CN213113526U - 一种避免化成箔表面发黄的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种避免化成箔表面发黄的清洗装置，包括解离机构、清洗机构，所述解离机构包括解析槽，解析槽上方左右各设有第一传送辊筒、第二传送辊筒，解析槽内部设有第三传送辊筒，清洗机构包括清洗槽，清洗槽内设有第四传送辊筒，化成箔依次绕过第一传送辊筒、第三传送辊筒、第二传送辊筒、第四传送辊筒经过解析槽和清洗槽，化成箔经过清洗槽后再通过喷淋管正反喷淋。本实用新型将化成箔进行多级化成之后，通过氧化膜的溶解将表面的有机物从箔片表面解离出来，经过清洗槽浸泡清洗，再经过喷淋管双面冲洗后，再进行烧片高温处理。箔片表面的有机物清洗干净，从而解决了在进行高温处理时，箔片发黄的问题。

Description

一种避免化成箔表面发黄的清洗装置

技术领域

本实用新型属于化成箔生产领域，特别涉及一种避免化成箔表面发黄的清洗装置。

背景技术

化成箔是高纯铝光箔经过电化学腐蚀扩面，再经过电化学阳极氧化在其表面形成三氧化二铝的氧化膜。在化成箔的生产中经过前处理、多级化成、后处理、清洗、烘干工序，收箔，包装等工序。目前主要采用的化成工艺有纯硼酸工艺，混酸（硼酸+有机酸）工艺，有机酸工艺，其箔片容量大小顺序是：有机酸工艺>混酸工艺>纯硼酸工艺， 箔片制作成电容器的寿命顺序是：纯硼酸工艺>混酸工艺>有机酸工艺。为同时保证其容量及性能，目前采用最多是混酸工艺，但箔片在经过多级化成后，箔片表面会吸附大量的有机物，经过后处理中的烧片高温处理，箔片会表面发黄，且表面发黄的有机物会增加箔片的漏电流，影响其性能。CN201921678754.7、CN201920628803.X等现有技术对化成箔清洗装置进行了研究，但是其清洗方式均还是采用不同方式的水冲洗，用水量较大，且清洗效果较差。

发明内容

鉴于上述现有生产技术的不足，本实用新型的目的在于一种避免化成箔表面发黄的清洗装置。

本实用新型采用的技术方案为：

一种避免化成箔表面发黄的清洗装置，包括解离机构、清洗机构，所述解离机构包括解析槽，解析槽上方左右各设有第一传送辊筒、第二传送辊筒，解析槽内部设有第三传送辊筒，清洗机构包括清洗槽，清洗槽内设有第四传送辊筒，化成箔依次绕过第一传送辊筒、第三传送辊筒、第二传送辊筒、第四传送辊筒经过解析槽和清洗槽，化成箔经过清洗槽后再通过喷淋管正反喷淋。

优选地，所述解析槽槽体设有夹层，夹层设有介质通入管和介质排出管。

优选地，所述喷淋管下方设有废液收集槽。

优选地，所述解析槽下方设有鼓泡装置，所述鼓泡装置通过管道与储气罐连通。

优选地，所述第三传送辊筒的表面两端设有向内凹的斜面，斜面与辊筒的夹角为90-175度。

优选地，所述第三传送辊筒的表面设有向内凹陷的环形花纹。

优选地，所述第三传送辊筒和第四传送辊筒结构相同。

优选地，所述解析槽内的解析液为2%-4%体积分数的磷酸溶液，或为1-2g/L的NaOH溶液。

本实用新型具有以下有益效果：

1、 化成箔进行多级化成之后，烧片高温处理之前，经过解离机构、清洗机构依次解析、清水清洗，解析槽内的解析液为2%-4%体积分数的磷酸溶液，或为1-2g/L的NaOH溶液清洗槽，其槽液能溶解箔片表面的氧化膜，通过氧化膜的溶解将表面的有机物从箔片表面解离出来，然后经过清洗槽浸泡清洗，再经过喷淋管双面冲洗后，再进行烧片高温处理。箔片表面的有机物清洗干净，从而解决了在进行高温处理时，箔片发黄的问题。

、 解析槽槽体设有夹层，夹层设有介质通入管和介质排出管，可以使得解析液保证在合适的解析温度，充分的解析。

、 本实用新型在解析槽，清洗槽分别只设置的一根第二传送辊筒和第四传送辊筒，可避免多跟传送辊筒对化成箔的摩擦造成的损伤，同时结合鼓泡装置使得解析槽中的解析液形成微小振动，解析液可以在对化成箔构成一定的重洗力度，提高有机物解析速度。

、 第三传送辊筒的表面两端设有向内凹的斜面，斜面与辊筒的夹角为90-175度，可以使得解析出来的物质通过花纹缝隙溶解至解析液中，也可解决了化成箔在连续化成输送过程中的打滑、跑偏。

附图说明

图1是本实用新型的装置结构示意图；

图2是第二传送辊筒结构示意图；

其中：解离机构1、清洗机构2，解析槽3，第一传送辊筒4、第二传送辊筒5，第三传送辊筒6，清洗槽7，第四传送辊筒（8），化成箔9，喷淋管10，夹层11，介质通入管12，介质排出管13，废液收集槽14，鼓泡装置15，储气罐16，斜面17，环形花纹18。

具体实施方式

下面结合具体实施例，对本实用新型作进一步详细的阐述，但本实用新型的实施方式并不局限于实施例表示的范围。这些实施例仅用于说明本实用新型，而非用于限制本实用新型的范围。

实施例1

一种避免化成箔表面发黄的清洗装置，包括解离机构1、清洗机构2，所述解离机构1包括解析槽3，解析槽3上方左右各设有第一传送辊筒4、第二传送辊筒5，解析槽3内部设有第三传送辊筒6，清洗机构2包括清洗槽7，清洗槽7内设有第四传送辊筒8，化成箔9依次绕过第一传送辊筒4、第三传送辊筒6、第二传送辊筒5、第四传送辊筒8经过解析槽3和清洗槽7，化成箔9经过清洗槽7后再通过喷淋管10正反喷淋。

优选地，所述解析槽3槽体设有夹层11，夹层设有介质通入管12和介质排出管13。

优选地，所述喷淋管10下方设有废液收集槽14。

优选地，所述解析槽3下方设有鼓泡装置15，所述鼓泡装置15通过管道与储气罐16连通。

优选地，所述第三传送辊筒6的表面两端设有向内凹的斜面17，斜面17与辊筒的夹角为90-175度。

优选地，所述第三传送辊筒6的表面设有向内凹陷的环形花纹18。

优选地，所述第三传送辊筒6和第四传送辊筒8结构相同。

优选地，所述解析槽3内的解析液为2%-4%体积分数的磷酸溶液，或为1-2g/L的NaOH溶液。

更进一步优选地，螺纹以整个辊筒长度中心点为基准，分别向辊筒两端螺旋至距辊筒边缘10-12mm处。

本实用新型使用时：化成箔进行多级化成之后，烧片高温处理之前，经过解离机构1、清洗机构2依次解析、清水清洗，解析槽3内的解析液为2%-4%体积分数的磷酸溶液，或为1-2g/L的NaOH溶液清洗槽，其槽液能溶解箔片表面的氧化膜，通过氧化膜的溶解将表面的有机物从箔片表面解离出来，然后经过清洗槽7浸泡清洗，再经过喷淋管10双面冲洗后，再进行烧片高温处理。箔片表面的有机物清洗干净，从而解决了在进行高温处理时，箔片发黄的问题。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效形状或结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于：包括解离机构（1）、清洗机构（2），所述解离机构（1）包括解析槽（3），解析槽（3）上方左右各设有第一传送辊筒（4）、第二传送辊筒（5），解析槽（3）内部设有第三传送辊筒（6），清洗机构（2）包括清洗槽（7），清洗槽（7）内设有第四传送辊筒（8），化成箔（9）依次绕过第一传送辊筒（4）、第三传送辊筒（6）、第二传送辊筒（5）、第四传送辊筒（8）经过解析槽（3）和清洗槽（7），化成箔（9）经过清洗槽（7）后再通过喷淋管（10）正反喷淋。

2.根据权利要求1所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述解析槽（3）槽体设有夹层（11），夹层设有介质通入管（12）和介质排出管（13）。

3.根据权利要求1所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述喷淋管（10）下方设有废液收集槽（14）。

4.根据权利要求1所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述解析槽（3）下方设有鼓泡装置（15），所述鼓泡装置（15）通过管道与储气罐（16）连通。

5.根据权利要求1所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述

第三传送辊筒（6）的表面两端设有向内凹的斜面（17），斜面（17）与辊筒的夹角为90-175度。

6.根据权利要求1所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述第三传送辊筒（6）的表面设有向内凹陷的环形花纹（18）。

7.根据权利要求5-6任意一项所述的避免化成箔表面发黄的清洗装置，其特征在于，所述第三传送辊筒（6）和第四传送辊筒（8）结构相同。

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