CN212471048U - 一种陶瓷制备用抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种陶瓷制备用抛光设备。本实用新型包括：底腔；旋转组件；所述旋转组件固定连接于底腔内壁的底部；抛光组件；所述抛光组件固定连接于底腔内壁两侧的顶部；密封机构；所述密封机构设置于底腔的顶部；除尘机构；所述除尘机构固定连接于底腔右侧的底部，所述除尘机构，包括支撑板，所述支撑板的左侧与底腔右侧的底部固定连接。本装置采用的密封机构配合密封可以有效的防止抛光时的灰尘和抛光陶瓷圆筒件倾斜，除尘机构，利用循环水除尘降温，既可以有效的节约资源，又可以很好地除尘降温，抛光组件利用电磁铁的相斥力使得抛光板能够更好的贴合抛光陶瓷圆筒件的表面进行抛光，抛光效果理想，品质优越。

Description

一种陶瓷制备用抛光设备

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制备领域，尤其涉及一种陶瓷制备用抛光设备。

背景技术

陶瓷的抛光设备是到了近代才兴起的新设备，源于人们对于陶瓷美观艺术的提升，渴望陶瓷拥有更好的光洁度，在日常生活中的陶瓷板、陶瓷砖、陶瓷管、陶瓷筒应用广泛，本装置就是应用于陶瓷圆筒件的抛光设备。

现有的抛光设备大多追求高效率，在生产加工的的过程中容易出现各种问题，例如：抛光件破碎，抛光件的抛光效果不理想，以及灰尘污染等问题，对工作环境造成一定的影响。

因此，有必要提供一种陶瓷制备用抛光设备解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种陶瓷制备用抛光设备，解决了灰尘污染的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备，包括：底腔；

旋转组件；所述旋转组件固定连接于底腔内壁的底部；

抛光组件；所述抛光组件固定连接于底腔内壁两侧的顶部；

密封机构；所述密封机构设置于底腔的顶部；

除尘机构；所述除尘机构固定连接于底腔右侧的底部，所述除尘机构，包括支撑板，所述支撑板的左侧与底腔右侧的底部固定连接，所述支撑板的顶部固定连接有水泵；

循环水出口，所述循环水出口设置于底腔底部的右侧；

循环水进口，所述循环水进口设置于底腔正面的顶部；

旋合底扣，所述旋合底扣固定连接于底腔两侧的顶部。

优选的，所述所述水泵的进水口与循环水出口连通，所述水泵的排水口固定连接有排水管道，所述排水管道内部安装有过滤网，所述排水管道的顶部与循环水进口连通。

优选的，所述旋转组件包括防水箱，所述防水箱的底部与底腔内壁的底部固定连接，所述防水箱的底部固定连接有驱动电机，所述驱动电机的输出轴固定连接有输出杆，所述输出杆的顶端贯穿防水箱的顶部且延伸至防水箱外部，所述输出杆的顶端固定连接有旋转底盘，所述旋转底盘的顶部固定连接有定位胶垫。

优选的，所述抛光组件包括两个底板，两个所述底板分别与底腔内壁两侧的顶端固定连接，两个所述底板相对的一侧固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆的另一端固定连接有抛光板，所述伸缩杆的表面且位于底板和抛光板相对的一侧之间套设有复位弹簧，所述底板与抛光板相对的一侧分别固定连接有电磁铁。

优选的，所述密封机构包括顶盖，所述顶盖的底部设置有底腔的顶部，所述顶盖的顶部贯穿有螺纹转杆，所述螺纹转杆的底端贯穿顶盖的顶部且延伸至顶盖的内部。

优选的，所述所述螺纹转杆的底端转动连接有旋转顶盘，所述旋转顶盘的底部固定连接有缓冲垫，所述顶盖两侧的底部固定连接有旋合顶扣。

与相关技术相比较，本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备具有如下有益效果：

本实用新型提供一种陶瓷制备用抛光设备，

本装置采用的密封机构采用的旋合顶扣和旋合底扣配合密封，可以有效的防止抛光时的灰尘，干净卫生，旋转顶盘和旋转底盘配合旋转防止抛光陶瓷圆筒件倾斜。

本装置采用的除尘机构，利用循环水除尘降温，既可以有效的节约资源，又可以很好地除尘降温，使得抛光陶瓷圆筒件取出时不易过烫造成不便，也洗净了抛光时的灰尘，起到环境保护的作用。

本装置采用的抛光组件利用电磁铁的相斥力使抛光板来达到抛光位置，既方便了存取抛光陶瓷圆筒件，也使得抛光板能够更好的贴合抛光陶瓷圆筒件的表面进行抛光。

本装置采用的密封机构配合密封可以有效的防止抛光时的灰尘和抛光陶瓷圆筒件倾斜，除尘机构，利用循环水除尘降温，既可以有效的节约资源，又可以很好地除尘降温，抛光组件利用电磁铁的相斥力使得抛光板能够更好的贴合抛光陶瓷圆筒件的表面进行抛光，抛光效果理想，品质优越。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备的一种较佳实施例的结构示意图；

图2为图1所示底腔的结构示意后视图；

图3为图1所示顶盖的结构示意图。

图中标号：1、底腔；2、旋转组件；21、防水箱；22、驱动电机；23、输出杆；24、旋转底盘；25、定位胶垫；3、抛光组件；31、底板；32、伸缩杆；33、抛光板；34、复位弹簧；35、电磁铁；4、密封机构；41、顶盖；42、螺纹转杆；43、旋转顶盘；44、缓冲垫；45、旋合顶扣；5、除尘机构；51、支撑板；52、水泵；53、排水管道；54、过滤网；6、循环水出口；7、循环水进口；8、旋合底扣。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步说明。

请结合参阅图1、图2和图3，其中图1为本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备的一种较佳实施例的结构示意图；图2为图1所示底腔的结构示意后视图；图3为图1所示顶盖的结构示意图，一种陶瓷制备用抛光设备，包括：底腔1；

旋转组件2；旋转组件2固定连接于底腔1内壁的底部；

抛光组件3；抛光组件3固定连接于底腔1内壁两侧的顶部；

密封机构4；密封机构4设置于底腔1的顶部；

除尘机构5；除尘机构5固定连接于底腔1右侧的底部，除尘机构5，包括支撑板51，支撑板51的左侧与底腔1右侧的底部固定连接，支撑板51的顶部固定连接有水泵52；

循环水出口6，循环水出口6设置于底腔1底部的右侧；

循环水进口7，循环水进口7设置于底腔1正面的顶部；

旋合底扣8，旋合底扣8固定连接于底腔1两侧的顶部，密封机构4与底腔1是可拆卸的配合密封关系，旋转组件2周围的空间可用来存贮循环水防止水泵52空转。

水泵52的进水口与循环水出口6连通，水泵52的排水口固定连接有排水管道53，排水管道53内部安装有过滤网54，排水管道53的顶部与循环水进口7连通，排水管道53内部的过滤网54可以拆卸清洗更换，循环水出口6和循环水进口7与水泵52的连通是可拆卸更换的。

旋转组件2包括防水箱21，防水箱21的底部与底腔1内壁的底部固定连接，防水箱21的底部固定连接有驱动电机22，驱动电机22的输出轴固定连接有输出杆23，输出杆23的顶端贯穿防水箱21的顶部且延伸至防水箱21外部，输出杆23的顶端固定连接有旋转底盘24，旋转底盘24的顶部固定连接有定位胶垫25，输出杆23贯穿防水箱21的位置转动连接有套筒，输出杆23贯穿防水箱21的位置设置有防水的密封圈。

抛光组件3包括两个底板31，两个底板31分别与底腔1内壁两侧的顶端固定连接，两个底板31相对的一侧固定连接有伸缩杆32，伸缩杆32的另一端固定连接有抛光板33，伸缩杆32的表面且位于底板31和抛光板33相对的一侧之间套设有复位弹簧34，底板31与抛光板33相对的一侧分别固定连接有电磁铁35，复位弹簧34在电磁铁35不通电工作时，拉近底板31和抛光板33之间的距离，伸缩杆32收缩，电磁铁35通电时，是让产生极性相反的排斥力，实现抛光板33的横向移动。

密封机构4包括顶盖41，顶盖41的底部设置有底腔1的顶部，顶盖41的顶部贯穿有螺纹转杆42，螺纹转杆42的底端贯穿顶盖41的顶部且延伸至顶盖41的内部，螺纹转杆42贯穿顶盖41处设置有套筒，套筒内部设置有螺纹可转动。

螺纹转杆42的底端转动连接有旋转顶盘43，旋转顶盘43的底部固定连接有缓冲垫44，顶盖41两侧的底部固定连接有旋合顶扣45，螺纹转杆42的底端和旋转顶盘43连接处设置有轴承，可实现旋转顶盘43随着旋转底盘24转动。

本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备的工作原理如下：

在使用时，旋转顶盖41，旋合顶扣45解除和旋合底扣8的配合关系，打开密封机构4，放入待抛光陶瓷圆筒件，通过定位胶垫25固定位置，盖上顶盖41，旋合顶扣45与旋合底扣8配合密封，转动螺纹转杆42，旋转顶盘43下移，缓冲垫44和定位胶垫25近一步配合固定待抛光陶瓷圆筒件位置，抛光组件3开始工作，电磁铁35通电，受电磁铁35相斥力作用抛光板33与底板31间位置距离变大，伸缩杆32拉升固定顶抛光板33只可以横向移动，旋转组件2开始工作，驱动电机22通过输出杆23旋转带动旋转底盘24转动，待抛光陶瓷圆筒件旋转开始抛光，旋转顶盘43和旋转底盘24配合旋转防止待抛光陶瓷圆筒件倾斜，除尘机构5开始工作，水泵52运转，将底腔1内循环水从循环水出口6通过水泵52从排水管道53进入循环水进口7，在排水管道53内部的过滤网54净化循环水，抛光完毕，关闭抛光组件3，旋转组件2，电磁铁35断电，排斥力消失，复位弹簧34带动伸缩杆32回缩复位，抛光板33随之复位，驱动电机22停止运作，待抛光陶瓷圆筒件停止转动，除尘机构5停止工作，水泵52停止运转，循环水进口7不再进水，转动螺纹转杆42复位，旋转顶盖41，打开密封机构4，取出抛光陶瓷圆筒件。

与相关技术相比较，本实用新型提供的一种陶瓷制备用抛光设备具有如下有益效果：

本装置采用的密封机构4采用的旋合顶扣45和旋合底扣8配合密封，可以有效的防止抛光时的灰尘，干净卫生，旋转顶盘43和旋转底盘24配合旋转防止抛光陶瓷圆筒件倾斜。

本装置采用的除尘机构5，利用循环水除尘降温，既可以有效的节约资源，又可以很好地除尘降温，使得抛光陶瓷圆筒件取出时不易过烫造成不便，也洗净了抛光时的灰尘，起到环境保护的作用。

本装置采用的抛光组件3利用电磁铁35的相斥力使抛光板33来达到抛光位置，既方便了存取抛光陶瓷圆筒件，也使得抛光板33能够更好的贴合抛光陶瓷圆筒件的表面进行抛光。

本装置采用的密封机构4配合密封可以有效的防止抛光时的灰尘和抛光陶瓷圆筒件倾斜，除尘机构5，利用循环水除尘降温，既可以有效的节约资源，又可以很好地除尘降温，抛光组件3利用电磁铁35的相斥力使得抛光板33能够更好的贴合抛光陶瓷圆筒件的表面进行抛光，抛光效果理想，品质优越。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，包括：底腔（1）；

旋转组件（2）；所述旋转组件（2）固定连接于底腔（1）内壁的底部；

抛光组件（3）；所述抛光组件（3）固定连接于底腔（1）内壁两侧的顶部；

密封机构（4）；所述密封机构（4）设置于底腔（1）的顶部；

除尘机构（5）；所述除尘机构（5）固定连接于底腔（1）右侧的底部，所述除尘机构（5），包括支撑板（51），所述支撑板（51）的左侧与底腔（1）右侧的底部固定连接，所述支撑板（51）的顶部固定连接有水泵（52）；

循环水出口（6），所述循环水出口（6）设置于底腔（1）底部的右侧；

循环水进口（7），所述循环水进口（7）设置于底腔（1）正面的顶部；

旋合底扣（8），所述旋合底扣（8）固定连接于底腔（1）两侧的顶部。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，所述水泵（52）的进水口与循环水出口（6）连通，所述水泵（52）的排水口固定连接有排水管道（53），所述排水管道（53）内部安装有过滤网（54），所述排水管道（53）的顶部与循环水进口（7）连通。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，所述旋转组件（2）包括防水箱（21），所述防水箱（21）的底部与底腔（1）内壁的底部固定连接，所述防水箱（21）的底部固定连接有驱动电机（22），所述驱动电机（22）的输出轴固定连接有输出杆（23），所述输出杆（23）的顶端贯穿防水箱（21）的顶部且延伸至防水箱（21）外部，所述输出杆（23）的顶端固定连接有旋转底盘（24），所述旋转底盘（24）的顶部固定连接有定位胶垫（25）。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，所述抛光组件（3）包括两个底板（31），两个所述底板（31）分别与底腔（1）内壁两侧的顶端固定连接，两个所述底板（31）相对的一侧固定连接有伸缩杆（32），所述伸缩杆（32）的另一端固定连接有抛光板（33），所述伸缩杆（32）的表面且位于底板（31）和抛光板（33）相对的一侧之间套设有复位弹簧（34），所述底板（31）与抛光板（33）相对的一侧分别固定连接有电磁铁（35）。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，所述密封机构（4）包括顶盖（41），所述顶盖（41）的底部设置有底腔（1）的顶部，所述顶盖（41）的顶部贯穿有螺纹转杆（42），所述螺纹转杆（42）的底端贯穿顶盖（41）的顶部且延伸至顶盖（41）的内部。

6.根据权利要求5所述的一种陶瓷制备用抛光设备，其特征在于，所述螺纹转杆（42）的底端转动连接有旋转顶盘（43），所述旋转顶盘（43）的底部固定连接有缓冲垫（44），所述顶盖（41）两侧的底部固定连接有旋合顶扣（45）。

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