CN212902579U - 一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置 - Google Patents

一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置 Download PDF

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巩甘雷
吕凤鸣
杜怀玉
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Abstract

本实用新型公开了一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,包括底板,以及设置在底板上的转动支撑装置和驱动装置,所述转动支撑装置有两组,分别设置在气氛炉本体的两端;所述转动支撑装置包括套装在气氛炉本体上的滚圈结构以及与滚圈结构相配合的设置在气氛炉本体前后的两个支撑滚轮,所述滚圈结构与气氛炉本体上沿轴向平行设置的若干间隔相等的凸条固定连接,所述支撑滚轮固定在其两侧的轴承座中;所述驱动装置包括电机,与电机输出端连接的小齿轮,以及与小齿轮啮合的大齿圈,所述大齿圈套装在气氛炉本体的中间部位,所述大齿圈上螺接有若干均匀分布的支撑板,所述支撑板与气氛炉本体固定连接,所述小齿轮固定在其两侧的轴承座中。

Description

一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置
技术领域
本实用新型涉及物料输送加热的技术领域,具体涉及一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置。
背景技术
现在的氮化硅工程陶瓷材料一般通过气氛回转炉进行加热和输送的,气氛回转炉的驱动电机一般设置在一端,转动受力不均匀;滚圈结构直接与气氛回转炉焊接,在转动时焊接点受力较大容易导致松焊,且转动过程中滚圈结构和对应的支撑滚轮上都缺少限位装置,装置转动时可能会出现不稳定的现象;且传动装置缺少防护,而生产环境中的粉尘之类的容易掉落在传动装置上,导致转动卡涩,影响操作。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种稳定安全受力均匀的氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置。
为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案,本实用新型提供了一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,包括底板,以及设置在底板上的转动支撑装置和驱动装置,所述转动支撑装置有两组,分别设置在气氛炉本体的两端;所述转动支撑装置包括套装在气氛炉本体上的滚圈结构以及与滚圈结构相配合的设置在气氛炉本体前后的两个支撑滚轮,所述滚圈结构与气氛炉本体上沿轴向平行设置的若干间隔相等的凸条固定连接,所述支撑滚轮固定在其两侧的轴承座中;所述驱动装置包括电机,与电机输出端连接的小齿轮,以及与小齿轮啮合的大齿圈,所述大齿圈套装在气氛炉本体的中间部位,所述大齿圈上螺接有若干均匀分布的支撑板,所述支撑板与气氛炉本体固定连接,所述小齿轮固定在其两侧的轴承座中。
进一步地,所述小齿轮与所述大齿圈上安装有防护罩,所述防护罩采用螺栓连接固定在底板;所述防护罩由前防护罩和后防护罩组成,所述前防护罩与后防护罩之间可拆卸的连接。
进一步地,所述凸条上在滚圈结构的左右两侧分别交替设置有限位块,所述限位块与凸条之间焊接固定。
进一步地,所述支撑板倾斜设置,所述支撑板与气氛炉本体的侧面之间的夹角在40度到80度之间。
进一步地,所述滚圈结构的左右两侧分别设置有限位滚轮,所述限位滚轮与所述滚圈结构垂直设置,并与所述滚圈结构抵接,所述限位滚轮通过轴承与其中心部位的固定轴连接,所述固定轴与所述底板固定连接。
进一步地,所述电机与所述小齿轮之间设置有减速器。
进一步地,所述前防护罩上设置有检修门。
本实用新型的有益效果:1、本实用新型将转动支撑装置设置在气氛炉本体的两端,驱动装置设置在中间,使装置驱动力更加均匀;2、本实用新型的气氛炉本体上焊接有沿轴向平行设置的间隔相等的若干凸条,所述滚圈结构焊接固定在凸条上,因此支撑滚轮对滚圈结构的压力可以均匀分布在凸条上,减少了接触点的压力;3、本实用新型在凸条上滚圈结构的左右两侧交替设置了限位块,可以防止滚圈结构轴向受力发生脱焊现象;4、本实用新型在支撑滚轮的左右两侧设置限位滚轮,可以保证支撑滚轮与滚圈结构的稳定转动支撑,防止两者之间发生偏移现象;5、本实用新型的小齿轮和大齿圈上设置有防护罩,可以防止粉尘落入齿轮组上,且防护罩上设置有检修门,便于对齿轮进行后期维护。
附图说明
图1:本实用新型的主视图;
图2:本实用新型A-A向结构示意图;
图3:本实用新型B-B向结构示意图;
附图标记:1-气氛炉本体;2-防护罩;21-后防护罩;22-前防护罩;3-大齿圈;4-限位块;5-滚圈结构;6-凸条;7-限位滚轮;8-支撑滚轮;9-支撑板;10-电机;11-减速器;12-小齿轮;13-检修门;14-轴承座;15-底板;16-固定轴。
具体实施方式
以下将结合实施例附图与对本实用新型的技术方案进行详细的说明,如附图1-3所述,本实用新型的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,包括底板15,以及设置在底板15上的转动支撑装置和驱动装置,所述转动支撑装置有两组,分别设置在气氛炉本体1的两端;所述转动支撑装置包括套装在气氛炉本体1上的滚圈结构5以及与滚圈结构5相配合的设置在气氛炉本体1前后的两个支撑滚轮8,所述滚圈结构5与气氛炉本体1上沿轴向平行设置的若干间隔相等的凸条6固定连接,所述凸条6上、在滚圈结构5的左右两侧分别交替设置有限位块4,所述限位块4与凸条6之间焊接固定。所述支撑滚轮8固定在其两侧的轴承座14中;所述滚圈结构5的左右两侧分别设置有限位滚轮7,所述限位滚轮7与所述滚圈结构5垂直设置,并与所述滚圈结构5抵接,所述限位滚轮7通过轴承与其中心部位的固定轴16连接,所述固定轴16与所述底板1固定连接。
所述驱动装置包括电机10,与电机10输出端连接的小齿轮12,以及与小齿轮12啮合的大齿圈3,所述电机10与所述小齿轮12之间设置有减速器11。所述大齿圈3套装在气氛炉本体1的中间部位,所述大齿圈3上螺接有若干均匀分布的支撑板9,所述支撑板9倾斜设置,所述支撑板9与气氛炉本体1的侧面之间的夹角在40度到80度之间。所述支撑板9与气氛炉本体1固定连接,所述小齿轮12固定在其两侧的轴承座14中。
所述小齿轮12与所述大齿圈3上安装有防护罩2,所述防护罩2采用螺栓连接固定在底板15;所述防护罩2由前防护罩22和后防护罩21拼接组成,所述前防护罩22与后防护罩21之间可利用螺栓,卡扣等常用的可拆卸方式进行连接。
所述前防护罩22上设置有检修门13,设置检修门方便对齿轮进行后期维护,如注油等操作。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,包括底板(15),以及设置在底板(15)上的转动支撑装置和驱动装置,其特征在于:所述转动支撑装置有两组,分别设置在气氛炉本体(1)的两端;所述转动支撑装置包括套装在气氛炉本体(1)上的滚圈结构(5)以及与滚圈结构(5)相配合的设置在气氛炉本体(1)前后的两个支撑滚轮(8),所述滚圈结构(5)与气氛炉本体(1)上沿轴向平行设置的若干间隔相等的凸条(6)固定连接,所述支撑滚轮(8)固定在其两侧的轴承座(14)中;所述驱动装置包括电机(10),与电机(10)输出端连接的小齿轮(12),以及与小齿轮(12)啮合的大齿圈(3),所述大齿圈(3)套装在气氛炉本体(1)的中间部位,所述大齿圈(3)上螺接有若干均匀分布的支撑板(9),所述支撑板(9)与气氛炉本体(1)固定连接,所述小齿轮(12)固定在其两侧的轴承座(14)中。
2.如权利要求1所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述小齿轮(12)与所述大齿圈(3)上安装有防护罩(2),所述防护罩(2)采用螺栓连接固定在底板(15);所述防护罩(2)由前防护罩(22)和后防护罩(21)拼接组成,所述前防护罩(22)与后防护罩(21)之间可拆卸的连接。
3.如权利要求1所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述凸条(6)上、在滚圈结构(5)的左右两侧分别交替设置有限位块(4),所述限位块(4)与凸条(6)之间焊接固定。
4.如权利要求1所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述支撑板(9)倾斜设置,所述支撑板(9)与气氛炉本体(1)的侧面之间的夹角在40度到80度之间。
5.如权利要求1所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述滚圈结构(5)的左右两侧分别设置有限位滚轮(7),所述限位滚轮(7)与所述滚圈结构(5)垂直设置,并与所述滚圈结构(5)抵接,所述限位滚轮(7)通过轴承与其中心部位的固定轴(16)连接,所述固定轴(16)与所述底板(15)固定连接。
6.如权利要求1所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述电机(10)与所述小齿轮(12)之间设置有减速器(11)。
7.如权利要求2所述的一种氮化硅工程陶瓷生产气氛炉回转装置,其特征在于:所述前防护罩(22)上设置有检修门(13)。
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