CN212209427U - 一种解胶机的uv解胶结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型系提供一种解胶机的UV解胶结构，包括透明的承料板，承料板的正下方设有UV发光模组，承料板上设有承料凹槽，承料凹槽的槽底处均匀分布有至少两个解胶让位孔，承料凹槽中安装有解胶贴膜框，承料凹槽的长宽分别与解胶贴膜框的长宽相等。本实用新型通过足量的解胶让位孔不但能够有效确保UV光的透过率，从而提高解胶效率和解胶效果，同时能够有效确保整体结构的稳定性，避免因解胶让位孔过大而导致解胶对象出现摔落等问题，此外，即使UV光长时间照射导致透明的承料板出现黄化等问题，也几乎不会影响解胶效率以及解胶效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及UV解胶治具，具体公开了一种解胶机的UV解胶结构。
背景技术
解胶机是通过UV光弱化粘结效果的装置，在半导体生产加工的过程中，需要将晶片固定于UV膜上，在加工完毕后需要对晶片与UV膜实现分离，通过UV光能够降低UV膜的粘性，从而提高分离效果。
解胶机的解胶对象为一般为粘贴有若干晶片等电子器件的UV膜结构，现有技术中，解胶机的UV解胶结构主要包括UV发光模组以及透明板结构，将解胶对象放置在透明板之后，启动UV发光模组发出UV光透过透明板到达解胶对象，对解胶对象进行解胶，使用一定的时间后，透明板被UV光长时间照射后，容易产生黄化、形变等缺陷，影响解胶效率以及解胶效果。
实用新型内容
基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种解胶机的UV解胶结构，能够有效提高解胶效率以及解胶效果。
为解决现有技术问题，本实用新型公开一种解胶机的UV解胶结构，包括透明的承料板，承料板的正下方设有UV发光模组，承料板上设有承料凹槽，承料凹槽的槽底处均匀分布有至少两个解胶让位孔，承料凹槽中安装有解胶贴膜框，承料凹槽的长宽分别与解胶贴膜框的长宽相等。
进一步的，承料板为PVC透明板。
进一步的，承料板上设有至少一个取料让位槽，取料让位槽连接于承料凹槽的一侧。
进一步的，承料凹槽上设有磁铁框，磁铁框的厚度小于承料凹槽的深度，解胶贴膜框为磁性金属框。
进一步的，承料板的底部设有环状的挡光膜，挡光膜围绕在承料凹槽外。
进一步的，UV发光模组包括电路板，电路板上均匀分布有若干UVLED灯珠。
本实用新型的有益效果为：本实用新型公开一种解胶机的UV解胶结构，通过足量的解胶让位孔不但能够有效确保UV光的透过率，从而提高解胶效率和解胶效果，同时能够有效确保整体结构的稳定性，避免因解胶让位孔过大而导致解胶对象出现摔落等问题，此外，即使UV光长时间照射导致透明的承料板出现黄化等问题，也几乎不会影响解胶效率以及解胶效果。
附图说明
图1为本实用新型的立体结构示意图。
图2为本实用新型的拆分结构示意图。
附图标记为：承料板10、承料凹槽11、解胶让位孔12、取料让位槽13、磁铁框14、挡光膜15、UV发光模组20、电路板21、UVLED灯珠22、解胶贴膜框30。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
参考图1、图2。
本实用新型实施例公开一种解胶机的UV解胶结构，包括透明的承料板10，承料板10的正下方设有UV发光模组20，承料板10上设有方形的承料凹槽11，承料凹槽11的槽底处均匀分布有至少两个解胶让位孔12，UV发光模组20位于解胶让位孔12的正下方，多个解胶让位孔12不仅能够有效确保解胶效率，同时解胶让位孔12之间的筋结构能够有效确保整体解胶结构的稳定性，承料凹槽11中安装有用于对解胶对象进行定位的方形的解胶贴膜框30，承料凹槽11的长宽分别与解胶贴膜框30的长宽相等，即解胶贴膜框30恰好能够安装到承料凹槽11中。
解胶对象一般为粘贴有若干电子器件的UV膜，本实用新型的工作过程为，将解胶对象固定在解胶贴膜框30上，再将解胶贴膜框30安装到承料凹槽11中，最后启动UV发光模组20，UV发光模组20发出的光透过解胶让位孔12直接照射到解胶对象中，对解胶对象进行解胶。解胶让位孔12为UV光对解胶对象进行解胶的主要通过路径，中空的结构不但能够确保UV光的透过率，还能够避免透明的承料板10因长时间被UV光照射形成黄化、变形等缺陷而最终影响主要UV光束的透过率和解胶性能，解胶时间缩减为原来的一半；透明的承料板10的具有良好的透光性能，能够在解胶让位孔12以外的地方对解胶对象进行UV补光，从而有效确保解胶效果。
在本实施例中，承料板10为PVC透明板，PVC透明板具有良好的化学稳定性，不易变形，透光性能好。
在本实施例中，承料板10上设有至少一个取料让位槽13，取料让位槽13连接于承料凹槽11的一侧，通过取料让位槽13为人手或其他取料工具让位，方便实现解胶贴膜框30的取出操作。
基于上述实施例，承料凹槽11上设有磁铁框14，磁铁框14的厚度小于承料凹槽11的深度，确保解胶贴膜框30仍能够稳定安装于承料凹槽11中，解胶贴膜框30为磁性金属框，磁性金属为铁、钴、镍等，通过磁性吸附的作用，能够有效方便对解胶贴膜框30进行安装，同时能有效提高解胶时整体结构的稳定性。
在本实施例中，承料板10的底部设有矩形环状的挡光膜15，挡光膜15围绕在承料凹槽11外，通过挡光膜15能够有效提高承料板10的耐老化性能，从而有效延长承料板10的使用寿命，且位于承料凹槽11四周外的UV不会作用于解胶对象中，挡光膜15的设置不会影响解胶效果。
在本实施例中，UV发光模组20包括电路板21，电路板21上均匀分布有若干UVLED灯珠22，UV发光模组20具有良好的面发光效果。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (6)
1.一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，包括透明的承料板(10)，所述承料板(10)的正下方设有UV发光模组(20)，所述承料板(10)上设有承料凹槽(11)，所述承料凹槽(11)的槽底处均匀分布有至少两个解胶让位孔(12)，所述承料凹槽(11)中安装有解胶贴膜框(30)，所述承料凹槽(11)的长宽分别与所述解胶贴膜框(30)的长宽相等。
2.根据权利要求1所述的一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，所述承料板(10)为PVC透明板。
3.根据权利要求1所述的一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，所述承料板(10)上设有至少一个取料让位槽(13)，所述取料让位槽(13)连接于所述承料凹槽(11)的一侧。
4.根据权利要求3所述的一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，所述承料凹槽(11)上设有磁铁框(14)，所述磁铁框(14)的厚度小于所述承料凹槽(11)的深度，所述解胶贴膜框(30)为磁性金属框。
5.根据权利要求1所述的一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，所述承料板(10)的底部设有环状的挡光膜(15)，所述挡光膜(15)围绕在所述承料凹槽(11)外。
6.根据权利要求1所述的一种解胶机的UV解胶结构，其特征在于，所述UV发光模组(20)包括电路板(21)，所述电路板(21)上均匀分布有若干UVLED灯珠(22)。
Priority Applications (1)
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| CN202021162700.8U CN212209427U (zh) | 2020-06-19 | 2020-06-19 | 一种解胶机的uv解胶结构 |
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2020
- 2020-06-19 CN CN202021162700.8U patent/CN212209427U/zh active Active
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