CN212625222U - 一种芯包含浸装置 - Google Patents

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刘军超
廖理
袁湘龙
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Abstract

本实用新型公开了一种芯包含浸装置,其包括:含浸主槽;含浸次槽,其围设在含浸主槽的侧边,用于当芯包浸入到含浸液的浸入过程中接收从含浸主槽侧边溢出的含浸液;移动组件,其用于驱动含浸主槽和/或芯包进行相对移动,以实现浸入动作。本实用新型通过含浸主槽和含浸次槽的组合实新溢流含浸方式,即浸入时芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得含浸液液位恒定于溢出液位,不管芯包的宽度如何变化,也不管同批次含浸的芯包数量如何变化,只需控制芯包的浸入深度即可,不需要根据芯包宽度变化和/或芯包数量变化每次进行频繁试验和长时间验证以获得匹配的含浸参数,极大地简化了因含浸产品变化对应的工艺调整过程及极大地提升工作效率。

Description

一种芯包含浸装置
技术领域
本实用新型涉及储能器件技术领域,尤其涉及一种芯包含浸装置。
背景技术
储能器件芯包的含浸好坏将直接影响到储能器件的一些物理特性方面的参数值。如含浸电解液,其目的是使夹在两层铝箔之间的电解纸充分吸附电解液,使正负极铝箔表面浸满电解液。
为此市场上设计出了自动含浸机及自动含浸方法,如中国实用新型专利申请(公开号:CN102723199A、公开日:2012-10-10)公开了一种电容器芯包的自动含浸方法,其包括以下步骤:将需含浸的电容器的芯包放入到含浸罐中,并使含浸罐密封;打开储液桶,将含浸液体注入到储液桶中;通过真空恒压装置将含浸罐内抽成真空,在抽真空的过程中,同时使得电容器的芯包中的水分和空气被抽出;将含浸液体从储液桶中往真空状态的含浸罐中注入;电容器的芯包浸泡在含浸液体中,含浸罐内的真空状态让含浸液体迅速渗透到需含浸电容器的芯包中,保持含浸罐内的真空状态;使含浸罐内由真空状态瞬间释放为常压,利用大气压的压力让含浸液体渗透到需含浸电容器的芯包中。
又如中国实用新型专利申请(公开号:CN110364362A、公开日:2019-10-22)公开了一种固态电容器含浸方法,包括如下步骤:(1)将素子悬空,干抽真空5~10s,使真空度为负压;(2)使素子下降并浸入含浸液,保压5~20s,真空度为负压,且该真空度等于步骤(1)中的真空度;(3)保留素子在含浸液中,放气至常压状态;(4)以上步骤(1)~(3)为一个循环;执行该循环至少二次,且多个循环时真空含浸的真空度逐步增大;(5)将素子悬空,干抽真空,真空度为负压,且该真空度大于上述任一真空度。
虽然现有技术采用自动含浸机实现了芯包或素子的自动含浸,但是现有的含浸方法及含浸机依然存在以下问题:
1、无论是芯包固定好之后再注入含浸液,还是含浸液注入好之后再将芯包浸入含浸液,都需要通过精准液位感应器控制液位高度,以避免由于液位管控不到位出现液面爬升到芯包顶部导致污染芯包导针致产品不良甚至报废,这就对液位感应器的精度要求较高以及芯包下行行程需要严格控制,操作有误或者液位感应器精度不够或者失常,芯包产品吸收液体不足以抵消产品本体抬升液面的液体,则容易造成液位爬升顶部污染导针的风险,特别是对于轻微污染情况,含浸结束后是无法通过肉眼直接观察的,此种轻微污染的芯包流入后续工序中,会造成整批产品漏电偏高,直接造成整批产品报废;
2、现有自动含浸工艺中,每个含浸工艺的参数仅适用一种芯包高度以及特定的芯包数量,当芯包高度和/或芯包数量变化时,又需要进行频繁试验以及长时间验证以获得新的匹配含浸参数,无形之中额外增加了很多生产成本及延长生产周期,不利于产业化;
3、现有自动含浸机及自动含浸方法均是针对高度较高的芯包产品,至少是高度高于5mm的芯包,若应用于低于5mm的芯包含浸项目,很难实现自动化含浸,主要是因为5mm的芯包高度本身可浸入含浸液的管控位就小,如高于1/3h低于2/3h(h为芯包高度),这对液位感应器的精度要求极高以及操作人员的熟练程度要求也高,稍有不慎极易造成液位爬升到芯包顶部污染导针的情况,因此目前市面上还未有关于高度5mm以下的芯包产品的自动含浸方法及含浸机的报道。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型提供了一种芯包含浸装置。本实用新型通过含浸主槽和含浸次槽的组合实新溢流含浸方式,即浸入过程中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位,即无论芯包浸入深度的深与浅,含浸液的最高液位高度一直处于溢出液位,保持恒定液位,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可,极大地降低了对操作人员专业熟练程度的要求,而且无需高精准液位感应器以控制液位高度,也杜绝了因操作失误或液位感应器精度不够或失常造成含浸液污染导针的问题。
为达到上述目的,本实用新型采用了如下所述的技术方案:
一种芯包含浸装置,其包括:
含浸主槽,其用于承载含浸液便于芯包浸入;
含浸次槽,其围设在所述含浸主槽的侧边,用于当芯包浸入到含浸液的浸入过程中接收从含浸主槽侧边溢出的含浸液,以实现浸入过程中所述含浸主槽中的含浸液一直处于溢出液位;
移动组件,其用于驱动所述含浸主槽和/或芯包进行相对移动,以实现浸入动作。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述含浸主槽经移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽在所述含浸次槽上方上下移动。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述含浸主槽经移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽相对所述含浸次槽上下移动。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述芯包被承载在芯包载具上,所述芯包载具经移动组件设置在所述含浸主槽上方,以通过所述移动组件实现所述芯包载具相对所述含浸主槽上下移动。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述芯包含浸装置包括可开合的容纳腔,用于容纳所述含浸主槽、芯包及含浸次槽于容纳腔中。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述容纳腔连接有压强控制系统,用以实现所述容纳腔的环境压强处于真空或加压状态。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述容纳腔包括相对设置的中空腔体和腔盖。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述腔体设置有承载台,其用于承载芯包载具或含浸主槽。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述含浸次槽底部设置有排液口。
作为本实用新型提供的所述的芯包含浸装置的一种优选实施方式,所述芯包含浸装置还包括加液组件,其用于往所述含浸主槽加入含浸液。
本实用新型具有以下有益效果:
本实用新型通过含浸主槽和含浸次槽的组合实新溢流含浸方式,即浸入过程中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位,即无论芯包浸入深度的深与浅,含浸液的最高液位高度一直处于溢出液位,保持恒定液位,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可,极大地降低了对操作人员专业熟练程度的要求,而且无需高精准液位感应器以控制液位高度,也杜绝了因操作失误或液位感应器精度不够或失常造成含浸液污染导针的问题。
附图说明
图1为本实用新型实施例1芯包含浸装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例1芯包含浸装置的另一结构示意图;
图3为本实用新型实施例1芯包含浸装置的局部分解示意图;
图4为本实用新型实施例1芯包含浸装置的局部剖视示意图。
图中,容纳腔-1、腔体-11、腔盖-12、承载台-13、含浸主槽-2、溢出位-21、含浸次槽-3、排液口31、移动组件-4、驱动机构-41、丝杆-42、滑块-43、滑轨-44、连接杆-45。
具体实施方式
基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
一方面,本实用新型实施例提供了一种芯包含浸方法,其包括以下步骤:将芯包浸入到含浸液到达指定位置,其中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位;完成预设含浸条件,所述芯包移出所述含浸液。
本实用新型采用溢流方式含浸,浸入过程中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位,即无论芯包浸入深度的深与浅,含浸液的最高液位高度一直处于溢出液位,保持恒定液位,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可。
在某些实施例中,所述芯包浸入到含浸液是通过将芯包朝向含浸液移动实现的,即承载含浸液的含浸主槽不移动,承载芯包的芯包载具朝向含浸主槽移动,芯包主动浸入。在某些实施例中,所述芯包浸入到含浸液是通过将含浸液朝向芯包移动实现的,即承载芯包的芯包载具不移动,承载含浸液的含浸主槽朝向芯包移动,芯包被动浸入。在某些实施例中,所述芯包浸入到含浸液是通过将芯包和含浸液相向移动实现的,即承载芯包的芯包载具和承载含浸液的含浸主槽相向移动。
无论采用上述那种移动方式,也不管采用其他移动浸入方式,管控好芯包的浸入深度即可。其中,所述指定位置是指所述芯包可浸入的管控位不低于所述溢出液位。可以理解的是,浸入过程中,含浸液的液位始终不超过管控位,也就是说,杜绝了含浸液爬升到管控位上方进而污染导针的情况。本方法的管控位可以是芯包高度的1/2~2/3,芯包高度5mm以上的优选约高度的2/3,芯包高度5mm以下的优选约高度的1/2,但并不局限于此。具体实现时,可以根据实际情况调整管控位的设置,在此不再详述。
为了提升含浸效果以及缩短含浸时间,所述芯包浸入到含浸液是在真空状态下进行的,即浸入过程是在真空状态下进行的。优选地,在某些实施例中,所述预设的含浸条件可以是常压状态含浸方式,还可以是真空状态含浸方式,如保持真空状态下含浸一段时间即可完成含浸动作;在某些实施例中,所述预设的含浸条件可以是真空常压循环含浸方式,如保持真空状态下含浸一段时间,然后破真空至常压状态含浸一段时间,再真空含浸→常压含浸的循环方式;在另一些实施例中,所述预设的含浸条件可以是真空常压加压循环含浸方式,如保持真空状态下含浸一段时间,然后破真空至常压状态含浸一段时间,再通气加压含浸一段时间,即真空含浸→常压含浸→加压含浸的循环方式。
本实用新型含浸方法主要是针对含有电解质的含浸液,如电解液等。但可以理解的是,所述含浸液还可以是化成液、修复液、添加剂、单体、氧化剂、分散体等等。针对需要管控芯包含浸液位以避免污染导针的非完全浸没式含浸,均可以采用本实用新型的含浸方法。
在本实用新型中,所述芯包优选为储能器件用芯包,其中所述储能器件为电解电容器(包括但不限于固态铝电解电容器、液体铝电解电容器以及固液混合铝电解电容器)、超级电容器或电容式电池(包括但不限于柱状电池)。
本实用新型芯包含浸方法采用溢流方式含浸,浸入过程中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位,即无论芯包浸入深度的深与浅,含浸液的最高液位高度一直处于溢出液位,保持恒定液位,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可;采用本实用新型含浸方法,不管芯包的宽度如何变化,也不管同批次含浸的芯包数量如何变化,只需控制芯包的浸入深度即可,不需要根据芯包宽度变化和/或芯包数量变化每次进行频繁试验和长时间验证以获得匹配的含浸参数,极大地简化了因含浸产品变化对应的工艺调整过程及极大地提升工作效率;采用本实用新型含浸方法,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可,极大地降低了对操作人员专业熟练程度的要求,而且无需高精准液位感应器以控制液位高度,也杜绝了因操作失误或液位感应器精度不够或失常造成含浸液污染导针的问题;每批次的芯包浸入深度均一致,加上含浸条件一致,相比现有技术更能够保证量产整批次的芯包含浸质量的一致性,也提升量产批次的储能器件质量的一致性,避免由于含浸质量不一致造成产品漏电、损耗浮动范围偏大、电性能筛选时不良率偏高,无法满足精密电路的储能使用要求等问题;采用本实用新型含浸方法,不需要通过液位感应器进行液位管控,只需管控芯包的浸入深度即可,容易实现高度5mm以下芯包的自动化含浸,满足小型芯包(如2~5mm高度)的机械自动化含浸需求,填补了行业内没有针对小型化芯包产品的含浸自动化技术的空缺。
另一方面,本实用新型实施例还提供了一种芯包含浸装置,其包括:
含浸主槽,其用于承载含浸液便于芯包浸入;
含浸次槽,其围设在所述含浸主槽的侧边,用于当芯包浸入到含浸液的浸入过程中接收从含浸主槽侧边溢出的含浸液,以实现浸入过程中所述含浸主槽中的含浸液一直处于溢出液位;
移动组件,其用于驱动所述含浸主槽和/或芯包进行相对移动,以实现浸入动作。
在某些实施例中,所述含浸主槽经所述移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽在所述含浸次槽上方上下移动,所述含浸主槽无法进入所述含浸次槽内通过溢流位进行自动加液。在某些实施例中,所述含浸主槽经所述移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽相对所述含浸次槽上下移动,即所述含浸主槽可以进入到所述含浸次槽内,以让所述含浸次槽内的含浸液通过所述含浸主槽的溢流位进行自动溢流加液,结构简单,无需额外增加加液组件,既能实现所述浸入动作,又能实现自动加液动作。在某些实施例中,所述芯包被承载在芯包载具上,所述芯包载具经所述移动组件设置在所述含浸主槽上方,以通过所述移动组件实现所述芯包载具相对所述含浸主槽上下移动。以上这些实施例中,均是单向移动实现浸入动作,即芯包和含浸主槽其中之一通过所述移动组件进行移动。在另一些实施例中,还可以是所述芯包和含浸主槽相向移动,即所述芯包载具和含浸主槽分别通过移动组件实现两者的相向移动。
需要说明的是,在本实用新型中,对于上述的移动组件并没有特别的限制,所述移动组件满足根据行程要求可驱动待移动的部件(芯包载具或含浸主槽)进行线性移动即可,如现有驱动气缸机构、驱动电机机构等等均可以作为移动组件,在此不再详述。
所述芯包含浸装置包括可开合的容纳腔,用于容纳所述含浸主槽、芯包及含浸次槽于容纳腔中。进一步地,所述容纳腔包括相对设置的中空腔体和腔盖,其中所述腔盖可通过开合机构相对所述腔体线性移动或合页式转动,以开合所述容纳腔。值得注意的是,所述腔盖也可以通过手动方式进行开盖和合盖。
所述容纳腔连接有压强控制系统,用以实现所述容纳腔的环境压强处于真空或加压状态。所述压强控制系统可以包括抽真空装置,其包括经管道与所述容纳腔连通的真空泵,以根据需要启动所述真空泵对所述容纳腔进行抽真空使其处于真空状态;还可以包括真空加压装置,其包括分别经管道与所述容纳腔连通的真空泵和加压泵,以根据需要启动所述真空泵对所述容纳腔进行抽真空处于真空状态或启动所述加压泵对所述容纳腔进行通气使其处于加压状态。
进一步地,所述腔体设置有承载台,其用于承载芯包载具或含浸主槽,便于相对固定所述载具或含浸主槽。
进一步地,所述含浸次槽底部设置有排液口,便于定期排出废液。
进一步地,所述芯包含浸装置还包括加液组件,其用于往所述含浸主槽加入含浸液。优选但不限定地,所述加液组件包括加液管和加液泵,所述加液管经所述加液泵连接于储液桶或者含浸次槽,便于通过启动所述加液泵从所述储液桶或含浸次槽中抽取含浸液并经所述加液管输入到所述含浸主槽内。
值得注意的是,每批次所述芯包含浸之前,即浸入所述含浸液之前,所述含浸主槽的含浸液均处于满溢状态(即将溢出),可以理解为,通过所述加液组件往所述含浸主槽加满所述含浸液直至满溢状态,也可以通过所述含浸主槽下行进入所述含浸次槽内,使得所述含浸次槽内的含浸液通过溢流位自动流入所述含浸主槽直至满溢状态。
需要说明的是,本实用新型芯包含浸装置还包括控制系统,其分别与所述移动组件、开合机构、压强控制系统、加液组件电性连接,便于控制各组成部件及各部件的交互。
本实用新型芯包含浸装置通过含浸主槽和含浸次槽的组合实新溢流含浸方式,即浸入过程中,所述芯包浸入部分排开的含浸液自然溢出,使得浸入过程中所述含浸液液位恒定于溢出液位,即无论芯包浸入深度的深与浅,含浸液的最高液位高度一直处于溢出液位,保持恒定液位,实际操作时只需要控制芯包的浸入深度即可,极大地降低了对操作人员专业熟练程度的要求,而且无需高精准液位感应器以控制液位高度,也杜绝了因操作失误或液位感应器精度不够或失常造成含浸液污染导针的问题。采用本实用新型芯包含浸装置进行含浸,可不管芯包的宽度如何变化,也不管同批次含浸的芯包数量如何变化,只需控制芯包的浸入深度即可,不需要根据芯包宽度变化和/或芯包数量变化每次进行频繁试验和长时间验证以获得匹配的含浸参数,极大地简化了因含浸产品变化对应的工艺调整过程及极大地提升工作效率;本实用新型芯包含浸装置可保证每批次的芯包浸入深度均一致,加上含浸条件一致,相比现有技术更能够保证量产整批次的芯包含浸质量的一致性,也提升量产批次的储能器件质量的一致性,避免由于含浸质量不一致造成产品漏电、损耗浮动范围偏大、电性能筛选时不良率偏高,无法满足精密电路的储能使用要求等问题;本实用新型芯包含浸装置不需要通过液位感应器进行液位管控,只需管控芯包的浸入深度即可,容易实现高度5mm以下芯包的自动化含浸,满足小型芯包(如2~5mm高度)的机械自动化含浸需求,填补了行业内没有针对小型化芯包产品的含浸自动化技术的空缺。
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例,而不是全部的实施例。
实施例1
如图1-4所述,其显示了一种芯包含浸装置的结构示意图。所述芯包含浸装置包括:容纳腔1、含浸主槽2、含浸次槽3、移动组件4。其中,所述含浸主槽2设置在所述含浸次槽3内,用于当芯包浸入到所述含浸主槽2的含浸液的浸入过程中接收从含浸主槽2的溢出位(侧边)21溢出的含浸液(溢出路径如图4中的箭头),以实现浸入过程中所述含浸主槽2中的含浸液一直处于溢出液位;所述含浸主槽2与所述移动组件4连接以通过所述移动组件4带动所述含浸主槽2相对所述含浸次槽3上下移动。
所述移动组件4包括驱动机构41、与所述驱动机构41连接的丝杆42、套设在所述丝杆42上的滑块43、与所述滑块43滑动连接的滑轨44,所述滑块43通过连接杆45与所述含浸主槽2连接,具体实现时,所述驱动机构41驱动所述丝杆42转动,带动所述滑块43沿所述滑轨44上下移动,进而带动所述含浸主槽2上下移动。
所述容纳腔1包括相对设置的中空腔体11和腔盖12,其中所述腔盖12可通过开合机构相对所述腔体11合页式转动,以开合所述容纳腔1。所述含浸主槽2及含浸次槽3容纳在所述容纳腔1中,优选地,在所述腔体11内。
所述容纳腔1还连接有压强控制系统(图中未显示),用以实现所述容纳腔1的环境压强处于真空或加压状态。所述压强控制系统包括真空加压装置,其包括分别经管道与所述容纳腔1(所述腔体11和/或腔盖12)连通的真空泵和加压泵,以根据需要启动所述真空泵对所述容纳腔1进行抽真空处于真空状态或启动所述加压泵对所述容纳腔1进行通气使其处于加压状态。
所述腔体11上还设置有承载台13,其用于承载芯包载具(图中未显示),便于相对固定所述载具,以固定所述芯包的位置,即具体浸入过程中,芯包保持静止,所述含浸主槽2朝向所述芯包移动,控制所述含浸主槽2的行程即可控制所述芯包的浸入深度。
所述含浸次槽3底部设置有排液口31,便于定期排出废液。
所述芯包含浸装置还包括加液组件(图中未显示),其用于往所述含浸主槽2加入含浸液。所述加液组件包括加液管和加液泵,所述加液管经所述加液泵连接于含浸次槽3,便于通过启动所述加液泵从所述含浸次槽3中抽取含浸液并经所述加液管输入到所述含浸主槽2内,以保证每批次芯包浸入之前所述含浸主槽2的含浸液处于满溢状态。
所述芯包含浸装置还包括控制系统(图中未显示),其分别与所述驱动机构41、开合机构、真空泵、加压泵及加液泵电性连接,便于控制各组成部件及各部件的交互。
实施例2
基于实施例1,本实施例2与实施例1的不同之处在于:所述移动组件连接于所述芯包载具,以驱动所述芯包载具带动所述芯包朝向所述含浸主槽移动;所述含浸主槽设置在所述承载台上,浸入过程中相对所述芯包静止。
实施例3
基于实施例1,本实施例3与实施例1的不同之处在于:还包括另一移动组件,其连接于所述芯包载具,以驱动所述芯包载具带动所述芯包朝向所述含浸主槽移动,浸入过程中,两个所述移动组件分别带动所述芯包和含浸主槽相向移动。
需要说明的是,实施例1、2、3涉及到的移动组件可以相同,也可以不同。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接或彼此可通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
显然,以上所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例,附图中给出了本申请的较佳实施例,但并不限制本申请的专利范围。本申请可以以许多不同的形式来实现,相反地,提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明,对于本领域的技术人员而言,其依然可以对前述各具体实施方式所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等效替换。凡是利用本申请说明书及附图内容所做的等效结构,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理在本申请专利保护范围之内。

Claims (10)

1.一种芯包含浸装置,其特征在于,其包括:
含浸主槽,其用于承载含浸液便于芯包浸入;
含浸次槽,其围设在所述含浸主槽的侧边,用于当芯包浸入到含浸液的浸入过程中接收从含浸主槽侧边溢出的含浸液,以实现浸入过程中所述含浸主槽中的含浸液一直处于溢出液位;
移动组件,其用于驱动所述含浸主槽和/或芯包进行相对移动,以实现浸入动作。
2.根据权利要求1所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述含浸主槽经移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽在所述含浸次槽上方上下移动。
3.根据权利要求1所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述含浸主槽经移动组件设置在所述含浸次槽内,以通过所述移动组件实现所述含浸主槽相对所述含浸次槽上下移动。
4.根据权利要求1所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述芯包被承载在芯包载具上,所述芯包载具经移动组件设置在所述含浸主槽上方,以通过所述移动组件实现所述芯包载具相对所述含浸主槽上下移动。
5.根据权利要求1至4任一所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述芯包含浸装置包括可开合的容纳腔,用于容纳所述含浸主槽、芯包及含浸次槽于容纳腔中。
6.根据权利要求5所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述容纳腔连接有压强控制系统,用以实现所述容纳腔的环境压强处于真空或加压状态。
7.根据权利要求5所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述容纳腔包括相对设置的中空腔体和腔盖。
8.根据权利要求7所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述腔体设置有承载台,其用于承载芯包载具或含浸主槽。
9.根据权利要求1所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述含浸次槽底部设置有排液口。
10.根据权利要求1所述的芯包含浸装置,其特征在于,所述芯包含浸装置还包括加液组件,其用于往所述含浸主槽加入含浸液。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115692042A (zh) * 2022-11-15 2023-02-03 湖南锦络电子股份有限公司 一种用于钽电容加工的含浸机

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