CN212282952U - 一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置 - Google Patents
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Abstract
一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,将均四甲苯溶液通过进液口进入分布盘Ⅰ,之后通过喷头喷射到结晶管上,在冷却系统的作用下,均四甲苯在结晶管上结晶,结晶完毕后打开阀后母液向下落入换热室中,最终通过出液口排出。之后通过进液口加入冲洗剂,冲洗剂将结晶管管壁上的结晶体向下冲洗到纯化室,结晶体分布在过滤盘上,冲洗后的液体通过出液口排出,之后通过输气管输入纯化气体,由于输气管上设置有出气孔,因此纯化气体进入换热室中后被气体加热装置加热,加热后的纯化气体较轻,因此其向上进入纯化室中将过滤盘上的结晶体加热,将其表面的冲洗剂气化后通过排气口排出。实现了高纯度均四甲苯的制备。
Description
技术领域
本实用新型涉及均四甲苯生产技术领域,具体涉及一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置。
背景技术
均四甲苯,即1,2,4,5-四甲基苯,白色晶体,最主要用途是生产均苯四甲酸二酐,均苯四甲酸二酐可以生产聚酰亚胺,随着聚酰亚胺市场用量不断扩大,均四甲苯的需求量也与日俱增,但是目前均四甲苯的产量较少,产品质量较差,降低生产成本、提高产品质量成为目前行业的目标。目前行业主要采用冷冻结晶分离法,均四甲苯溶液经降温结晶后的产品经过压榨分离制得,但产品纯度不高。为了得到高纯度的晶体,往往需要将得到的晶体产品重新置于结晶器中加热融化,进行重结晶或者多次结晶。这种生产方式普遍存在能耗大、连续生产能力低等缺点。
但是随着近年来均四甲苯产品市场的发展,对产品成本及产品质量的要求不断提高,传统的冷冻压榨分离和重结晶工艺能耗已无法适用当前生产。虽然经过不断的探索逐步出现了熔融结晶工艺技术,但该技术对溶液浓度要求高,设备制作难度大,装置投资较大,目前仅停留在试验阶段,未能实现工业化应用。
发明内容
本实用新型为了克服以上技术的不足,提供了一种操作简便、提高均四甲苯产品质量的分布结晶多级提纯一体化装置。
本实用新型克服其技术问题所采用的技术方案是:
一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,包括:
筒体,其内部自上而下间隔设置有横隔板Ⅰ横隔板Ⅱ以及横隔板Ⅲ,横隔板Ⅰ与横隔板Ⅱ之间通过阀相连通,横隔板Ⅱ与横隔板Ⅲ之间形成纯化室,横隔板Ⅲ下方形成换热室;
分布室,设置于筒体内的顶端,进液口设置于筒体上端,所述分布室内设置有分布盘Ⅰ,进液口与分布盘Ⅰ相连接,分布室与横隔板Ⅰ之间形成结晶室,所述结晶室中竖直设置有若干结晶管,所述分布盘Ⅰ下端设置有若干喷头,每个喷头位于相邻的两个结晶管之间;
冷却系统,设置于结晶室中,用于对结晶室降温;
过滤盘,水平设置于纯化室中,过滤盘的下端与换热室相连通;
输气管,设置于换热室底部,输气管上延其轴向设置有若干出气孔,输气管通过一端设置的入气口连接于纯化气气源,输气管下端的筒体处设置有出液口;以及
气体加热装置,设置于换热室内,用于将输气管输入至换热室中的纯化气体加热,所述筒体上设置有连接于纯化室的排气口。
进一步的,上述冷却系统包括环绕设置于各个结晶管外围的内筒体,内筒体与筒体内壁形成环形的冷却腔,所述冷却腔上端通过冷却液进口连接于冷却水管路,冷却腔下端设置有冷却液出口。
进一步的,上述气体加热装置包括换热器,其位于输气管的上方,换热器的上端通过进水口连接于热水管路,其下端设置有出水口。
为了使结晶体均匀分布在过滤盘上,还包括呈圆锥形结构的分布盘Ⅱ,分布盘Ⅱ上端与阀的下端出口相连,其下端位于过滤盘的正上方。
本实用新型的有益效果是:将均四甲苯溶液通过进液口进入分布盘Ⅰ,之后通过喷头喷射到结晶管上,在冷却系统的作用下,均四甲苯在结晶管上结晶,结晶完毕后打开阀后母液向下落入换热室中,最终通过出液口排出。之后通过进液口加入冲洗剂,冲洗剂将结晶管管壁上的结晶体向下冲洗到纯化室,结晶体分布在过滤盘上,冲洗后的液体通过出液口排出,之后通过输气管输入纯化气体,由于输气管上设置有出气孔,因此纯化气体进入换热室中后被气体加热装置加热,加热后的纯化气体较轻,因此其向上进入纯化室中将过滤盘上的结晶体加热,将其表面的冲洗剂气化后通过排气口排出。实现了高纯度均四甲苯的制备。
附图说明
图1为本实用新型的主视结构示意图;
图中,1.筒体 2.进液口 3.出液口 4.横隔板Ⅰ 5.横隔板Ⅱ 6.换热室 7.分布盘Ⅰ8.喷头 9.结晶管 10.冷却液进口 11.内筒体 12.结晶室 13.阀 14.冷却液出口 15.纯化室 16.过滤盘 17.分布盘Ⅱ 18.横隔板Ⅲ 19.输气管 20.出气孔 21.换热器 22.进水口23.出水口 24.排气口 25.分布室 26.入气口。
具体实施方式
下面结合附图1对本实用新型做进一步说明。
一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,包括:筒体1,其内部自上而下间隔设置有横隔板Ⅰ 4、横隔板Ⅱ 5以及横隔板Ⅲ 18,横隔板Ⅰ 4与横隔板Ⅱ 5之间通过阀13相连通,横隔板Ⅱ 5与横隔板Ⅲ 18之间形成纯化室,横隔板Ⅲ 18下方形成换热室6;分布室25,设置于筒体1内的顶端,进液口2设置于筒体1上端,分布室25内设置有分布盘Ⅰ 7,进液口2与分布盘Ⅰ 7相连接,分布室25与横隔板Ⅰ 4之间形成结晶室12,结晶室12中竖直设置有若干结晶管9,分布盘Ⅰ 7下端设置有若干喷头8,每个喷头8位于相邻的两个结晶管9之间;冷却系统,设置于结晶室12中,用于对结晶室12降温;过滤盘16,水平设置于纯化室15中,过滤盘16的下端与换热室6相连通;输气管19,设置于换热室6底部,输气管19上延其轴向设置有若干出气孔20,输气管19通过一端设置的入气口26连接于纯化气气源,输气管19下端的筒体1处设置有出液口3;以及气体加热装置,设置于换热室6内,用于将输气管19输入至换热室6中的纯化气体加热,筒体1上设置有连接于纯化室15的排气口24。将均四甲苯溶液通过进液口2进入分布盘Ⅰ 7,之后通过喷头8喷射到结晶管9上,在冷却系统的作用下,均四甲苯在结晶管9上结晶,结晶完毕后打开阀13后母液向下落入换热室6中,最终通过出液口3排出。之后通过进液口2加入冲洗剂,冲洗剂将结晶管9管壁上的结晶体向下冲洗到纯化室15,结晶体分布在过滤盘16上,冲洗后的液体通过出液口3排出,之后通过输气管19输入纯化气体,由于输气管19上设置有出气孔20,因此纯化气体进入换热室6中后被气体加热装置加热,加热后的纯化气体较轻,因此其向上进入纯化室15中将过滤盘16上的结晶体加热,将其表面的冲洗剂气化后通过排气口24排出。实现了高纯度均四甲苯的制备,可以得到纯度大于99.5%的均四甲苯产品。优选的过滤盘16中设置电加热丝,其通电后可以将提纯后的均四甲苯结晶体加热至80℃融化后从出液口3排出,方便得到均四甲苯产品。
冷却系统可以为如下结构,其包括环绕设置于各个结晶管9外围的内筒体11,内筒体11与筒体1内壁形成环形的冷却腔,冷却腔上端通过冷却液进口10连接于冷却水管路,冷却腔下端设置有冷却液出口14。冷却水通过却液进口10进入冷却腔中对各个结晶管9进行降温,换热后的冷却水通过冷却液出口14排出。
气体加热装置可以为如下结构,其包括换热器21,其位于输气管19的上方,换热器21的上端通过进水口22连接于热水管路,其下端设置有出水口23。热水通过进水口22进入换热器21中对换热室6中的纯化气体进行加热,换热后的热水通过出水口23流出。
优选的,还包括呈圆锥形结构的分布盘Ⅱ 17,分布盘Ⅱ 17上端与阀13的下端出口相连,其下端位于过滤盘16的正上方。当冲洗剂将结晶管9上的结晶体冲洗下来时,其进入分布盘17,由于分布盘17下端设置有若干排料孔,因此结晶体可以均匀散落在过滤盘16上。
Claims (4)
1.一种均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,其特征在于,包括:
筒体(1),其内部自上而下间隔设置有横隔板Ⅰ(4)、横隔板Ⅱ(5)以及横隔板Ⅲ(18),横隔板Ⅰ(4)与横隔板Ⅱ(5)之间通过阀(13)相连通,横隔板Ⅱ(5)与横隔板Ⅲ(18)之间形成纯化室,横隔板Ⅲ(18)下方形成换热室(6);
分布室(25),设置于筒体(1)内的顶端,进液口(2)设置于筒体(1)上端,所述分布室(25)内设置有分布盘Ⅰ(7),进液口(2)与分布盘Ⅰ(7)相连接,分布室(25)与横隔板Ⅰ(4)之间形成结晶室(12),所述结晶室(12)中竖直设置有若干结晶管(9),所述分布盘Ⅰ(7)下端设置有若干喷头(8),每个喷头(8)位于相邻的两个结晶管(9)之间;
冷却系统,设置于结晶室(12)中,用于对结晶室(12)降温;
过滤盘(16),水平设置于纯化室(15)中,过滤盘(16)的下端与换热室(6)相连通;
输气管(19),设置于换热室(6)底部,输气管(19)上延其轴向设置有若干出气孔(20),输气管(19)通过一端设置的入气口(26)连接于纯化气气源,输气管(19)下端的筒体(1)处设置有出液口(3);以及
气体加热装置,设置于换热室(6)内,用于将输气管(19)输入至换热室(6)中的纯化气体加热,所述筒体(1)上设置有连接于纯化室(15)的排气口(24)。
2.根据权利要求1所述的均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,其特征在于:所述冷却系统包括环绕设置于各个结晶管(9)外围的内筒体(11),内筒体(11)与筒体(1)内壁形成环形的冷却腔,所述冷却腔上端通过冷却液进口(10)连接于冷却水管路,冷却腔下端设置有冷却液出口(14)。
3.根据权利要求1所述的均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,其特征在于:所述气体加热装置包括换热器(21),其位于输气管(19)的上方,换热器(21)的上端通过进水口(22)连接于热水管路,其下端设置有出水口(23)。
4.根据权利要求1所述的均四甲苯分布结晶多级提纯一体化装置,其特征在于:还包括呈圆锥形结构的分布盘Ⅱ(17),分布盘Ⅱ(17)上端与阀(13)的下端出口相连,其下端位于过滤盘(16)的正上方。
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