CN212293733U - 一种真空蒸发镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

Description

一种真空蒸发镀膜设备

技术领域

本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种真空蒸发镀膜设备。

背景技术

真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中开发时间最早，应用领域最广的一种薄膜沉积方法，近年来随着长寿命电阻蒸发源、电子束蒸发源、激光束蒸发源等在真空蒸发镀膜技术中的应用，使这一技术的发展更趋完善，目前仍然在真空镀膜技术中占有相当重要的地位。

真空蒸发镀膜设备主要包括真空镀膜室内的工件架、蒸发源和加热源，工件架用于安装待镀膜工件，蒸发源用于盛放膜料，加热源对蒸发源加热，促使蒸发源内的膜料粒子逸出，并在气相中迁移，最终到达工件表面上凝结而生成薄膜。在镀膜工艺中，当蒸发源中的膜料消耗殆尽时，或当需要在同一工件表面蒸镀不同材料薄膜时，都会面临为蒸发源供给膜料，现有真空蒸发镀膜设备中，供给膜料需打开真空镀膜室的舱门进行，待供给膜料完毕关闭舱门后，对真空镀膜室重新抽真空，供给膜料的整套步骤繁琐，耗费工时，降低了整个镀膜工艺效率。

实用新型内容

因此，本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种能够提高膜料供给效率的真空蒸发镀膜设备。

本实用新型的目的是通过如下技术方案来完成的，一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室、工件架、蒸发源、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源、加热源和加料机构设置在所述真空镀膜室内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源加热从而使所述蒸发源内的所述膜料蒸发，所述膜料供给机构包括供料器和供料座，所述供料座固定于所述真空镀膜室的壁部，所述供料器设置于所述供料座内并适于相对于所述供料座移动，以使在供料状态时所述供料器的出料口露出所述供料座，在镀膜工作状态时所述供料器的出料口被所述供料座挡闭。

本实用新型在真空镀膜室的壁部固定供料座，在供料座内可相对移动地设置供料器，当需要供料时，驱动供料器相对于供料座移动使供料器的出料口露出，从而实现向蒸发源供给膜料；供料结束后，驱动供料器移动使供料器的出料口重新被供料座挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料器和/或所述供料座上设置有第一密封结构，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器和供料座之间形成第一密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料座与所述壁部之间设置有第二密封结构，以适于在所述供料座与所述壁部之间形成第二密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料座呈套筒状，所述供料器呈杆状并穿设于所述套筒状的供料座内并适于相对于所述供料座线性移动，以使在所述供料状态时所述供料器的出料口伸出所述供料座外，在所述镀膜工作状态时所述供料器的出料口缩回所述供料座内。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述杆状的供料器前端具有端帽，所述端帽后侧与所述供料座的套筒前端相对，所述端帽后侧和/或所述套筒前端设置有第一密封圈，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器和供料座之间形成第一密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述套筒状的供料座后部具有法兰盘，所述法兰盘前侧与所述真空镀膜室的壁部相对，所述法兰盘前侧和/或所述真空镀膜室的壁部设置有第二密封圈，以适于在所述供料座与所述壁部之间形成第二密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料器还包括进料口和连通所述进料口与所述出料口的通道，以适于通过所述进料口为所述出料口供给膜料。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述膜料供给机构还包括线性致动器，所述线性致动器通过支架固定于所述真空镀膜室外侧，通过所述线性致动器的动力杆推动所述供料器在所述供料座内线性移动。

本实用新型通过上述技术方案，可以实现如下效果：

整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

附图说明

图1为本实用新型真空蒸发镀膜设备供料状态的示意图；

图2为本实用新型真空蒸发镀膜设备镀膜工作状态的示意图。

图中附图标记表示为：

1-真空镀膜室，2-蒸发源，31-供料座，32-支架，33-法兰盘，41-供料器，42-线性致动器，43-进料口，44-出料口，45-端帽，46-通道，51-第一密封圈，52-第二密封圈。

具体实施方式

下面将参考若干示例性实施方式来描述本实用新型的原理和精神。应当理解，给出这些实施方式仅仅是为了使本领域技术人员能够更好地理解进而实现本实用新型，而并非以任何方式限制本实用新型的范围。

如图1和2所示，本实用新型的真空蒸发镀膜设备包括真空镀膜室1、工件架、蒸发源2、加热源和膜料供给机构(其中工件架和加热源在图中未示出)，蒸发源2例如可以是坩埚，工件架用于安装待镀膜工件，蒸发源2中盛放膜料，加热源对蒸发源2加热，促使蒸发源2内的膜料粒子逸出，并在气相中迁移，最终到达工件表面上凝结而生成薄膜。在镀膜工艺中，当蒸发源2中的膜料消耗殆尽时，或当需要在同一工件表面蒸镀不同材料薄膜时，都会面临为蒸发源供给膜料。

本实用新型的膜料供给机构包括供料器41和供料座31，供料座31固定于所述真空镀膜室1的壁部，供料器41设置于所述供料座31内并适于相对于所述供料座31移动，以使在供料状态时所述供料器41的出料口44露出所述供料座31，在镀膜工作状态时所述供料器41的出料口44被所述供料座31挡闭。通过本实用新型的膜料供给机构，整个供料过程仅需供料器41相对于供料座31移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

在本实用新型的一个具体实施例中，供料器41可相对于供料器31线性移动，从而实现出料口44露出供料座31或被供料座31挡闭两种状态。在另一具体实施例中，供料器41也可相对于供料器31转动，此时供料器31可以具有开口，当供料器41转动一定角度时，供料出口44可借助开口露出供料座31，当转动另一角度时，供料出口44又重新被供料座31挡闭。

如图1和2所示，在一个具体实施例中，供料座31呈套筒状并穿设于真空镀膜室1的壁部的开口处，套筒的主体部分通过壁部开口伸入真空镀膜室1内，供料座31后部具有法兰盘33，法兰盘33抵靠于真空镀膜室1的壁部外侧，并利用螺栓或焊接方式将法兰盘33与真空镀膜室1的壁部固定，从而将供料座31固定于真空镀膜室1的壁部。在法兰盘33与壁部相抵靠的面开设有环形槽，环形槽内设置有第二密封圈52，通过第二密封圈52在法兰盘33与真空镀膜室1壁部之间形成第二密封。

供料器41呈杆状并穿设于套筒状的供料座31内，杆状的中空部形成为通道46，供料器41前部开设有出料口44，后部开设有进料口43，通道46两端分别与出料口44和进料口43连通，从而实现膜料通过进料口43传输至出料口44。供料器41前端具有端帽45，端帽45后侧与供料座31的套筒前端相对，端帽45后侧开设有环形槽，环形槽内设置有第一密封圈51，通过第一密封圈51在供料器41与供料座31之间形成第一密封。

杆状的供料器41穿设于套筒状的供料座31内并可相对于供料座31进行线性移动。在真空镀膜室1外侧还设置有支架32，支架32固定于真空镀膜室1的壁部，支架32上设置有线性致动器42，本实施例中的线性致动器42为气缸或液压缸，本领域技术人员可以理解，线性致动器可以为直线电机，或齿轮齿条驱动机构，只要其输出的动力为线性即可。线性致动器42的动力杆端部与供料器41的杆状端部连接，从而推动供料器41伸出供料座31，或拉动供料器41缩回供料座31。

当需要向蒸发源2中供给膜料时，如图1所示，线性致动器42推动供料器41相对于供料座31向前线性移动，使得端帽45远离供料座31的套筒端部，出料口44露出套筒，可以使出料口44直接移动至蒸发源2上方实现供料，也可以使蒸发源2移动至出料口44下方实现供料。在供料状态下，真空镀膜室1的内外具有空气流通通道，空气通过供料器41的杆部与供料座31的套筒部之间的间隙实现流通。当完成向蒸发源2中供给膜料准备镀膜工作时，如图2所示，线性致动器42拉动供料器41相对于供料座31向后线性移动，使得出料口44缩回供料座31的套筒内，并使端帽45的第一密封圈51抵靠于供料座31的套筒端部形成第一密封，此时出料口44被套筒挡闭，通过第一密封阻隔了供料器41的杆部与供料座31的套筒部之间的空气流通通道，通过第二密封阻隔了供料器31与真空镀膜室1壁部之间的空气流通通道。在镀膜工作状态下，对真空镀膜室1进行抽真空和真空镀膜工艺。

本实用新型在真空镀膜室1的壁部固定供料座31，在供料座31内可相对移动地设置供料器41，当需要供料时，驱动供料器41相对于供料座31移动使供料器41的出料口44露出，从而实现向蒸发源2供给膜料；供料结束后，驱动供料器41移动使供料器41的出料口44重新被供料座31挡闭。整个供料过程仅需供料器4131相对于供料座31移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室(1)、工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构设置在所述真空镀膜室(1)内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源(2)用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源(2)加热从而使所述蒸发源(2)内的所述膜料蒸发，其特征在于：所述膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。

2.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料器(41)和/或所述供料座(31)上设置有第一密封结构，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器(41)和供料座(31)之间形成第一密封。

3.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)与所述壁部之间设置有第二密封结构，以适于在所述供料座(31)与所述壁部之间形成第二密封。

4.如权利要求1-3中任一项所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)呈套筒状，所述供料器(41)呈杆状并穿设于所述套筒状的供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)线性移动，以使在所述供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)伸出所述供料座(31)外，在所述镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)缩回所述供料座(31)内。

5.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述杆状的供料器(41)前端具有端帽(45)，所述端帽(45)后侧与所述供料座(31)的套筒前端相对，所述端帽(45)后侧和/或所述套筒前端设置有第一密封圈，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器(41)和供料座(31)之间形成第一密封。

6.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述套筒状的供料座(31)后部具有法兰盘(33)，所述法兰盘(33)前侧与所述真空镀膜室(1)的壁部相对，所述法兰盘(33)前侧和/或所述真空镀膜室(1)的壁部设置有第二密封圈，以适于在所述供料座(31)与所述壁部之间形成第二密封。

7.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料器(41)还包括进料口(43)和连通所述进料口(43)与所述出料口(44)的通道(46)，以适于通过所述进料口(43)为所述出料口(44)供给膜料。

8.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述膜料供给机构还包括线性致动器(42)，所述线性致动器(42)通过支架(32)固定于所述真空镀膜室(1)外侧，通过所述线性致动器(42)的动力杆推动所述供料器(41)在所述供料座(31)内线性移动。

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