CN212794464U - 一种抛光垫 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种抛光垫，本实用新型涉及抛光垫技术领域，包括抛光垫本体，所述抛光垫本体的顶部开设有凹槽，所述抛光垫本体的外壁安装有安装块，且安装块的一端顶部安装有凸块，所述安装块的一侧安装有遮挡组件，所述遮挡组件包括外挡圈，且外挡圈的顶部开设有排污槽，且排污槽的底部一侧开设有排污孔，所述抛光垫本体的顶部靠近凹槽的一侧开设有圆孔，且圆孔呈矩形阵列分布在抛光垫本体的顶部，本实用新型通过在抛光垫本体外部安装外挡圈，便于将飞溅出来的研磨液集中回收，再对研磨液进行回收处理，通过在抛光垫本体的顶部开设有圆孔，保证研磨效果，解决了研磨液流失快的问题。

Description

一种抛光垫

技术领域

本实用新型属于抛光垫技术领域，具体涉及一种抛光垫。

背景技术

抛光垫是化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料，按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫，按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫，按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型，抛光垫的设计制造以沟槽纹路为其关键，沟槽纹路的作用主要包括承载研磨液、传输研磨副产品和研磨碎片以及作为散发热量的通道，现有的抛光垫在使用时，仍存在不足之处，研磨头在抛光垫上转动，研磨液易飞溅到外部，且研磨头高速转动情况下，研磨液流失快，需要频繁添加研磨液。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光垫，以解决上述背景技术中提出的研磨液易飞溅到外部，且研磨液流失快的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种抛光垫，包括抛光垫本体，所述抛光垫本体的顶部开设有凹槽，所述抛光垫本体的外壁安装有安装块，且安装块的一端顶部安装有凸块，所述安装块的一侧安装有遮挡组件，所述遮挡组件包括外挡圈，且外挡圈的顶部开设有排污槽，且排污槽的底部一侧开设有排污孔，所述排污槽的底部对称开设有两个安装孔。

优选的，所述抛光垫本体的顶部靠近凹槽的一侧开设有圆孔，所述圆孔至少设置有十个，且圆孔呈矩形阵列分布在抛光垫本体的顶部。

优选的，所述安装孔为圆弧形结构，所述凸块为圆弧形结构，所述凸块卡合在安装孔内。

优选的，所述抛光垫本体的底部设置有割痕，所述割痕为圆形结构。

优选的，所述外挡圈的内径与抛光垫本体的外径相同，所述外挡圈的高度大于抛光垫本体的高度。

优选的，所述圆孔的深度小于凹槽的深度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型通过在抛光垫本体外部安装外挡圈，有利于遮挡飞溅出来的研磨液，保证研磨液不会污染工作台，便于将飞溅出来的研磨液集中回收，再对研磨液进行回收处理，不会浪费研磨液。

（2）本实用新型通过在抛光垫本体的顶部开设有圆孔，研磨液在抛光垫上流动的过程中，会流入圆孔内，保证了研磨液不会大量的流动至抛光垫的外部，有利于提高研磨液的研磨效率，保证研磨效果，解决了研磨液流失快的问题。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型抛光垫本体的结构示意图；

图3为本实用新型抛光垫本体的后视图；

图4为本实用新型安装块的侧视图；

图5为本实用新型外挡圈的后视图；

图中：1-外挡圈；2-凸块；3-排污槽；4-排污孔；5-凹槽；6-抛光垫本体；7-圆孔；8-安装块；9-割痕；10-安装孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-图5所示，本实用新型提供如下技术方案：一种抛光垫，包括抛光垫本体6，抛光垫本体6的顶部开设有凹槽5，抛光垫本体6的外壁安装有安装块8，且安装块8的一端顶部安装有凸块2，安装块8的一侧安装有遮挡组件，遮挡组件包括外挡圈1，且外挡圈1的顶部开设有排污槽3，且排污槽3的底部一侧开设有排污孔4，排污槽3的底部对称开设有两个安装孔10，抛光垫在使用时，抛光垫能把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域，将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果，维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行，保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌。

进一步的，抛光垫本体6的顶部靠近凹槽5的一侧开设有圆孔7，附着在研磨头底部的研磨液跟随研磨头转动，在离心力的作用下，研磨液被甩出，经过圆孔17的时候，研磨液落入圆孔17内，不会直接被甩出至地面，圆孔7至少设置有十个，且圆孔7呈矩形阵列分布在抛光垫本体6的顶部，通过机器在抛光垫本体6的顶部切割出凹槽5，凹槽5将抛光垫本体6的顶部分隔为多个矩形网格，研磨液在凹槽5上流动，有利于研磨液在抛光垫本体6顶部均匀分布，从而提高抛光加工效果。

进一步的，安装孔10为圆弧形结构，凸块2为圆弧形结构，凸块2卡合在安装孔10内。

进一步的，抛光垫本体6的底部设置有割痕9，割痕9为圆形结构，根据抛光机的工作台大小，使用者按照割痕9进行裁切，可以将抛光垫本体6裁切成不同直径的抛光垫，便于将抛光垫安装在工作台上。

进一步的，外挡圈1的内径与抛光垫本体6的外径相同，外挡圈1的高度大于抛光垫本体6的高度。

进一步的，圆孔7的深度小于凹槽5的深度。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种抛光垫，包括抛光垫本体（6），其特征在于：所述抛光垫本体（6）的顶部开设有凹槽（5），所述抛光垫本体（6）的外壁安装有安装块（8），且安装块（8）的一端顶部安装有凸块（2），所述安装块（8）的一侧安装有遮挡组件，所述遮挡组件包括外挡圈（1），且外挡圈（1）的顶部开设有排污槽（3），且排污槽（3）的底部一侧开设有排污孔（4），所述排污槽（3）的底部对称开设有两个安装孔（10）。

2.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：所述抛光垫本体（6）的顶部靠近凹槽（5）的一侧开设有圆孔（7），所述圆孔（7）至少设置有十个，且圆孔（7）呈矩形阵列分布在抛光垫本体（6）的顶部。

3.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：所述安装孔（10）为圆弧形结构，所述凸块（2）为圆弧形结构，所述凸块（2）卡合在安装孔（10）内。

4.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：所述抛光垫本体（6）的底部设置有割痕（9），所述割痕（9）为圆形结构。

5.根据权利要求1所述的一种抛光垫，其特征在于：所述外挡圈（1）的内径与抛光垫本体（6）的外径相同，所述外挡圈（1）的高度大于抛光垫本体（6）的高度。

6.根据权利要求2所述的一种抛光垫，其特征在于：所述圆孔（7）的深度小于凹槽（5）的深度。

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