二腔室(5)和第三腔室(10)，所述第一腔室(3)内部设置有消毒机构(14)，所述第二腔室(5)内部设置有循环机构(4)，所述第三腔室(10)内部的一侧固定连接有超声波发生器(6)，所述第三腔室(10)内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构(9)，所述机壳(2)的一侧固定连接有输送管道(7)，且输送管道(7)的一侧固定连接有清洗管道(8)，所述清洗管道(8)的底端均匀固定连接有喷头(11)，所述第三腔室(10)内部的底端均匀设置有清洗框(13)，所述机壳(2)的另一侧固定连接有控制器(12)。

2.根据权利要求1所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述循环机构(4)由进水管道(401)、水泵(402)、出水管道(403)、水箱(404)、过滤网(405)和阀门(406)组成，所述水箱(404)设置在第二腔室(5)内部的底端，所述水箱(404)内部的顶端活动连接有过滤网(405)，所述水箱(404)一侧的顶部固定连接有水泵(402)，所述水箱(404)一侧的顶部设置有出水管道(403)，所述水泵(402)的输入端固定连接在出水管道(403)的顶端，所述水泵(402)的输出端固定连接在输送管道(7)的底端，所述水箱(404)顶端的中间位置处设置有进水管道(401)，所述进水管道(401)的一端设置有阀门(406)。

3.根据权利要求2所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述进水管道(401)的顶端分别贯穿第三腔室(10)的底端并与清洗框(13)的底端固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述除湿机构(9)由固定板(901)、箱体(902)、出风口(903)和风扇(904)组成，所述固定板(901)均固定连接在第三腔室(10)内部的顶端，所述固定板(901)的底端固定连接有箱体(902)，所述箱体(902)内部设置有风扇(904)，所述箱体(902)的底端设置有出风口(903)。

5.根据权利要求1所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述消毒机构(14)由紫外线灯(1401)、网板(1402)、固定块(1403)、滑槽(1404)、滑块(1405)、托盘(1406)和把手(1407)组成，所述紫外线灯(1401)均固定连接在第一腔室(3)内部的顶端，所述网板(1402)均设置在第一腔室(3)的内部，所述网板(1402)的两侧均固定连接有滑块(1405)，所述滑槽(1404)均固定连接在固定块(1403)的一侧，所述网板(1402)的顶端均匀设置有托盘(1406)，所述托盘(1406)的一端固定连接有把手(1407)。

6.根据权利要求5所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述紫外线灯(1401)设置有两组，所述紫外线灯(1401)关于机壳(2)的垂直中心线分布。

Images