CN212180994U - 一种高灵敏度磁感应强度传感器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高灵敏度磁感应强度传感器,所述的传感器结构从下到上包括棱镜、ITO膜、SiO2膜、AlN膜、样品池和磁流体。本实用新型传感器基于Fano共振模式,灵敏度高,速度快,抗干扰能力强。本实用新型传感器具有很高的灵敏度,灵敏度可达0.047nm/Oe。
Description
技术领域
本实用新型属于光学领域,具体涉及一种基于Fano共振进行磁感应强度检测的高灵敏度传感器。
背景技术
表面等离子体共振是一种电磁波以一定角度从棱镜入射到金属电介质交界面时,引起的金属表面等离子体集体震荡的物理现象。表面等离子体共振对金属附近电解质的厚度和折射率非常敏感,可以作为表面等离子体共振传感器用于检测相关参数的变化。但是由于材料和结构本身的限制,表面等离子体共振传感器的灵敏度受到限制,不能满足对当今高灵敏度和高分辨率的需求。
在表面等离子体共振的基础上引入平面波导结构,两者之间可以相互耦合形成一种非对称线形的Fano共振。Fano共振具有共振峰狭窄、变化剧烈的非对称谱线特征,对周围环境的变化极其敏感,有广泛的应用前景。
磁流体材料是由磁性粒子、表面活性剂和基液三者混合而成的一种新型磁性纳米功能性材料。随着磁感应强度的改变,磁流体的微观结构会发生改变,从而导致其折射率也随之改变。
发明内容
本实用新型的目的是解决现有技术存在的缺陷,将Fano共振技术和磁流体材料相结合,并将其应用在磁感应强度测量领域,提供一种高灵敏度磁感应强度传感器。
本实用新型提供了一种高灵敏度磁感应强度传感器,该传感器结构从下到上包括棱镜、ITO膜、SiO2膜、AlN膜、样品池和磁流体。
进一步地,所述的棱镜材料为Ge20Ga5Sb10S65。
进一步地,所述的ITO膜厚度为50-200nm。
进一步地,所述的SiO2膜厚度为200-2000nm。
进一步地,所述的A1N膜厚度为100-1000nm。
进一步地,所述的样品池是由聚二甲基硅烷垫圈挤压连接至A1N膜表面。
进一步地,所述的磁流体为1.2%的水基Fe3O4磁流体。
与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:
本实用新型采用特殊结构,既能在ITO膜和SiO2膜交界面产生表面等离子体波,又能利用SiO2膜、AlN膜和磁流体产生平面波导模式,表面等离子体波和平面波导耦合形成Fano共振,共振峰谱线更加狭窄,进一步提高传感器的灵敏度。本实用新型的传感器结构简单,灵敏度高,速度快,抗干扰能力强。
附图说明
图1是本实用新型实施例结构示意图。
图2是本实用新型实施例的反射光反射率随波长变化的曲线示意图。
图3是本实用新型实施例的反射率最小值的波长位置随磁流体折射率变化的曲线示意图。
图4是本实用新型实施例的反射率最小值的波长位置随磁感应强度变化的曲线示意图。
图中1-棱镜,2-ITO膜,3-SiO2膜,4-AlN膜,5-样品池,6-磁流体。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。
如图1所示,本实用新型的实施例提供了一种高灵敏度磁感应强度传感器,包括棱镜1、ITO膜2、SiO2膜3、AlN膜4、样品池5、磁流体6。棱镜1位于最下方,ITO膜2位于棱镜1上方,SiO2膜3位于ITO膜2上方,AlN膜4位于SiO2膜3上方,样品池5位于AlN膜4上方,磁流体6位于样品池5内部。所述棱镜1和ITO膜2用于激发表面等离子体波,所述SiO2膜、AlN膜和磁流体6用于激发平面波导模式,表面等离子体波和平面波导耦合形成Fano共振。Fano共振具有狭窄的非对称共振峰,对周围环境的变化极其敏感。在波长检测模式下,当外界环境折射率变化时,Fano共振的反射率最小值的波长位置会随之发生变化。
当一束P型偏振光以50.6°入射到棱镜1时,一部分光进入棱镜1上方的ITO膜2、SiO2膜3、AlN膜4和磁流体6中,耦合后激发Fano共振,另一部分光发生反射从棱镜1中射出后进入光谱仪中,以检测反射光中的光谱信息。通过测量反射光的光谱信息,可以发现反射光反射率最小值的波长位置随磁流体的折射率的变化而发生变化。根据磁流体本身的折射率随着外界磁感应强度的变化而改变的特性,就可以建立起反射光反射率最小值的波长位置随外界磁感应强度变化的函数关系。
进一步地,所述的棱镜1为Ge20Ga5Sb10S65棱镜,ITO膜2的厚度为110nm;SiO2膜3厚度为900nm,AlN膜4厚度为410nm,磁流体6为1.2%的水基Fe3O4磁流体。当外界磁感应强度为60Oe时,此时测得的反射光反射率随波长变化的曲线示意图如图2所示。当外界磁感应强度发生变化时,磁流体的折射率会发生变化,此时测得的反射光反射率最小值的波长位置随折射率变化的曲线示意图如图3所示。从图中可以看出,当待测介质的折射率变化Δn=0.002RIU时,反射光反射率最小值的波长位置变化约2nm。根据磁流体本身的折射率随着外界磁感应强度的变化关系和反射光反射率最小值的波长位置随折射率的变化关系,即可以得出反射率最小值的波长位置随磁感应强度变化的曲线示意图如图4所示。从图中可以看出,当外界磁感应强度变化120Oe时,反射光反射率最小值的波长位置变化约5.6nm,可以计算出该传感器的灵敏度为0.047nm/Oe。
Claims (5)
1.一种高灵敏度磁感应强度传感器,其特征在于所述的高灵敏度磁感应强度传感器结构从下到上包括棱镜、ITO膜、SiO2膜、AlN膜、样品池和磁流体,其中棱镜位于最下方,ITO膜位于棱镜上方,SiO2膜位于ITO膜上方,AlN膜位于SiO2膜上方,样品池呈圆环形位于AlN膜上方,磁流体位于样品池内部。
2.根据权利要求1所述的一种高灵敏度磁感应强度传感器,其特征在于所述的棱镜为Ge20Ga5Sb10S65棱镜。
3.根据权利要求1所述的一种高灵敏度磁感应强度传感器,其特征在于所述的ITO膜厚度为80-200nm。
4.根据权利要求1所述的一种高灵敏度磁感应强度传感器,其特征在于所述的SiO2膜厚度为200-2000nm。
5.根据权利要求1所述的一种高灵敏度磁感应强度传感器,其特征在于所述的AlN膜厚度为100-1000nm。
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