CN212968479U - 一种大能量266nm紫外激光器 - Google Patents
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Abstract
一种大能量266nm紫外激光器，其特征是包括泵浦源(1)、光学耦合系统(2)、端泵后腔镜(3)、第一激光增益介质(4)、第二激光增益介质(5)、12.5°反射镜(6)、45°反射镜(7)、声光调Q开关(8)、532nm分光镜(9)、LBO倍频晶体(10)、全反镜(11)、聚焦透镜(12)、BBO倍频晶体(13)和266nm分光镜(14)。本实用新型提出了一种大能量266nm紫外激光器，采用大能量光纤耦合半导体激光器单端泵浦，双激光增益介质吸收，Z字激光谐振腔，提高了激光器的稳定性，最后实现毫焦级别的266nm紫外激光输出。
Description
技术领域
本实用新型属于固体激光技术领域，特别涉及一种大能量266nm紫外激光器。
背景技术
近年来，266nm紫外激光器凭借着波长短、分辨率高、高光子能量等特点，在很多领域得到广泛应用。如工业材料加工、光存储、环境检测及医疗手术等领域，特别是在工业加工领域，由于266nm紫外激光器聚焦光斑更小，同时单脉冲能量更高，作用于材料上，直接破坏材料的分子键，而不产生热量，使得加工精度得到提高。
目前现有的266nm紫外激光器能量偏低，在进行激光应用的时，无法满足大型的激光生产和加工，有很大的局限性，从而限制了激光应用技术的发展。
实用新型内容
本实用新型提供的一种大能量266nm紫外激光器，用于满足大型的激光生产和加工要求。
一种大能量266nm紫外激光器，其特征是包括泵浦源1、光学耦合系统2、端泵后腔镜3、第一激光增益介质4、第二激光增益介质5、12.5°反射镜6、45°反射镜7、声光调Q开关8、532nm分光镜9、LBO倍频晶体10、全反镜11、聚焦透镜12、BBO倍频晶体 13和266nm分光镜14；所述的泵浦源1发出的激光通过光学耦合系统2进入第一激光增益介质4内部；所述第二激光增益介质5对泵浦光进行二次吸收；所述端泵后腔镜3、12.5°反射镜6、45°反射镜7和全反镜11构成激光谐振腔；所述声光调Q开关8和LBO倍频晶体10在激光谐振腔内；所述532nm分光镜9将谐振腔产生的532nm绿光反出；所述聚焦透镜12将532nm绿光聚焦进BBO倍频晶体13产生266nm紫外激光；所述266nm分光镜14 将266nm激光反出。
所述泵浦源1为中心波长878.6nm的光纤耦合半导体激光器，光纤芯径200um,数值孔径NA＝0.22；
所述光学耦合系统2采用聚焦透镜组；所述端泵后腔镜3镀有880nm增透膜和1064nm 高反膜。
所述12.5°反射镜6为平面镜，镀有1064nm高反膜；所述45°反射镜7为平面镜，镀有1064nm高反膜；
所述声光调Q开关8为融石英晶体，超声波频率80MHz,脉冲调制重复频率为20kHz-250kHz；
所述532nm分光镜9镀有1064nm增透膜和532nm高反膜；
所述LBO倍频晶体10为三硼酸锂晶体，晶体尺寸为3×3×15mm，两面均镀1064nm和532nm的增透膜；
所述全反镜11为平面镜，镀有1064nm和532nm的高反膜；所述聚焦透镜12焦距为25mm,两面均镀532nm的增透膜。
所述BBO倍频晶体13为偏硼酸钡晶体，晶体尺寸为3×3×12mm，两面均镀532nm和266nm的增透膜；所述266nm分光镜14镀有532nm增透膜和266nm高反膜。
本实用新型的有益效果如下：
本实用新型提出了一种大能量266nm紫外激光器，采用大能量光纤耦合半导体激光器单端泵浦，双激光增益介质吸收，Z字激光谐振腔，提高了激光器的稳定性，最后实现毫焦级别的266nm紫外激光输出。
附图说明
图1为本实用新型一种大能量266nm紫外激光器结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型专利做进一步详细说明。
如图1所示的一种高重频多波长输出的激光器，
一种大能量266nm紫外激光器，包括泵浦源1、光学耦合系统2、端泵后腔镜3、第一激光增益介质4、第二激光增益介质5、12.5°反射镜6、45°反射镜7、声光调Q开关8、 532nm分光镜9、LBO倍频晶体10、全反镜11、聚焦透镜12、BBO倍频晶体13和266nm分光镜14；所述的泵浦源1发出的激光通过光学耦合系统2进入第一激光增益介质4内部；所述第二激光增益介质5对泵浦光进行二次吸收；所述端泵后腔镜3、12.5°反射镜6、 45°反射镜7和全反镜11构成激光谐振腔；所述声光调Q开关8和LBO倍频晶体10在激光谐振腔内；所述532nm分光镜9将谐振腔产生的532nm绿光反出；所述聚焦透镜12将 532nm绿光聚焦进BBO倍频晶体13产生266nm紫外激光；所述266nm分光镜14将266nm 激光反出。
所述泵浦源1为中心波长878.6nm的光纤耦合半导体激光器，光纤芯径200um,数值孔径NA＝0.22；
所述光学耦合系统2采用聚焦透镜组；所述端泵后腔镜3镀有880nm增透膜和1064nm 高反膜。
所述第一激光增益介质4为掺钕的钒酸钇晶体，Nd3+掺杂浓度0.3％，c尺寸为3×3× 18mm，两面均镀1064nm和880nm的增透膜；所述第二激光增益介质5为掺钕的钒酸钇晶体，Nd3+掺杂浓度0.15％，c尺寸为为3×3×20mm，两面均镀1064nm和880nm的增透膜。
所述12.5°反射镜6为平面镜，镀有1064nm高反膜；所述45°反射镜7为平面镜，镀有1064nm高反膜；
所述声光调Q开关8为融石英晶体，超声波频率80MHz,脉冲调制重复频率为20kHz-250kHz；
所述532nm分光镜9镀有1064nm增透膜和532nm高反膜；
所述LBO倍频晶体10为三硼酸锂晶体，晶体尺寸为3×3×15mm，两面均镀1064nm和532nm的增透膜；
所述全反镜11为平面镜，镀有1064nm和532nm的高反膜；所述聚焦透镜12焦距为25mm,两面均镀532nm的增透膜。
所述BBO倍频晶体13为偏硼酸钡晶体，晶体尺寸为3×3×12mm，两面均镀532nm和266nm的增透膜；所述266nm分光镜14镀有532nm增透膜和266nm高反膜。
包括泵浦源1可选用恩耐激光的element-878.8nm-65w型号产品。
第一激光增益介质4、第二激光增益介质5可选用福建福晶科技CASTECH-Nd:YVO4型号产品。
声光调Q开关8可选用古奇IQS080-1.2CA0G-8-HR7的XX型号产品。
LBO倍频晶体10可选用福建福晶科技的CASTECH-LBO-AR1064/532nm型号产品。
BBO倍频晶体13可选用福建福晶科技的CASTECH-LBO-AR532/266nm型号产品。
本实用新型提出了一种大能量266nm紫外激光器，采用大能量光纤耦合半导体激光器单端泵浦，双激光增益介质吸收，Z字激光谐振腔，提高了激光器的稳定性，最后实现毫焦级别的266nm紫外激光输出。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本发明的优选例，并不用来限制本发明，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (9)
1.一种大能量266nm紫外激光器，其特征是包括泵浦源(1)、光学耦合系统(2)、端泵后腔镜(3)、第一激光增益介质(4)、第二激光增益介质(5)、12.5°反射镜(6)、45°反射镜(7)、声光调Q开关(8)、532nm分光镜(9)、LBO倍频晶体(10)、全反镜(11)、聚焦透镜(12)、BBO倍频晶体(13)和266nm分光镜(14)；所述的泵浦源(1)发出的激光通过光学耦合系统(2)进入第一激光增益介质(4)内部；所述第二激光增益介质(5)对泵浦光进行二次吸收；所述端泵后腔镜(3)、12.5°反射镜(6)、45°反射镜(7)和全反镜(11)构成激光谐振腔；所述声光调Q开关(8)和LBO倍频晶体(10)在激光谐振腔内；所述532nm分光镜(9)将谐振腔产生的532nm绿光反出；所述聚焦透镜(12)将532nm绿光聚焦进BBO倍频晶体(13)产生266nm紫外激光；所述266nm分光镜(14)将266nm激光反出。
2.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述泵浦源(1)为中心波长878.6nm的光纤耦合半导体激光器，光纤芯径200um,数值孔径NA＝0.22。
3.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述光学耦合系统(2)采用聚焦透镜组；所述端泵后腔镜(3)镀有880nm增透膜和1064nm高反膜。
4.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述12.5°反射镜(6)为平面镜，镀有1064nm高反膜；所述45°反射镜(7)为平面镜，镀有1064nm高反膜。
5.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述声光调Q开关(8)为融石英晶体，超声波频率80MHz,脉冲调制重复频率为20kHz-250kHz。
6.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述532nm分光镜(9)镀有1064nm增透膜和532nm高反膜。
7.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述LBO倍频晶体(10)为三硼酸锂晶体，晶体尺寸为3×3×15mm，两面均镀1064nm和532nm的增透膜。
8.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述全反镜(11)为平面镜，镀有1064nm和532nm的高反膜；所述聚焦透镜(12)焦距为25mm,两面均镀532nm的增透膜。
9.根据权利要求1所述一种大能量266nm紫外激光器，其特征是所述BBO倍频晶体(13)为偏硼酸钡晶体，晶体尺寸为3×3×12mm，两面均镀532nm和266nm的增透膜；所述266nm分光镜(14)镀有532nm增透膜和266nm高反膜。
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| CN115411600A (zh) * | 2022-11-02 | 2022-11-29 | 安徽华创鸿度光电科技有限公司 | 一种无走离的266nm紫外激光合频技术装置以及使用方法 |
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2020
- 2020-06-22 CN CN202021165072.9U patent/CN212968479U/zh active Active
Cited By (2)
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| CN115411600A (zh) * | 2022-11-02 | 2022-11-29 | 安徽华创鸿度光电科技有限公司 | 一种无走离的266nm紫外激光合频技术装置以及使用方法 |
| CN115411600B (zh) * | 2022-11-02 | 2023-02-28 | 安徽华创鸿度光电科技有限公司 | 一种无走离的266nm紫外激光合频技术装置以及使用方法 |
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| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 210000 room 0601, building C, Xingzhi Science Park, Xingzhi Road, Nanjing Economic and Technological Development Zone, Jiangsu Province Patentee after: Nanjing Mulai Laser Technology Co.,Ltd. Address before: 210000 room 0601, building C, Xingzhi Science Park, Xingzhi Road, Nanjing Economic and Technological Development Zone, Nanjing, Jiangsu Province Patentee before: NANJING MOVELASER TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
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