CN212633240U - 一种半导体高洁净度涂层再生设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种半导体高洁净度涂层再生设备，涉及到半导体技术领域。包括支撑板，所述支撑板的中心设置有圆形通孔，所述圆形通孔内部圆形支撑板，所述圆形支撑板的顶端设置有电机，所述电机的外侧且位于所述圆形支撑板的顶端设置有支撑钢板，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板的中心。有益效果：利用电机带动工作台对半导体进行涂布操作，使半导体的涂布更加均匀，增强了半导体涂布再生的可能性，利用减震装置，缓冲了来自涂层设备外部的震动，使设备的涂层更加均匀，利用水平装置对设备进行水平调整，防止在涂层的过程中因设备发生偏斜而使设备涂布不均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域，具体来说，涉及一种半导体高洁净度涂层再生设备。
背景技术
为了生产和生活的需要，需要在半导体的表面涂布一些金属涂层，但是有些金属涂层易挥发，并且有些金属涂层由于长时间的磨损会将半导体的表面一些金属涂层摩擦掉，这些被摩擦掉的半导体会影响其正常使用，所以需要给半导体涂层再生，以保证半导体能够正常工作。
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
实用新型内容
针对相关技术中的问题，本实用新型提出一种半导体高洁净度涂层再生设备，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种半导体高洁净度涂层再生设备，包括支撑板，所述支撑板的中心设置有圆形通孔，所述圆形通孔内部圆形支撑板，所述圆形支撑板的顶端设置有电机，所述电机的外侧且位于所述圆形支撑板的顶端设置有支撑钢板，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板的中心，所述电机的输出轴顶端设置有圆形空腔，所述圆形空腔的顶端设置有圆片台，所述圆片台的顶端表面设置有圆形小孔，所述圆形空腔底端一侧设置有抽气泵，所述抽气泵的抽气管穿过所述圆形空腔的底端钢板并延伸至所述圆形空腔的内部，所述圆形支撑板的底端设置有支撑柱，所述支撑柱的底端设置有支撑圆板，所述支撑圆板的顶端中心设置有水平气泡，所述支撑圆板的底端分别设置有调节旋钮一、调节旋钮二、调节旋钮三，所述调节旋钮一、调节旋钮二、调节旋钮三的底端套设有螺杆一、螺杆二、螺杆三。
进一步，所述支撑圆板的底端的底端设置有减震弹簧，所述减震弹簧的底端设置有支撑方板。
进一步，所述支撑方板的底端设置有中承板，所述支撑板的底端四角设置有支撑腿。
进一步，所述支撑板的顶端侧面设置有竖直钢板，所述竖直钢板的顶端设置有横撑板，所述横撑板的顶端设置有出气孔所述出气孔和的顶端设置有电机二，所述横撑板的底端设置有除尘斗，所述除尘斗的内部设置有风扇，所述风扇与所述电机二的输出轴连接。
本实用新型的有益效果为：将半导体晶圆片放置到圆片台的顶端，启动抽气泵，抽气泵将圆形空腔内部的空气抽出，抽出后会在圆形空腔内部形成负压，将圆片与圆片台贴合更加紧密，在没有启动电机之前调节调节旋钮一、调节旋钮二、调节旋钮三利用水平气泡观察涂层设备是否处于水平状态，启动电机后，电机会带动晶圆片进行转动，再在电机的圆片台上的圆片表面滴下涂布液，旋转电机后均匀涂布在半导体的表面，利用电机带动工作台对半导体进行涂布操作，使半导体的涂布更加均匀，增强了半导体涂布再生的可能性，利用减震装置，缓冲了来自涂层设备外部的震动，使设备的涂层更加均匀，利用水平装置对设备进行水平调整，防止在涂层的过程中因设备发生偏斜而使设备涂布不均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本实用新型实施例的立体结构示意图；
图2是根据本实用新型实施例的局部爆炸图；
图3是根据本实用新型实施例的涂层装置结构爆炸图。
图中：
1、支撑板；101、风扇；102、横撑板；103、电机二；104、出气孔；105、除尘斗；106、竖直钢板；107、中承板；108、支撑腿；109、支撑方板；110、螺杆三；111、调节旋钮三；112、水平气泡；113、电机；114、抽气泵；115、圆形小孔；116、圆片台；117、圆形空腔；118、支撑钢板；119、圆形支撑板；120、支撑柱；121、调节旋钮一；122、调节旋钮二；123、螺杆一；124、螺杆二；125、圆形通孔；126、支撑圆板。127、支撑方板；
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
根据本实用新型的实施例，提供了一种半导体高洁净度涂层再生设备。
如图1-3所示，根据本实用新型实施例的半导体高洁净度涂层再生设备，包括支撑板1，其特征在于，所述支撑板1的中心设置有圆形通孔125，所述圆形通孔内部圆形支撑板119，所述圆形支撑板119的顶端设置有电机113，所述电机113的外侧且位于所述圆形支撑板119的顶端设置有支撑钢板118，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板118的中心，所述电机113的输出轴顶端设置有圆形空腔117，所述圆形空腔117的顶端设置有圆片台116，所述圆片台116的顶端表面设置有圆形小孔115，所述圆形空腔117底端一侧设置有抽气泵114，所述抽气泵114的抽气管穿过所述圆形空腔117的底端钢板并延伸至所述圆形空腔117的内部，所述圆形支撑板119的底端设置有支撑柱120，所述支撑柱120的底端设置有支撑圆板126，所述支撑圆板126的顶端中心设置有水平气泡112，所述支撑圆板126的底端分别设置有调节旋钮一121、调节旋钮二122、调节旋钮三111，所述调节旋钮一121、调节旋钮二122、调节旋钮三111的底端套设有螺杆一123、螺杆二124、螺杆三110。
在一个实施例中，对于上述支撑圆板126来说，所述支撑圆板126的底端的底端设置有减震弹簧109，所述减震弹簧109的底端设置有支撑方板109，从而有利于缓冲来自电机113所产生的震动，进而防止了因震动而使半导体土层不均匀。
在一个实施例中，对于上述支撑方板109来说，所述支撑方板109的底端设置有中承板107，从而有利于对支撑方板109进行支撑，所述支撑板1的底端四角设置有支撑腿108，从而有利于对涂层设备进行支撑，进而有利于提高设备结构的完整性。
在一个实施例中，对于上述支撑板1来说，所述支撑板1的顶端侧面设置有竖直钢板106，所述竖直钢板106的顶端设置有横撑板102，所述横撑板102的顶端设置有出气孔104所述出气孔和104的顶端设置有电机二103，所述横撑板102的底端设置有除尘斗105，所述除尘斗105的内部设置有风扇101，所述风扇101与所述电机二103的输出轴连接，从而有利于将涂层周围的杂质进行抽吸，进而防止了杂质污染晶圆片，保证了晶圆片的洁净。
综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，将半导体晶圆片放置到圆片台116的顶端，启动抽气泵114，抽气泵114将圆形空腔117内部的空气抽出，抽出后会在圆形空腔内部形成负压，将圆片与圆片台贴合更加紧密，在没有启动电机之前调节调节旋钮一121、调节旋钮二122、调节旋钮三111利用水平气泡观察涂层设备是否处于水平状态，启动电机后，电机会带动晶圆片进行转动，再在电机的圆片台上的圆片表面滴下涂布液，旋转电机后均匀涂布在半导体的表面，其中，
有益效果：1、利用电机带动工作台对半导体进行涂布操作，使半导体的涂布更加均匀，增强了半导体涂布再生的可能性。
2、利用减震装置，缓冲了来自涂层设备外部的震动，使设备的涂层更加均匀。
3、利用水平装置对设备进行水平调整，防止在涂层的过程中因设备发生偏斜而使设备涂布不均匀。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种半导体高洁净度涂层再生设备，包括：支撑板(1)，其特征在于，所述支撑板(1)的中心设置有圆形通孔(125)，所述圆形通孔内部圆形支撑板(119)，所述圆形支撑板(119)的顶端设置有电机(113)，所述电机(113)的外侧且位于所述圆形支撑板(119)的顶端设置有支撑钢板(118)，所述电机的输出轴穿过所述支撑钢板(118)的中心，所述电机(113)的输出轴顶端设置有圆形空腔(117)，所述圆形空腔(117)的顶端设置有圆片台(116)，所述圆片台(116)的顶端表面设置有圆形小孔(115)，所述圆形空腔(117)底端一侧设置有抽气泵(114)，所述抽气泵(114)的抽气管穿过所述圆形空腔(117)的底端钢板并延伸至所述圆形空腔(117)的内部，所述圆形支撑板(119)的底端设置有支撑柱(120)，所述支撑柱(120)的底端设置有支撑圆板(126)，所述支撑圆板(126)的顶端中心设置有水平气泡(112)，所述支撑圆板(126)的底端分别设置有调节旋钮一(121)、调节旋钮二(122)、调节旋钮三(111)，所述调节旋钮一(121)、调节旋钮二(122)、调节旋钮三(111)的底端套设有螺杆一(123)、螺杆二(124)、螺杆三(110)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑圆板(126)的底端设置有减震弹簧(109)，所述减震弹簧(109)的底端设置有支撑方板(127)。
3.根据权利要求2所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑方板(127)的底端设置有中承板(107)，所述支撑板(1)的底端四角设置有支撑腿(108)。
4.根据权利要求1所述的一种半导体高洁净度涂层再生设备，其特征在于，所述支撑板(1)的顶端侧面设置有竖直钢板(106)，所述竖直钢板(106)的顶端设置有横撑板(102)，所述横撑板(102)的顶端设置有出气孔(104)所述出气孔(104)的顶端设置有电机二(103)，所述横撑板(102)的底端设置有除尘斗(105)，所述除尘斗(105)的内部设置有风扇(101)，所述风扇(101)与所述电机二(103)的输出轴连接。
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| CN212633240U true CN212633240U (zh) | 2021-03-02 |
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| CN201922106137.6U Active CN212633240U (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 一种半导体高洁净度涂层再生设备 |
Country Status (1)
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2019
- 2019-11-29 CN CN201922106137.6U patent/CN212633240U/zh active Active
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Inventor after: Xin Changlin Inventor after: Kan Yunfeng Inventor after: Liu Honggang Inventor after: Zhao Feng Inventor before: Xin Changlin Inventor before: Kan Zongfeng Inventor before: Liu Honggang Inventor before: Zhao Feng |
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| CP02 | Change in the address of a patent holder |