CN213196784U - 平面磨床 - Google Patents

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董飞
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Abstract

本实用新型提供了一种平面磨床,属于机加工技术领域,包括:机架本体;打磨机构;工作台,包括设于机架本体的台体,以及设于台体的电磁吸盘,台体包括设有电磁吸盘的第一台面,以及绕第一台面设置的第二台面,第一台面高于第二台面;导流回收机构;以及喷液机构,设于机架本体。技术效果:工作台包括高度不同的第一台面和第二台面,在第一台面和第二台面分别开设有第一导流槽和第二导流槽,利用喷液机构对打磨机构和工作台喷液,使得粉末、碎屑等在水流的冲击下从第一导流槽和第二导流槽中经导流管流入回收桶内,实现了边打磨边清理的效果,清理效率相对于人工清理效率更高,打磨效率也更高。

Description

平面磨床
技术领域
本实用新型属于机加工技术领域,更具体地说,是涉及一种平面磨床。
背景技术
模具是用来以注塑、吹塑、压铸、冲压等方法制作目标产品的工具,不同的目标产品采用不同的模具,每种类型的模具均由多个零件构成。每种模具的制作均需要经过打磨,才能够获得质量较好的形状构造。除此之外,其他类型的五金件、冲压件等也需要经过打磨,才能够获得质量较好的形状构造。
在打磨工具中通常采用平面磨床对工件进行磨削以达到符合加工要求的平整度,在使用平面磨床时,将电磁吸盘设置并固定在工作台上,将待打磨的工件放置在电磁吸盘上,通过控制砂轮或工作台的位置,对待打磨的工件进行打磨。
在打磨过程中会产生较多粉末或碎屑,散落在工作台上、电磁吸盘上和工件上,如果不能即使清理,则会影响电磁吸盘的散热和工件的打磨。传统的清理方式是先停机,再人工使用毛刷或抹布等清理工作台、电磁吸盘和工件,但是,上述人工清理方式效率较低,影响打磨效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种平面磨床,旨在解决人工清理粉末或碎屑的方式效率较低,影响打磨效率的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:提供一种平面磨床,包括:机架本体;打磨机构,设于所述机架本体;工作台,包括设于所述机架本体的台体,以及设于所述台体的电磁吸盘,所述台体包括设有所述电磁吸盘的第一台面,以及绕所述第一台面设置的第二台面,所述第一台面高于所述第二台面;所述第一台面开设有至少一个第一导流槽,所述第二台面开设有与至少一个所述第一导流槽均连通的第二导流槽;导流回收机构,包括与所述第二导流槽连通的导流管,与所述导流管连通的回收桶;以及喷液机构,设于所述机架本体,用于为所述打磨机构、所述工作台喷液。
进一步地,所述第一导流槽的深度自所述第一台面中心向边缘呈增大趋势,所述第二导流槽的深度自所述第二台面的一端至相对的另一端呈增大趋势。
进一步地,所述导流管与所述第二导流槽的连通端部呈锥形,所述导流管与所述回收桶连通的连通端部也呈锥形。
进一步地,所述导流管与所述回收桶之间还设有吸水机。
进一步地,所述回收桶内设有可拆卸的过滤网,以及与所述过滤网连接的提拉钩。
进一步地,所述喷液机构包括设于所述机架本体的支撑架,设于所述支撑架的喷头组件,以及与所述喷头组件连通的供水组件。
进一步地,所述喷头组件包括邻近所述打磨机构设置的第一喷头,以及邻近所述台体设置的第二喷头,所述第一喷头的喷射方向和所述第二喷头的喷射方向同向或呈锐角设置。
进一步地,所述喷头组件与所述回收箱之间设有供水管及抽水泵。
进一步地,所述平面磨床还包括设于所述机架本体的多个毛刷,以及驱动所述毛刷旋转和/或移动的电机本体,多个所述毛刷对应设于所述第一导流槽和所述第二导流槽。
进一步地,所述工作台的周向轮廓设有至少遮挡所述打磨机构及所述电磁吸盘的挡板。
本实用新型提供的平面磨床至少具有以下技术效果:与传统技术相比,本实用新型提供的平面磨床中,工作台包括高度不同的第一台面和第二台面,在第一台面和第二台面分别开设有第一导流槽和第二导流槽,利用喷液机构对打磨机构和工作台喷液,使得粉末、碎屑等在水流的冲击下从第一导流槽和第二导流槽中经导流管流入回收桶内,实现了边打磨边清理的效果,清理效率相对于人工清理效率更高,打磨效率也更高。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一实施例提供的平面磨床的结构示意图;
图2为本实用新型一实施例中工作台的结构示意图;
图3为本实用新型一实施例中回收桶的结构示意图。
图中:
10、平面磨床 100、机架本体 200、打磨机构
300、工作台 310、台体 312、第一台面
314、第一导流槽 316、第二台面 318、第二导流槽
320、电磁吸盘 400、导流回收机构 410、导流管
420、回收桶 422、过滤网 424、提拉钩
500、喷液机构 510、支撑架 520、喷头组件
522、第一喷头 524、第二喷头 530、供水组件
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。
请一并参阅图1至图3,现对本实用新型实施例提供的平面磨床10进行说明。
请参阅图1和图2,本实用新型实施例提供了一种平面磨床10,包括:机架本体100;打磨机构200,设于机架本体100;工作台300,包括设于机架本体100的台体310,以及设于台体310的电磁吸盘320,台体310包括设有电磁吸盘320的第一台面312,以及绕第一台面312设置的第二台面316,第一台面312高于第二台面316;第一台面312开设有至少一个第一导流槽314,第二台面316开设有与至少一个第一导流槽314均连通的第二导流槽318;导流回收机构400,包括与第二导流槽318连通的导流管410,与导流管410连通的回收桶420;以及喷液机构500,设于机架本体100,用于为打磨机构200、工作台300喷液。
需要说明的是,本实用新型实施例提供的平面磨床10可以是立式的,也可以是卧式的,台体310可以是圆形的,也可以是矩形的,对此不作限制。
具体地,机架本体100用于承载整个装置,起到支撑作用。打磨机构200包括驱动电机,由驱动电机驱动的砂轮,以及部分罩设砂轮的防护罩。工作台300还包括用于驱动台体310移动的传动机构,传动机构具体可以是导轨导槽配合的,也可以是螺母螺杆配合的,对此不做限制。在打磨时,工件放置在电磁吸盘320上,为了防止电磁吸盘320吸力不足或失效,还可以在工作台300上设置用于夹持工件的夹爪。
请参阅图2,台体310包括第一台面312和第二台面316,在第一台面312上可以自电磁吸盘320向边缘开设有多个间隔设置的第一导流槽314,用于接收被喷淋落下的水流。在第二台面316上开设有与多个第一导流槽314均连通的第二导流槽318,用于接收第一导流槽314中的水流以及接收被喷淋落下的水流,第二导流槽318绕第二台面316一周设置,能够将台体310轮廓范围内的水流基本接收,然后经过导流管410排入至回收桶420内,实现水流的回收。喷液机构500能够利用喷水的冲击力将粉末、碎屑等从工件、砂轮、台体310、电磁吸盘320上冲刷下来,夹杂着粉末、碎屑的水流从第一导流槽314和第二导流槽318中回收,实现对粉末碎屑的清理操作。可以理解的是,本实施例中的电磁吸盘320以及其他驱动机构等均为防水结构。
可以理解的是,第一导流槽314与第二导流槽318可以是直接连通的,可以是空间上利用高度差实现连通的,即第二导流槽318可以接收到第一导流槽314内流出的水流即可。第二导流槽318与导流管410之间可以是通过中间槽连通的。
本实用新型提供的平面磨床10至少具有以下技术效果:与传统技术相比,本实用新型提供的平面磨床10中,工作台300包括高度不同的第一台面312和第二台面316,在第一台面312和第二台面316分别开设有第一导流槽314和第二导流槽318,利用喷液机构500对打磨机构200和工作台300喷液,使得粉末、碎屑等在水流的冲击下从第一导流槽314和第二导流槽318中经导流管410流入回收桶420内,实现了边打磨边清理的效果,清理效率相对于人工清理效率更高,打磨效率也更高。
为了增加水流的流动性,作为一种具体实施方式,第一导流槽314的深度自第一台面312中心向边缘呈增大趋势,第二导流槽318的深度自所述第二台面316的一端至相对的另一端呈增大趋势。本实施例中,第一导流槽314和第二导流槽318的槽型可以是V型槽,也可以是弧形槽,还可以是矩形槽等。第一导流槽314的深度自中心向边缘逐渐增大,第二导流槽318自一端至另一端逐渐增大,利用倾斜设置的方式增加了水流的速度和导向性,加快了导流作用,减少了拥堵情况。
为了减少水流拥堵情况,作为一种具体实施方式,导流管410与第二导流槽318的连通端部呈锥形,导流管410与回收桶420连通的连通端部也呈锥形。即,导流管410的两端分别设置为锥形,即,两端的周向轮廓大于中间的周向轮廓,以截面为圆形的导流管410为例,则两端的径向尺寸大于中间的径向尺寸,如此在交替的两个连通端部位置不会出现水流拥堵情况,流动性更好。
作为另一种具体实施方式,导流管410与回收桶420之间还设有吸水机。吸水机能够辅助水流导向,加快水流速度,同样也可以达到减少水流拥堵的情况。
为了实现对粉末、碎屑的回收,请参阅图3,作为一种具体实施方式,回收桶420内设有可拆卸的过滤网422,以及与过滤网422连接的提拉钩424。本实施例中,过滤网422可以设置在回收桶420高度1/3或1/2的位置,能够将粉末和碎屑回收。为了避免由于粉末和碎屑的堆积而影响水流的流动性,在过滤网422上还连接有提拉钩424,提拉钩424可以悬空设置,也可以挂设于回收桶420的顶端,便于人工或自动地利用提拉钩424将过滤网422提升,然后对粉末和碎屑进行清理。
请参阅图1,作为一种具体实施方式,喷液机构500包括设于机架本体100的支撑架510,设于支撑架510的喷头组件520,以及与喷头组件520连通的供水组件530。本实施例中,支撑架510用于支撑喷头组件520,也可以用于支撑供水组件530,当然,供水组件530也可以直接设于机架本体100或邻近机架本体100设置。供水组件530包括集水箱和抽水泵,以为喷头组件520供水。
进一步地,喷头组件520包括邻近打磨机构200设置的第一喷头522,以及邻近台体310设置的第二喷头524,第一喷头522的喷射方向和第二喷头524的喷射方向同向或呈锐角设置。本实施例中,第一喷头522用于为砂轮清理表面的粉末和碎屑,第二喷头524用于为台体310、电磁吸盘320和工件清理表面的粉末和碎屑,如此可以增加喷射能力和喷射效果,更全面地清理打磨过程中所产生的粉末和碎屑。为了避免第一喷头522和第二喷头524出现对喷溅射的情况,可以将第一喷头522的喷射方向和第二喷头524的喷射方向设置为同向或锐角。
进一步地,喷头组件520与回收箱之间设有供水管及抽水泵。本实施例中,喷头组件520除了供水组件530提供水源之外,还可以利用回收箱内的回收净水进行喷射,即,在喷头组件520和回收箱之间设置供水管、抽水泵和通断阀等结构。当然,供水组件530与喷头组件520之间也设有通断阀。
为了提高清理效果,平面磨床10还包括设于机架本体100的多个毛刷,以及驱动毛刷旋转和/或移动的电机本体,多个毛刷对应设于第一导流槽314和第二导流槽318。本实施例中,多个毛刷能够辅助清理第一导流槽314和第二导流槽318槽壁上的粉末和碎屑,避免由于水流冲击力不够而难以彻底清理的情况。
为了防止水流溅射,工作台300的周向轮廓设有至少遮挡打磨机构200及电磁吸盘320的挡板。由于喷液机构500在喷水时,水流具有一定的冲击力,当水流喷射至打磨机构200、电磁吸盘320及工件时,水流容易向四周溅射,造成周围环境相对脏乱差的情况,因此,在工作台300的周向轮廓上还设有挡板,以阻挡水流溅射的路径。当然,如果挡板可以做的相对较大,还可以将整个台体310一同遮挡。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.平面磨床,其特征在于,包括:
机架本体;
打磨机构,设于所述机架本体;
工作台,包括设于所述机架本体的台体,以及设于所述台体的电磁吸盘,所述台体包括设有所述电磁吸盘的第一台面,以及绕所述第一台面设置的第二台面,所述第一台面高于所述第二台面;所述第一台面开设有至少一个第一导流槽,所述第二台面开设有与至少一个所述第一导流槽均连通的第二导流槽;
导流回收机构,包括与所述第二导流槽连通的导流管,与所述导流管连通的回收桶;以及
喷液机构,设于所述机架本体,用于为所述打磨机构、所述工作台喷液。
2.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述第一导流槽的深度自所述第一台面中心向边缘呈增大趋势,所述第二导流槽的深度自所述第二台面的一端至相对的另一端呈增大趋势。
3.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述导流管与所述第二导流槽的连通端部呈锥形,所述导流管与所述回收桶连通的连通端部也呈锥形。
4.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述导流管与所述回收桶之间还设有吸水机。
5.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述回收桶内设有可拆卸的过滤网,以及与所述过滤网连接的提拉钩。
6.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述喷液机构包括设于所述机架本体的支撑架,设于所述支撑架的喷头组件,以及与所述喷头组件连通的供水组件。
7.如权利要求6所述的平面磨床,其特征在于,所述喷头组件包括邻近所述打磨机构设置的第一喷头,以及邻近所述台体设置的第二喷头,所述第一喷头的喷射方向和所述第二喷头的喷射方向同向设置。
8.如权利要求6所述的平面磨床,其特征在于,还包括回收箱,所述喷头组件与所述回收箱之间设有供水管及抽水泵。
9.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述平面磨床还包括设于所述机架本体的多个毛刷,以及驱动所述毛刷移动的电机本体,多个所述毛刷对应设于所述第一导流槽和所述第二导流槽。
10.如权利要求1所述的平面磨床,其特征在于,所述工作台的周向轮廓设有至少遮挡所述打磨机构及所述电磁吸盘的挡板。
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