CN212783372U - 一种全新的离子源定位系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种全新的离子源定位系统，包括基片腔室（1）和离子源腔室（2），基片腔室（1）和离子源腔室（2）为可拆卸结构，其特征在于：所述离子源腔室（2）底部设有移动定位机构（4），所述移动定位机构（4）包括移动部和固定部，所述移动部与所述离子源腔室（2）连接并且能够在所述固定部上通过滑动的方式做直线运动，从而实现所述基片腔室（1）和所述离子源腔室（2）的拆卸分离和定位连接。本实用新型通过滑块结构对离子源腔室进行定位的，确保离子源腔室水平移动和定位精准。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种全新的离子源定位系统。
背景技术
现有技术采用的是万向球形滚轮的形式来移动装有靶材的装置，由于更换靶材的时候需要准确定位，使用万向球形滚轮对于定位准确有较高的难度，并且万向球形滚轮对于地面的平整度有较高的要求，此外万向球形滚轮较为不可控对于离子源准确定位有较大的难度，且万向球形滚轮对地面的压力较大。
因此，市场需要一种能平稳移动，而且能准确定位，有较好的水平度保持度，并且轻松方便和安全的定位系统。
如图1-图3所示，在离子源腔室2下方通过万向球形滚轮23实现其自身的移动定位，由于万向球形滚轮23移动和定位存在缺陷，导致离子源腔室2与基片腔室1进行定位有较大的难度。
实用新型内容
本实用新型设计了一种全新的离子源定位系统，其解决的技术问题是现有技术中采用万向球形滚轮的形式来移动装有靶材，存在定位难度大，地面平整度要求高以及对万向球形滚轮质量要求高等缺陷。
为了解决上述存在的技术问题，本实用新型采用了以下方案：
一种全新的离子源定位系统，包括基片腔室（1）和离子源腔室（2），基片腔室（1）和离子源腔室（2）为可拆卸结构，其特征在于：所述离子源腔室（2）底部设有移动定位机构（4），所述移动定位机构（4）包括移动部和固定部，所述移动部与所述离子源腔室（2）连接并且能够在所述固定部上通过滑动的方式做直线运动，从而实现所述基片腔室（1）和所述离子源腔室（2）的拆卸分离和定位连接。
优选地，所述移动定位机构（4）中的移动部和固定部分别为滑块（42）和导轨（43）；所述导轨（43）一端设有起始块（44），所述滑块（42）触碰所述起始块（44）时表明所述离子源腔室（2）移动至安装位置。
优选地，所述导轨（43）另一端设有终止块（45），所述滑块（42）触碰到所述终止块（45）时表明所述离子源腔室（2）移动至更换靶材（24）的位置。
优选地，所述导轨（43）安装在底座（47）上，所述底座（47）两端分别安装一端盖板（46）。
优选地，所述滑块（42）与所述离子源腔室（2）之间通过气缸（41）连接，所述气缸（41）能够抬升或降低所述离子源腔室（2）的垂直高度。
优选地，所述滑块（42）与水平气缸的气缸杆连接，水平气缸驱动所述滑块（42）沿着所述导轨（43）水平移动。
优选地，所述滑块（42）设有螺纹孔，所述螺纹孔与螺杆配合，电机驱动所述螺杆旋转从而使得所述滑块（42）水平移动。
优选地，所述基片腔室（1）设有基片腔室法兰（12），所述离子源腔室（2）设有离子源腔室法兰（22），两个分离通过密封圈（3）进行密封连接。
优选地，所述基片腔室（1）内设有基片（11）。
优选地，所述离子源腔室（2）内设有离子发生器和靶材（24），所述靶材（24）安装在靶材承载块（21）上。
该全新的离子源定位系统具有以下有益效果：
（1）本实用新型通过滑块结构对离子源腔室进行定位的，确保离子源腔室水平移动和定位精准。
（2）本实用新型利用起始块和终止块准确的将离子源腔室移动至指定位置，无需担心离子源是否移动，位移是否过多。
（3）本实用新型结合气缸的抬升作用实现对离子源腔室的准确定位并且有很好的水平保持度，使用起来平稳，轻松方便且安全。
（4）本实用新型的滑块可以通过气缸或电机驱动，使得滑块的位移距离更加精准可控，为精准定位安装提供了保证，并且也实现了整个定位系统的自动化控制。
附图说明
图1：现有离子源定位系统的部件连接示意图；
图2A：图1中的基片腔室与离子源腔室分离示意图I；
图2B：图1中的基片腔室与离子源腔室分离示意图II；
图3：图1中的离子源腔室底部移动机构示意图；
图4：本实用新型离子源定位系统的部件连接示意图；
图5：本实用新型中的滑动机构结构示意图；
图6A：本实用新型基片腔室与离子源腔室分离示意图I；
图6B：本实用新型基片腔室与离子源腔室分离示意图II；
图7A：本实用新型基片腔室与离子源腔室安装示意图I；
图7B：本实用新型基片腔室与离子源腔室安装示意图II。
附图标记说明：
1—基片腔室；11—基片；12—基片腔室法兰；2—离子源腔室；21—靶材承载块；22—离子源腔室法兰；23—万向球形滚轮；24—靶材；3—密封圈； 4—定位机构；41—气缸；42—滑块；43—导轨；44—起始块；45—终止块；46—端盖板；47—底座。
具体实施方式
下面结合图4至图7B，对本实用新型做进一步说明：
一种全新的离子源定位系统，包括基片腔室1和离子源腔室2，基片腔室1和离子源腔室2为可拆卸结构，离子源腔室2底部设有移动定位机构4，移动定位机构4包括移动部和固定部，移动部与离子源腔室2连接并且能够在固定部上通过滑动的方式做直线运动，从而实现基片腔室1和离子源腔室2的拆卸分离和定位连接。
移动定位机构4中的移动部和固定部分别为滑块42和导轨43；滑块42设有与导轨43配合的卡槽使得滑块42沿着导轨43延伸方向移动，或者，导轨43上设有与滑块42配合的卡槽使得滑块42沿着导轨43延伸方向移动。导轨43的两个端部分别设有起始块44和终止块45，起始块44和终止块45共同限定滑块42移动范围并且确保滑块42移动到位。滑块42触碰起始块44时表明离子源腔室2移动至安装位置，滑块42触碰到终止块45时表明离子源腔室2移动至更换靶材24的位置。
导轨43安装在底座47上，底座47两端分别安装一端盖板46。
滑块42与离子源腔室2之间通过气缸41连接，气缸41能够抬升或降低离子源腔室2的垂直高度。
滑块42可以实现自动移动，其具有两种驱动结构：
第一种是：滑块42与水平气缸的气缸杆连接，水平气缸驱动滑块42沿着导轨43水平移动。
第二种是：滑块42设有螺纹孔，螺纹孔与螺杆配合，电机驱动螺杆旋转从而使得滑块42水平移动。
基片腔室1设有基片腔室法兰12，离子源腔室2设有离子源腔室法兰22，两个分离通过密封圈3进行密封连接。基片腔室1内设有基片11。离子源腔室2内设有离子发生器和靶材24，靶材24安装在靶材承载块21上。
本实用新型工作及安装原理如下：
靶材24在使用的过程中会不断消耗，故需要不定期的更换靶材24，当靶材24需要更换的时候只需要将基片腔室法兰12与离子源腔室法兰22的连接断掉，利用移动定位机构4将离子源腔室2移动至终止块45部分，待靶材24更换完毕，可将滑块退回至起始块44位置（起始块44和终止块45的作用就是为此离子源定位系统提供准确的定位）气缸41抬起离子源腔室2部分，将基片腔室法兰12与离子源腔室法兰22重新连接，这样就完成了离子源腔室2和基片腔室1的定位。此定位系统的安装方式为：首先将四个移动定位机构4与离子源腔室2连接，离子源腔室2内部装有靶材承载块21以及靶材24，将离子源腔室2与离子源腔室法兰22连接，离子源腔室法兰22与基片腔室法兰12连接，离子源腔室法兰22与基片腔室法兰12中间装有o型密封圈3，基片腔室法兰12连接基片腔室1，至此安装完成。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性的描述，显然本实用新型的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围内。
Claims (10)
1.一种全新的离子源定位系统，包括基片腔室（1）和离子源腔室（2），基片腔室（1）和离子源腔室（2）为可拆卸结构，其特征在于：所述离子源腔室（2）底部设有移动定位机构（4），所述移动定位机构（4）包括移动部和固定部，所述移动部与所述离子源腔室（2）连接并且能够在所述固定部上通过滑动的方式做直线运动，从而实现所述基片腔室（1）和所述离子源腔室（2）的拆卸分离和定位连接。
2.根据权利要求1所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述移动定位机构（4）中的移动部和固定部分别为滑块（42）和导轨（43）；所述导轨（43）一端设有起始块（44），所述滑块（42）触碰所述起始块（44）时表明所述离子源腔室（2）移动至安装位置。
3.根据权利要求2所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述导轨（43）另一端设有终止块（45），所述滑块（42）触碰到所述终止块（45）时表明所述离子源腔室（2）移动至更换靶材（24）的位置。
4.根据权利要求3所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述导轨（43）安装在底座（47）上，所述底座（47）两端分别安装一端盖板（46）。
5.根据权利要求4所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述滑块（42）与所述离子源腔室（2）之间通过气缸（41）连接，所述气缸（41）能够抬升或降低所述离子源腔室（2）的垂直高度。
6.根据权利要求5所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述滑块（42）与水平气缸的气缸杆连接，水平气缸驱动所述滑块（42）沿着所述导轨（43）水平移动。
7.根据权利要求5所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述滑块（42）设有螺纹孔，所述螺纹孔与螺杆配合，电机驱动所述螺杆旋转从而使得所述滑块（42）水平移动。
8.根据权利要求5所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述基片腔室（1）设有基片腔室法兰（12），所述离子源腔室（2）设有离子源腔室法兰（22），两个分离通过密封圈（3）进行密封连接。
9.根据权利要求8所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述基片腔室（1）内设有基片（11）。
10.根据权利要求9所述的全新的离子源定位系统，其特征在于：所述离子源腔室（2）内设有离子发生器和靶材（24），所述靶材（24）安装在靶材承载块（21）上。
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| CN202021895454.7U CN212783372U (zh) | 2020-09-03 | 2020-09-03 | 一种全新的离子源定位系统 |
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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| CN202021895454.7U Active CN212783372U (zh) | 2020-09-03 | 2020-09-03 | 一种全新的离子源定位系统 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-09-03 CN CN202021895454.7U patent/CN212783372U/zh active Active
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