CN213113556U - 一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，涉及表面处理的领域，其包括氧化槽本体，氧化槽本体内均设置有阴极架，氧化槽本体上设置有用于固定挂具的阳极架，且氧化槽本体上设置有驱动阳极架转动的驱动装置；所述阴极架和阳极架连接有直流供电装置。本申请具有使阳极氧化槽内的电解液均匀分布的效果。

Description

一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽

技术领域

本申请涉及表面处理的领域，尤其是涉及一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽。

背景技术

铝制型材在生产生活中被广泛应用，随着用途的不断延伸，对铝型材的性能要求也在不断提升，因此，需要采用不同的工艺对铝型材进一步进行细加工，如将铝型材至于阳极氧化槽中进行阳极氧化，在铝型材的表面形成氧化膜用以提高铝型材的耐腐蚀能力、耐磨性能、附着性能。

但是，目前所使用的阳极氧化槽，在阳极氧化过程中，容易出现阳极氧化槽内的电解液分布不均匀，阳极氧化槽内不同位置处的电解液的浓度存在差异，造成不同位置处的铝型材表面的氧化膜厚度不匀的现象。

针对上述中的相关技术，发明人认为存在有阳极氧化槽内的电解液分布不均,导致铝型材表面的氧化膜厚度不匀的缺陷。

实用新型内容

为了阳极氧化槽内的电解液分布不均的，本申请提供一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽。

本申请提供的一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽采用如下的技术方案：

一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，包括氧化槽本体，氧化槽本体内均设置有阴极架，氧化槽本体上设置有用于固定挂具的阳极架，且氧化槽本体上设置有驱动阳极架转动的驱动装置；所述阴极架和阳极架连接有直流供电装置。

通过采用上述技术方案，在进行电镀时，往氧化槽本体中加入电解液，启动驱动装置，驱动装置驱动阳极架在氧化槽本体内进行旋转，同时，启动直流供电装置，通过阴极架和阳极架完成电镀。如此设置，阳极架带动挂具在电解液里转动，进而有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布，使被电度物体表面的氧化膜厚度均匀。

优选的，所述氧化槽本体包括多个相互套设的环形氧化池，相邻所述环形氧化池呈梯次设置且相互连通，而环形氧化池上连通设置有循环回料装置。

通过采用上述技术方案，在电镀过程中，氧化槽本体内的多个环形氧化池使氧化槽本体内的电解液呈区域分布，进而便于氧化槽本体内的电解液的混合，相邻环形氧化池的梯次设置使相邻环形氧化池内的电解液便于进行流通，进而有利于相邻环形氧化池内的电解液进行混合，环形氧化池内的电解液通过循环回料装置在各环形氧化池内进行回流，进而有利于使相邻环形氧化池内的电解液混合均匀。

优选的，相邻所述环形氧化池之间设置有收集槽，收集槽的底部设置有与环形氧化池相连通的孔道。

通过采用上述技术方案，在将挂具从电解液中取出时，部分从挂具上掉落的电解液掉落在氧化槽本体内的电解液中，容易造成电解液的飞溅，而收集槽对飞溅的电解液具有良好的收集作用，且收集槽中的电解液通过底部的孔道流入到环形氧化池中，进而有利于减少电解液的浪费。

优选的，所述阳极架上设置用于限位挂具的卡槽。

通过采用上述技术方案，在进行电镀时，挂具卡接在卡槽中，进而有利于挂具在氧化池内的稳定性，对挂具起到良好的保护作用。

优选的，所述氧化槽本体上罩设有保护罩，保护罩上设置有用于连通外部集气设备的连接管。

通过采用上述技术方案，在电镀过程中，集气设备通过连接管将保护罩内的气体进行收集，有利于防止氧化槽本体内产生的气体扩散，不易对环境造成污染。

优选的，所述氧化罩设置为透明结构罩。

通过采用上述技术方案，在电镀过程中，通过透明结构罩可以随时观察氧化槽本体内的阳极架的运行状况及电解液的搅拌情况，提高了阳极氧化槽的实用性。

优选的，所述氧化槽本体上设置有用于驱动氧极架和驱动装置整体升降的升降装置。

通过采用上述技术方案，在将挂具从电解液中进行取出时，启动升降装置，升降装置驱动氧极架和驱动装置整体进行整体升降，进而带动阳极架上的挂具进行升降，进而有利于挂具进行取出，提高了阳极氧化槽的实用性。

优选的，所述氧化槽本体上设置有用于移动氧极架和驱动装置的机动架。

通过采用上述技术方案，在将挂具升起后，启动机动架，机动架驱动氧极架和驱动装置进行移动，进而带动阳极架上的挂具进行移动，使挂具移动到氧化槽本体的一侧，进而有利于对挂具进行收取，提高了阳极氧化槽的实用性。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.通过设置转动装置，转动装置驱动阳极架进行转动，进而有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布；

2.通过设置多个环形氧化池，相邻所述环形氧化池呈梯次设置且相互连通，而环形氧化池上连通设置有循环回料装置，进而有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布。

附图说明

图1是本申请实施例中的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽的整体结构示意图；

图2是本申请实施例中的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽的剖面示意图；

图3是本申请实施例中的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽的局部爆炸示意图；

图4是图3中的A部的放大示意图。

附图标记说明：1、氧化槽本体；2、阴极架；3、阳极架；4、驱动装置；5、直流供电装置；6、环形氧化池；7、循环回料装置；8、卡槽；9、收集槽；10、孔道；11、保护罩；12、连接管；13、升降装置；14、机动架；15、连接管。

具体实施方式

以下结合附图1-4对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽。参照图1，可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽包括圆柱状的氧化槽本体1。

参照图2，氧化槽本体1的底部中心位置设置有阳极架3，阳极架3上设置有圆形的连接环，连接环上均匀设置有多个圆柱状的阳极棒，本实施例为6个。各阳极架沿远离连接环圆心的方向延伸至氧化槽本体1的边缘，且位于各环形氧化池6的顶部，阳极架上设置有多个用于卡接挂具的长方形的卡槽8，本实施例为3个，在阳极架3进行转动时，挂具卡接在卡槽8中，进而有利于挂具在运行过程中的稳定性。

氧化槽本体1内设置有圆环形的阴极架2。氧化槽本体1上设置有直流供电装置5，本实施例的直流供电装置5为直流电源，直流供电装置5通过导线与阴极架2和阳极架进行电连接，进而实现电镀。

氧化槽本体1内设置有多个圆形的环形氧化池6，本实施例为3个，相邻环形氧化池6之间相套设且呈梯次设置，使氧化槽本体1内的电解液呈区域分布，进而有利于电解液的均匀分布。阴极架2设置在环形氧化池6的底部，相邻环形氧化池6的阴极架2通过沿池壁设置的长方形的连接杆相连接。

阳极架3的底部连接有驱动阳极架3转动的驱动装置4，本实施例的驱动装置4为旋转平台，驱动装置4远离阳极架3的一端抵接有驱动阳极架3和驱动装置4整体进行升降的升降装置13，本实施例的升降装置13为气缸，升降装置13远离驱动装置4的一端固定设置在氧化槽本体1的底部。在阳极氧化槽运行过程中，升降装置13便于使阳极架3进行升降，驱动装置4驱动阳极架3转动，进而带动挂具对环形氧化池6内的电解液进行搅拌，有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布，使被电度物体表面的氧化膜厚度均匀。阳极架3远离驱动装置4的一端连接有驱动阳极架3移动的机动架14，本实施例的机动架14为龙门吊，便于对升起的阳极架3进行移动。

参照图3和图4，相邻环形氧化池6之间的池壁上设置有用于连通相邻环形氧化池6的长方体状的连通口，相邻环形氧化池6内的电解液通过连通口相流动，且氧化槽本体1内最内侧环形氧化池6的底部连通有循环回料装置7，本实施例的循环回料装置7包括回流泵和回流管，最内侧环形氧化池6的底部与回流泵相连通，回流泵通过回流管与最外侧环形氧化池6相连通，回流管的回流截面为圆形，在阳极氧化槽运行过程中，有利于氧化槽本体1内的电解液进行混流，进而有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布，使被电度物体表面的氧化膜厚度均匀。

相邻环形氧化池6之间的池壁上远离电解液的一侧壁上设置有长方体状的收集槽9，收集槽9的底部设置有用于连通环形氧化池6的孔道10，孔道10的截面为圆形，在阳极氧化槽运行过程中，收集槽9有利于对环形氧化池6内飞溅出的电解液进行收集并通过孔道10使收集的电解液流回环形氧化池6中。

氧化槽本体1的顶部罩设有圆筒形的保护罩11，保护罩11上连通有用于连接集气设备的连接管15，本实施的集气设备为分水滤气器，连接管15的截面为圆形，在阳极氧化槽的运行过程中，集气设备便于对环形氧化池6内产生的气体进行收集和过滤，有利于对环境的保护。

本申请实施例一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽的实施原理为：在进行电镀时，往氧化槽本体1中的环形氧化池6内加入电解液，电解液通过相邻环形氧化池6之间的池壁上的连通口进行流动，并通过循环回料装置7在环形氧化池6之间进行回流，同时启动驱动装置4，驱动装置4驱动阳极架3在氧化槽本体1内进行旋转，进而带动阳极架3上的挂具对环形氧化池6内的电解液进行搅拌，此时，启动直流供电装置5，通过阴极架2和阳极架3完成电镀。电镀完成后，停止驱动装置4，启动升降装置13，升降装置13驱动阳极架3上升，上升过程中，环形氧化池6内溅起的电解液部分掉落在收集槽9中，并通过收集槽9底部的孔道10流回环形氧化池6中，在完成对阳极架3的升降后，启动机动架14，机动架14驱动阳极架3进行移动，对挂具进行收取；氧化槽本体1内产生的气体聚集在保护罩11内，并通过集气设备进行收集和排放。如此设置，进而有利于使阳极氧化槽内的电解液均匀分布，使被电度物体表面的氧化膜厚度均匀。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：包括氧化槽本体（1），氧化槽本体（1）内均设置有阴极架（2），氧化槽本体（1）上设置有用于固定挂具的阳极架（3），且氧化槽本体（1）上设置有驱动阳极架（3）转动的驱动装置（4）；所述阴极架（2）和阳极架（3）连接有直流供电装置（5）。

2.根据权利要求1所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述氧化槽本体（1）包括多个相互套设的环形氧化池（6），相邻所述环形氧化池（6）呈梯次设置且相互连通，而环形氧化池（6）上连通设置有循环回料装置（7）。

3.根据权利要求2所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：相邻所述环形氧化池（6）之间设置有收集槽（9），收集槽（9）的底部设置有与环形氧化池（6）相连通的孔道（10）。

4.根据权利要求1所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述阳极架（3）上设置用于限位挂具的卡槽（8）。

5.根据权利要求1所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述氧化槽本体（1）上罩设有连通外部集气设备的保护罩（11）。

6.根据权利要求5所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述保护罩（11）设置为透明结构罩。

7.根据权利要求1所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述氧化槽本体（1）上设置有用于驱动阳极架（3）和驱动装置（4）整体升降的升降装置（12）。

8.根据权利要求1所述的可实现电解液均匀分布的阳极氧化槽，其特征在于：所述氧化槽本体（1）上设置有用于移动阳极架（3）和驱动装置（4）的机动架（13）。

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