CN211956495U - 微透镜组件、指纹识别模组及电子设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种微透镜组件、指纹识别模组及电子设备。一种微透镜组件，包括透明基底，具有相对的第一表面和第二表面；透明基底的第一表面或第二表面若干个相互间隔的凸起；嵌入式遮光结构，填充于所述凸起之间形成的相对凹陷区域；微透镜阵列，包括若干个设于透明基底的第一表面且阵列排列的微透镜；微透镜为多边形微透镜，且相邻微透镜共边，且若干个所述微透镜整体无缝衔接；微透镜与凸起一一对应；在垂直于第一表面的方向，微透镜的中心轴与对应的凸起的中心轴重合；微透镜在透明基底上的投影的边缘全部落在相对凹陷区域，且与凸起有间隔；以及嵌入式遮光结构，填充于相对凹陷区域内。上述微透镜组件，通过嵌入式遮光结构可提高聚光效率。

Description

微透镜组件、指纹识别模组及电子设备

技术领域

本实用新型涉及微透镜领域，特别是涉及一种微透镜组件、镜头、摄像模组及电子设备。

背景技术

微透镜阵列是指若干个呈阵列状排布的微纳尺度的透镜。它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。然而，光透过微透镜后形成的图像的清晰度不一致，影响成像效果。

实用新型内容

基于此，有必要针提供一种可以提高成像效果的微透镜组件。

一种微透镜组件，包括：

透明基底，具有相对的第一表面和第二表面；所述透明基底的第一表面或第二表面若干个相互间隔的凸起；

嵌入式遮光结构，填充于所述凸起之间形成的相对凹陷区域；

微透镜阵列，包括若干个设于所述透明基底的第一表面且阵列排列的微透镜；所述微透镜为多边形微透镜，且相邻所述微透镜共边以使所述若干个微透镜整体无缝衔接；所述微透镜与所述凸起一一对应；在垂直于所述第一表面的方向，所述微透镜的中心轴与对应的所述凸起的中心轴重合；所述微透镜在所述透明基底上的投影的边缘全部落在所述相对凹陷区域，且与所述凸起有间隔。

上述微透镜组件，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

在其中一个实施例中，所述嵌入式遮光结构为环氧树脂遮光结构。环氧树脂遮光结构具有较好的吸光效果。

在其中一个实施例中，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述凸起的与所述透明基底平行的截面形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述凸起的截面的每个边缘均与对应的所述第一贴合面的相应侧的边缘平行，且若干个所述凸起的大小相同。从而使得每个微透镜对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜阵列组件形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜阵列组件的成像效果。

在其中一个实施例中，相邻两个凸起之间的距离大于3μm。可以比较好的遮挡入射角较大的杂光，得到较好的成像效果。

在其中一个实施例中，还包括设于所述透明基底的第二表面的第一遮光层；所述第一遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的第一镂空结构；在垂直于所述第一表面的方向，所述第一镂空结构的中心轴与对应的所述微透镜的中心轴重合；所述第一遮光层的未设置所述第一镂空结构的部分为第一遮光部，所述凸起在所述第一遮光层上的投影的边缘全部落在所述第一遮光层的第一遮光部上，且与所述第一镂空结构有间隔。第一遮光层的设置可以进一步遮挡透过透明基底的入射角较大的杂光。从而进一步提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成像效果。

在其中一个实施例中，所述第一遮光层的厚度为0.8μm～3μm。从而使得第一遮光层可较好地吸收入射角较大的杂光，且避免因第一遮光层的设置而过多的增加微透镜阵列组件的厚度。

在其中一个实施例中，所述第一遮光层为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层。钛层、铬层、硅层、二氧化硅层和碳化硅层均为吸光性较好的黑色遮光层。

在其中一个实施例中，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述第一镂空结构的形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述第一镂空结构的每个边缘均与对应的第一贴合面的相应侧的边缘平行，且若干个所述第一镂空结构的大小相同。从而使得每个微透镜对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜阵列组件形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜阵列组件的成像效果。

在其中一个实施例中，还包括设于所述透明基底的第一表面，且位于所述透明基底和所述微透镜阵列之间的第二遮光层；所述第二遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的第二镂空结构；在垂直于所述第一表面的方向，所述第二镂空结构的中心轴与对应的所述微透镜的中心轴重合；所述第二遮光层的未设置所述第二镂空结构的部分为第二遮光部，所述微透镜在所述第二遮光层上的投影的边缘完全落在所述第二遮光层的第二遮光部上，且与所述第二镂空结构有间隔；所述凸起在所述第二遮光层上的投影完全落在所述第二镂空结构上，且与所述第二镂空结构的边缘有间隔。第二遮光层的设置可以首先遮挡部分透过透明基底的入射角较大的杂光。从而进一步提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成像效果。

在其中一个实施例中，所述第二遮光层的厚度为0.8μm～3μm。从而使得第二遮光层可较好地吸收入射角较大的杂光，且避免因第二遮光层的设置而过多的增加微透镜阵列组件的厚度。

在其中一个实施例中，所述第二遮光层为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层。钛层、铬层、硅层、二氧化硅层和碳化硅层均为吸光性较好的黑色遮光层。

在其中一个实施例中，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述第二镂空结构的形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述第二镂空结构的每个边缘均与对应的所述第一贴合面的相应侧的边缘平行，且若干个所述第二镂空结构的大小相同。从而使得每个微透镜对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜阵列组件形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜阵列组件的成像效果。

在其中一个实施例中，相邻两个所述第二镂空结构之间的距离大于3μm。可以比较好的遮挡入射角较大的杂光，得到较好的成像效果。

在其中一个实施例中，每个所述微透镜均为正三角形微透镜、正方形微透镜或正六边形微透镜。结构简单，易成型。

本实用新型还提供一种指纹识别模组，其包括本实用新型提供的微透镜组件。

上述指纹识别模组，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

本实用新型还提供一种电子设备，其包括本实用新型提供的摄像模组。

上述电子设备，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的微透镜组件的俯视图。

图2为图1所示微透镜组件的M-M向剖视图。

图3为图1所示微透镜组件的仰视图。

图4为本实用新型另一实施例提供的微透镜组件的剖视图。

图5为本实用新型另一实施例提供的微透镜组件的剖视图。

图6为图5所示微透镜组件的仰视图。

图7为本实用新型另一实施例提供的微透镜组件的剖视图。

图8为图7中第二遮光层的俯视图。

图9为本实用新型另一实施例提供的微透镜组件的剖视图。

100/200/300/400/500、微透镜组件；110、透明基底；111、第一表面；113、第二表面；114、相对凹陷区域；1141、凸起；130、微透镜；150、第二遮光层； 151、第二镂空结构；160、嵌入式遮光结构；190、第一遮光层；191、第一镂空结构。

具体实施方式

发明人经研究发现：一般地，照射到微透镜组件上的入射光包括垂直光和非垂直光。垂直光透过微透镜和微透镜阵列后光强减弱很小，从而使得形成的图像的清晰度较高。而非垂直光通过微透镜组件时因发生折射，而导致非垂直光通过微透镜组件后光强减弱较多，从而使得形成的图像的清晰度较低。当垂直光和非垂直光同时存在，且非垂直光的入射至微透镜或透明基底时的入射角的范围较大时，将导致入射光透过微透镜组件后形成的图像的清晰度的一致性较弱，从而使得微透镜聚光效率较低，影响成像效果。

基于此，本实用新型提出一种微透镜组件，其包括：

透明基底，具有相对的第一表面和第二表面；透明基底的第一表面或第二表面若干个相互间隔的凸起；

嵌入式遮光结构，填充于凸起之间形成的相对凹陷区域；

微透镜阵列，包括若干个设于所述透明基底的第一表面且阵列排列的微透镜；所述微透镜为多边形微透镜，且相邻所述微透镜共边以使所述若干个微透镜整体无缝衔接；所述微透镜与所述凸起一一对应；在垂直于所述第一表面的方向，所述微透镜的中心轴与对应的所述凸起的中心轴重合；所述微透镜在所述透明基底上的投影的边缘全部落在所述相对凹陷区域处，且与所述凸起有间隔。

上述微透镜组件，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

需要说明的是，垂直光指与透明基底的入射面垂直的光，即与第一表面垂直的光。否则便为非垂直光。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”或“贴合”另一个元件，它可以是直接连接或贴合到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1至图3所示，本实用新型一实施例提供的微透镜组件100，包括透明基底110、微透镜130阵列以及嵌入式遮光结构160。

其中，透明基底110具有相对的第一表面111和第二表面113。透明基底 110的第二表面113若干个相互间隔的凸起1141，凸起1141之间形成相对凹陷区域114。微透镜130阵列包括若干个设于透明基底110的第一表面111且阵列排列的微透镜130。微透镜130为多边形微透镜130。相邻微透镜130共边以使若干个微透镜130整体无缝衔接。换言之，微透镜130阵列在透明基底110上的投影的中间无镂空现象。微透镜130与凸起1141一一对应。在垂直于第一表面111的方向，微透镜130的中心轴与对应的凸起1141的中心轴重合，参图2 中虚线m所示。微透镜130在透明基底110上的投影的边缘全部落在相对凹陷区域114，且与凹陷114的边缘有间隔，即与凸起1141有间隔。嵌入式遮光结构160填充于相对凹陷区域114内的。

本实施例中，微透镜130为正六边形微透镜130，一个微透镜130的与透明基底110贴合的表面为第一贴合面131。凸起1141的外径小于第一贴合面131 的内径，以使得微透镜130在透明基底110上的投影的边缘全部落在相对凹陷区域114处，且与相对凹陷区域114的边缘有间隔。

本实施例中，嵌入式遮光结构160填充相对凹陷区域114后与凸起1141的表面平齐。

上述微透镜组件100，通过嵌入式遮光结构160可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜130后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜 130聚光效率，即提高成像效果。

具体的，参图2所示，L1为垂直光，L2和L3均为非垂直光。其中，L2的入射角为a，L3的入射角为b。显然的，入射角b的大小大于入射角a的大小，即L3的入射角大于L2的入射角。换言之，越靠近微透镜130的边缘，入射光的入射角越大。相应的，越靠近微透镜的边缘，入射光射入微透镜后的折射损耗越大。本实施例中，L3为可射入微透镜130的入射角最大的光，即嵌入式遮光结构160可遮挡入射角大于b的杂光，即遮挡入射成像后清晰度较低的光，而入射角小于b的入射光入射成像的清晰度均大于等于入射光L3的入射成像的清晰度，从而提高微透镜130形成的图像清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成型效果。

再者，本实施例中，嵌入式遮光结构160遮挡入射角较大的杂光，可以有效缓解入射角较大的杂光折射至其它微透镜130的聚光位置，进而使得不同微透镜130之间的取样不会产生串扰，从而避免形成的图像出现视差现象。

具体地，本实施例中，相邻两个凸起1141关于对应的两个邻接的微透镜130 的邻接边对称。从而使得嵌入式遮光结构160的位于两个相邻凸起1141之间的部分，能对称的遮挡射入对应两个相邻微透镜130的入射角较大的杂光，进而使得两个相邻微透镜130的靠近彼此邻接边的一侧的聚光效率一致，进而避免通过微透镜组件100形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜组件100的成像效果。

可选地，参图3，相邻两个凸起1141之间的部分的宽度w1大于1μm，可以比较好的遮挡入射角较大的杂光，得到较好的成像效果。

进一步地，本实施例中，嵌入式遮光结构160的位于任何相邻两个凸起1141 之间的部分的宽度均相同，从而使得每个微透镜130对应的聚焦位置的聚光效率一致，进而提高微透镜组件100的整体成像效果。

可选地，嵌入式遮光结构160为环氧树脂遮光结构。环氧树脂遮光结构具有较好的吸光效果。可以理解的是，在另外可行的实施例中，嵌入式遮光结构 160不限于环氧树脂遮光结构，还可以是钛结构、铬结构、硅结构、二氧化硅结构或碳化硅结构等黑色遮光结构。

本实施例中，若干个微透镜130的大小和形状相同。

本实施例中，凸起1141的与透明基底110平行的截面形状与对应的第一贴合面131的形状相同，凸起1141的截面的每个边缘均与对应的第一贴合面131 的相应侧的边缘平行，且若干个凸起1141的大小相同。从而使得每个微透镜130 对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜组件100形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜组件100的成像效果。

可选地，参图3，相邻两个凸起1141之间的距离w1大于3μm，可以比较好的遮挡入射角较大的杂光，得到较好的成像效果。

需要说明的是，为了避免透明基底110的碎片化，相对凹陷区域114的深度小于透明基底110的厚度。

本实施例中，每个微透镜130均为正六边形微透镜，结构简单，易成型。当然，在另外可行的实施例中，微透镜130不限于正六边形微透镜，还可以是正三角形微透镜或正方形微透镜等多边形微透镜。

如图4所示，本实用新型另一实施例提供的微透镜组件200，其与微透镜组件100不同的是：相对凹陷区域114设于透明基底110的第一表面111。同样地，嵌入式遮光结构160填充在相对凹陷区域114内。第一遮光层190和嵌入式遮光结构160共同作用，同样可以更好的提高微透镜130的聚光效率，提高成像效果。

如图5和图6所示，本实新型另一实施例提供的微透镜组件300，与微透镜组件100不同的是：

微透镜组件300还包括设于透明基底110的第二表面113的第一遮光层190。第一遮光层190具有若干个与微透镜130一一对应的第一镂空结构191。在垂直于第一表面111的方向，第一镂空结构191的中心轴与对应的微透镜130的中心轴重合，参图5中虚线m。第一遮光层190的未设置第一镂空结构191的部分为第一遮光部，凸起1141在第一遮光层190上的投影全部落在第一遮光层190 的第一遮光部上，且与第一镂空结构191有间隔。

第一遮光层190可进一步遮挡部分射入透明基底110内的入射角较大的杂光。从而进一步提高入射光透过微透镜130后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜130的聚光效率，即提高成像效果。即第一遮光层190和嵌入式遮光结构160共同作用，可以更好的提高微透镜130的聚光效率，提高成像效果。

具体地，参图5，入射光L3射入微透镜后再射至第一遮光层190上，被第一遮光层190遮挡。本实施例中，入射光L4为射入微透镜后未被第一遮光层190 遮挡的入射角最小的光，且入射光L4的入射角小于嵌入式遮光结构160可遮挡的入射角最小的入射光的入射角。即第一遮光层190的设置可进一步遮挡入射角较大的杂光。换言之，第一遮光层190和嵌入式遮光结构160共同作用，可遮挡的入射光的最小入射角减小。从而进一步提高微透镜130形成的图像清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成型效果。

可选地，第一遮光层190的厚度为0.8μm～3μm，从而使得第一遮光层190可较好地吸收入射角较大的杂光，且避免因第一遮光层190的设置而过多的增加微透镜组件300的厚度。具体地，第一遮光层190的厚度可以为0.8μm、 0.9μm、1.0μm、1.2μm、1.4μm、1.6μm、1.8μm、2.0μm、2.2μm、2.4μ m、2.5μm、2.6μm、2.8μm、2.9μm或3μm。

可选地，第一遮光层190为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层。钛层、铬层、硅层、二氧化硅层和碳化硅层均为吸光性较好的黑色遮光层。第一遮光层190可通过蒸镀或涂覆光刻胶等方式形成。

当然，可以理解的是，在另外可行的实施例中，第一遮光层190不限于钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层，还可以是环氧树脂等黑色遮光层。同样的，第一遮光层190的厚度也不限于0.8μm～3μm，能达到较好的吸收光的性能即可。一般地，第一遮光层190的吸收光的形成达到93％以上的光密度，即可获得较好的成像效果。

本实施例中，第一镂空结构191的形状与对应的第一贴合面131的形状相同，且第一镂空结构191的每个边缘均与对应的第一贴合面131的相应侧的边缘平行，且若干个第一镂空结构191的大小相同。从而使得每个微透镜130对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜组件300形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜组件300的成像效果。

如图7和图8所示，本实新型另一实施例提供的微透镜组件400，与微透镜组件100不同的是：

微透镜组件400还包括设于透明基底110的第一表面111，且位于透明基底 110和微透镜130阵列之间的第二遮光层150。第二遮光层150具有若干个与微透镜130一一对应的第二镂空结构151。在垂直于第一表面111的方向，第二镂空结构151的中心轴与对应的微透镜130的中心轴重合，参图7中虚线m所示。即，在垂直于第一表面111的方向，第二镂空结构151的中心轴与对应的凸起的中心轴重合。第二遮光层150的未设置第二镂空结构151的部分为第二遮光部，微透镜130在第二遮光层150上的投影完全落在第二遮光层150的第二遮光部上，且与第二镂空结构151有间隔。凸起在所述第二遮光层150上的投影完全落在第二镂空结构151上，且与第二镂空结构151的边缘有间隔。

具体的，本实施例中，微透镜130为正六边形微透镜130。第二镂空结构 151的外径小于第一贴合面131的内径，以使得微透镜130在第二遮光层150上的投影完全落在第二遮光层150上，且与第二遮光层150的边缘有间隔。第二镂空结构151的内径大于凸起的外径，以使得凸起在所述第二遮光层150上的投影完全落在第二镂空结构151上，且与第二镂空结构151的边缘有间隔。

第二遮光层150的设置可以首先部分遮挡透过透明基底110的入射角较大的杂光。从而进一步提高入射光透过微透镜130后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜130的聚光效率，即提高成像效果。即第二遮光层150和嵌入式遮光结构160共同作用，可以更好的提高微透镜130的聚光效率，提高成像效果。

具体地，参图7，入射角小于L5的入射角的光射入微透镜后被第二遮光层 150遮挡。L5的入射角大于嵌入式遮光结构160可遮挡的入射角最小的入射光的入射角。大于L5的入射角的入射光，依次被第二遮光层150和嵌入式遮光结构160遮挡，从而能够更好的遮挡入射角较大的杂光。从而进一步提高微透镜 130形成的图像清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成型效果。

可选地，第二遮光层150的厚度为0.8μm～3μm。从而使得第二遮光层150 可较好地吸收入射角较大的杂光，且避免因第二遮光层150的设置而过多的增加微透镜组件400的厚度。具体地，第二遮光层150的厚度可以为0.8μm、0.9 μm、1.0μm、1.2μm、1.4μm、1.6μm、1.8μm、2.0μm、2.2μm、2.4μm、 2.5μm、2.6μm、2.8μm、2.9μm或3μm。

可选地，第二遮光层150为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层。钛层、铬层、硅层、二氧化硅层和碳化硅层均为吸光性较好的黑色遮光层。第二遮光层150可通过蒸镀或涂覆光刻胶等方式形成。

可以理解的是，第二遮光层150和第一遮光层190的厚度可以相同，也可以不同，同样地，形成第二遮光层150的材料和形成第一遮光层190的材料可相同，也可以不同。

本实施例中，微透镜130的与透明基底110贴合的表面为第一贴合面131。第二镂空结构151的形状与对应的第一贴合面131的形状相同，且第二镂空结构151的每个边缘均与对应的第一贴合面131的相应侧的边缘平行，且若干个第二镂空结构151的大小相同。从而使得每个微透镜130对应的聚光位置的边缘的聚光效率一致，进而避免通过微透镜组件400形成的图形的清晰度出现忽高忽低的现象，即提高微透镜组件400的成像效果。

可选地，参图8，相邻两个第二镂空结构151之间的部分的宽度w2大于3 μm，可以比较好的遮挡入射角较大的杂光，得到较好的成像效果。

如图9所示，本实用新型另一实施例提供的微透镜组件500，其与微透镜组件300不同的是：

微透镜组件500还包括设于透明基底110的第一表面111，且位于透明基底 110和微透镜130阵列之间的第二遮光层150。第二遮光层150具有若干个与微透镜130一一对应的第二镂空结构151。第二遮光层150的设置参考微透镜组件 400中的第二遮光层150的设置，此处不再赘述。

第二遮光层150、第一遮光层190和嵌入式遮光结构160共同作用，可以更好的遮挡入射角较大的杂光。从而进一步提高入射光透过微透镜130后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜130的聚光效率，即提高成像效果。

具体地，参图9，第二遮光层150可遮挡的入射角最小的光为L5，嵌入式遮光结构160可遮挡的入射角最小的光为入射光L3，第一遮光层190可遮挡的入射角最小的光为入射光L4。且入射光L5、入射光L3和入射光L4的入射角逐渐减小。从而第二遮光层150、第一遮光层190和嵌入式遮光结构160共同作用，可遮挡的入射光的最小入射角减小。从而进一步提高微透镜130形成的图像清晰度的一致性，提高微透镜的聚光效率，即提高成型效果。

当然，在另外可行的实施例中，与微透镜组件500不同的是，嵌入式遮光结构设于透明基底的第一表面，参考微透镜组件200中嵌入式遮光结构160的设置，此处不再赘述。

可以理解的是，微透镜组件200、微透镜组件300、微透镜组件400、微透镜组件500、微透镜组件600和微透镜组件700的俯视图均与微透镜组件100的俯视图相同。

本实用新型一实施例还提供一种指纹识别模组，其包括本实用新型提供的微透镜组件。

上述指纹识别模组，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

本实用新型一实施例还提供一种电子设备，其包括本实用新型提供的摄像模组。

上述电子设备，通过嵌入式遮光结构可以遮挡入射角较大的杂光，从而提高入射光透过微透镜后形成的图像的清晰度的一致性，提高微透镜聚光效率，即提高成像效果。

具体的，电子设备可以是手机、相机或平板电脑等。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (13)

1.一种微透镜组件，其特征在于，包括：

透明基底，具有相对的第一表面和第二表面；所述透明基底的第一表面或第二表面设有若干个相互间隔的凸起；

嵌入式遮光结构，填充于所述凸起之间形成的相对凹陷区域；

微透镜阵列，包括若干个设于所述透明基底的第一表面且阵列排列的微透镜；所述微透镜为多边形微透镜，且相邻所述微透镜共边以使所述若干个微透镜整体无缝衔接；所述微透镜与所述凸起一一对应；在垂直于所述第一表面的方向，所述微透镜的中心轴与对应的所述凸起的中心轴重合；所述微透镜在所述透明基底上的投影的边缘全部落在所述相对凹陷区域，且与所述凸起有间隔。

2.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述嵌入式遮光结构为环氧树脂遮光结构。

3.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述凸起的与所述透明基底平行的截面形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述凸起的截面的每个边缘均与对应的所述第一贴合面的相应侧的边缘平行。

4.根据权利要求3所述的微透镜组件，其特征在于，相邻两个凸起之间的距离大于3μm。

5.根据权利要求3所述的微透镜组件，其特征在于，还包括设于所述透明基底的第二表面的第一遮光层；所述第一遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的第一镂空结构；在垂直于所述第一表面的方向，所述第一镂空结构的中心轴与对应的所述微透镜的中心轴重合；所述第一遮光层的未设置所述第一镂空结构的部分为第一遮光部，所述凸起在所述第一遮光层上的投影的边缘全部落在所述第一遮光层的第一遮光部上，且与所述第一镂空结构有间隔。

6.根据权利要求5所述的微透镜组件，其特征在于，所述第一遮光层为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层；和/或，所述第一遮光层的厚度为0.8μm～3μm。

7.根据权利要求5所述的微透镜组件，其特征在于，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述第一镂空结构的形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述第一镂空结构的每个边缘均与对应的所述第一贴合面的相应侧的边缘平行，且若干个所述第一镂空结构的大小相同。

8.根据权利要求1至7任一项所述的微透镜组件，其特征在于，还包括设于所述透明基底的第一表面，且位于所述透明基底和所述微透镜阵列之间的第二遮光层；所述第二遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的第二镂空结构；在垂直于所述第一表面的方向，所述第二镂空结构的中心轴与对应的所述微透镜的中心轴重合；所述第二遮光层的未设置所述第二镂空结构的部分为第二遮光部，所述微透镜在所述第二遮光层上的投影的边缘完全落在所述第二遮光层的第二遮光部上，且与所述第二镂空结构有间隔；所述凸起在所述第二遮光层上的投影的边缘完全落在所述第二镂空结构上，且与所述第二镂空结构的边缘有间隔。

9.根据权利要求8所述的微透镜组件，其特征在于，所述第二遮光层为钛层、铬层、硅层、二氧化硅层或碳化硅层；和/或，所述第二遮光层的厚度为0.8μm～3μm。

10.根据权利要求8所述的微透镜组件，其特征在于，所述微透镜的与所述透明基底贴合的表面为第一贴合面；所述第二镂空结构的形状与对应的所述第一贴合面的形状相同，所述第二镂空结构的每个边缘均与对应的所述第一贴合面的相应侧的边缘平行，且若干个所述第二镂空结构的大小相同。

11.根据权利要求10所述的微透镜组件，其特征在于，相邻两个所述第二镂空结构之间的距离大于3μm。

12.一种指纹识别模组，其特征在于，包括权利要求1至11任一项所述的微透镜组件。

13.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求12所述的指纹识别模组。

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