CN211889863U - 数控转台及其密封结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种数控转台及其密封结构,密封结构包括气道及密封环,气道开设于转台壳体上,密封环固定安装在转台壳体上且位于转台壳体与工作台之间,密封环与工作台之间具有间隙,密封环朝向转台壳体的一面开设有通气槽,通气槽与气道相连通,通气槽的侧壁上开设有通气孔,通气孔与间隙相连通。因此,向气道内通入气体,气体进入通气槽内,并通过通气孔吹向密封环与工作台之间的间隙处,在密封环与工作台之间的间隙处形成正压气幕,有效避免外界水汽或杂质粉尘通过间隙进入内部,提高了密封性能。而且本方案中通过在转台壳体与工作台之间增加一密封环,通过密封环上的通气槽和通气孔来对气体进行导流而形成气幕密封结构,密封效果更好。
Description
技术领域
本实用新型涉及数控转台密封结构技术领域,特别是涉及一种数控转台及其密封结构。
背景技术
数控转台是五轴联动加工中心的核心功能部件,常用于与机床的三轴或四轴配合,用来加工复杂零件。传统的数控转台,其密封结构效果不好,外界的水汽和杂质粉尘容易从工作台与转台壳体之间的间隙进入内部,导致内部的转子、定子和其他零件受到污染而影响性能。
实用新型内容
基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种可以有效提高密封性能的数控转台及其密封结构。
一种数控转台的密封结构,包括:
气道,开设于转台壳体上;及
密封环,固定安装在所述转台壳体上,所述密封环位于所述转台壳体与工作台之间,且所述密封环与所述工作台之间具有间隙,所述密封环朝向所述转台壳体的一面开设有通气槽,所述通气槽与所述气道相连通,所述通气槽的侧壁上开设有通气孔,所述通气孔与所述间隙相连通。
在其中一个实施例中,所述通气槽为环形凹槽。
在其中一个实施例中,所述密封环包括固定部、凸台部及阻挡部,所述凸台部位于所述固定部与所述阻挡部之间,所述固定部上开设有固定孔,所述通气槽开设于所述凸台部的底部,所述阻挡部与所述工作台之间形成容置空间,所述容置空间内设有密封圈。
在其中一个实施例中,所述环形凹槽具有内侧壁、外侧壁和底壁,所述内侧壁与所述外侧壁相对设置,所述底壁位于所述内侧壁与所述外侧壁之间,所述通气孔开设于所述外侧壁上且贯穿所述凸台部的侧面。
在其中一个实施例中,所述密封圈为V形密封圈,所述V形密封圈的唇边与所述阻挡部相抵,所述V形密封圈的唇口朝向所述凸台部的侧面,以使所述V形密封圈、所述工作台及所述凸台部共同围成一积液空间。
在其中一个实施例中,所述固定部的底部开设有凹槽,所述凹槽内设置有O型密封圈。
在其中一个实施例中,所述O型密封圈位于所述固定孔与所述通气槽之间。
在其中一个实施例中,所述凸台部的顶面高于所述固定部的顶面及所述阻挡部的顶面,以使所述工作台与所述密封环之间形成迷宫式间隙。
在其中一个实施例中,所述气道包括第一气道段及第二气道段,所述第一气道段与所述第二气道段相互垂直相交设置;或者所述第一气道段与所述第二气道段呈夹角相交设置。
一种数控转台,包括转台壳体、转轴、工作台及如上任一项所述的数控转台的密封结构,所述转轴可转动地设置于所述转台壳体内,所述工作台安装于所述转轴的一端。
上述数控转台的密封结构至少具有以下优点:
气道开设于转台壳体上,密封环固定安装在转台壳体上且位于转台壳体与工作台之间,密封环与工作台之间具有间隙,密封环朝向转台壳体的一面开设有通气槽,通气槽与气道相连通,通气槽的侧壁上开设有通气孔,通气孔与间隙相连通。因此,向气道内通入气体,气体进入通气槽内,并通过通气孔吹向密封环与工作台之间的间隙处,在密封环与工作台之间的间隙处形成正压气幕,有效避免外界水汽或杂质粉尘通过间隙进入内部,提高了密封性能。而且本方案中通过在转台壳体与工作台之间增加一密封环,通过密封环上的通气槽和通气孔来对气体进行导流而形成气幕密封结构,密封效果更好。
附图说明
图1为一实施方式中的数控转台的结构示意图;
图2为图1的剖视图;
图3为图2中A处的局部放大图。
图中:10、数控转台;100、五轴组件;200、四轴组件;110、转台壳体;120、转轴;130、工作台;210、四轴壳体;220、四轴转轴;310、气道;320、密封环;330、通气槽;340、通气孔;311、第一气道段;312、第二气道段;313、接头;321、固定部;322、凸台部;323、阻挡部;324、固定孔;325、紧固件;326、V形密封圈;327、积液空间;328、凹槽;329、O型密封圈。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
请参阅图1及图2,一实施方式中的数控转台10,包括五轴组件100、数控转台10的密封结构(以下简称密封结构)及四轴组件200,五轴组件100包括转台壳体110、转轴120及工作台130,转轴120可转动地设置于转台壳体110内,工作台130安装于转轴120的一端,转轴120转动以带动工作台130转动。四轴组件200包括四轴壳体210及四轴转轴220,四轴转轴220可转动地设置于四轴壳体210内,转台壳体110安装于四轴转轴220的一端,四轴转轴220转动以带动转台壳体110摆动,进而带动整个五轴组件100摆动。本实施方式中,以数控转台10为直驱双轴转台为例作为说明。当然,在其他的实施方式中,数控转台还可以为五轴转台,或者为四轴转台。
请一并参阅图3,密封结构包括气道310及密封环320,气道310开设于转台壳体110上。密封环320固定安装于转台壳体110上,密封环320位于转台壳体110与工作台130之间,且密封环320与工作台130之间具有间隙。密封环320朝向转台壳体110的一面开设有通气槽330,通气槽330与气道310相连通,通气槽330的侧壁上开设有通气孔340,通气孔340与间隙相对应。
因此,向气道310内通入气体,气体进入通气槽330内,并通过通气孔340吹向密封环320与工作台130之间的间隙处,在密封环320与工作台130之间的间隙处形成正压气幕,有效避免外界水汽或杂质粉尘通过间隙进入内部,提高了密封性能。而且本方案中通过在转台壳体110与工作台130之间增加一密封环320,通过密封环320上的通气槽330和通气孔340来对气体进行导流而形成气幕密封结构,密封效果更好。
具体地,气道310包括第一气道段311及第二气道段312,第一气道段311与第二气道段312相互垂直相交设置。例如,第一气道段311沿水平方向延伸设置,第二气道段312沿竖直方向延伸设置。第一气道段311的一端连接有接头313,第二气道段312的一端与通气槽330相连通。因此,第二气道段312连通通气槽330后由第一气道段311水平方向从转台壳体110的侧面引出,相较于传统直接通过第二气道段312沿竖直方向从底面引出的方式,本实施方式中第二气道段312的长度更短,因此可以有效增强转台壳体110的强度,而且第一气道段311从转台壳体110的侧面连接接头313,接头313再通过中空的四轴转轴220引出,布局方式更合理,防止气管暴露于外面而遭到损坏。当然,在其他的实施方式中,第一气道段也可以与第二气道段呈夹角相交设置,例如呈锐角或者呈钝角。
进一步地,通气槽330为环形凹槽。对应地,通气孔340的数量可以为多个,多个通气孔340沿周向间隔分布。密封环320包括固定部321、凸台部322及阻挡部323,凸台部322位于固定部321与阻挡部323之间,固定部321上开设有固定孔324,通过将紧固件325穿设于固定孔324内,以将密封环320固定于转台壳体110上。通气槽330开设于凸台部322的底部,因此,通气槽330的槽口朝向气道310,向气道310内通入的气体会由槽口进入通气槽330内。阻挡部323与工作台130之间形成容置空间,容置空间内设置有密封圈。当气幕密封方式启动、未启动或失效时,密封圈可以起到进一步密封作用。
进一步地,环形凹槽具有内侧壁、外侧壁和底壁,内侧壁与外侧壁相对设置,底壁位于内侧壁与外侧壁之间,通气孔340开设于外侧壁上且贯穿凸台部322的侧面。
具体地,密封圈为V形密封圈326,V形密封圈326的唇边与阻挡部323相抵,V形密封圈326的唇口朝向凸台部322的侧面,以使V形密封圈326、工作台130及凸台部322共同围成一积液空间327。因此,即使外界水汽通过间隙进入内部,也会被阻挡在积液空间327内,防止水汽透过轴承而进入内部空间对定子和转子等零部件造成损坏。
进一步地,固定部321的底部开设有凹槽328,凹槽328内设置有O型密封圈329。O型密封圈329主要对密封环320与转台壳体110之间起密封作用。具体地,O型密封圈329位于固定孔324与通气槽330之间,可以在起到密封作用的同时,防止O型密封圈329从密封环320与转台壳体110之间脱落。
进一步地,凸台部322的顶面高于固定部321的顶面及阻挡部323的顶面,以使工作台130与密封环320之间形成迷宫式间隙。因此,可以延长外界水汽或粉尘杂质进入内部的路径,减小水汽或粉尘杂质进入内部的概率。
气幕密封结构对外界水汽或粉尘杂质起到一道阻挡作用,迷宫式间隙对外界水汽或粉尘杂质起到另一道阻挡作用,积液空间327对外界水汽或粉尘杂质起到第三道阻挡作用,因此,能够进入内部的外界水汽或粉尘杂质微乎其微,达到了较好的密封效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种数控转台的密封结构,其特征在于,包括:
气道,开设于转台壳体上;及
密封环,固定安装在所述转台壳体上,所述密封环位于所述转台壳体与工作台之间,且所述密封环与所述工作台之间具有间隙,所述密封环朝向所述转台壳体的一面开设有通气槽,所述通气槽与所述气道相连通,所述通气槽的侧壁上开设有通气孔,所述通气孔与所述间隙相连通。
2.根据权利要求1所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述通气槽为环形凹槽。
3.根据权利要求2所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述密封环包括固定部、凸台部及阻挡部,所述凸台部位于所述固定部与所述阻挡部之间,所述固定部上开设有固定孔,所述通气槽开设于所述凸台部的底部,所述阻挡部与所述工作台之间形成容置空间,所述容置空间内设有密封圈。
4.根据权利要求3所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述环形凹槽具有内侧壁、外侧壁和底壁,所述内侧壁与所述外侧壁相对设置,所述底壁位于所述内侧壁与所述外侧壁之间,所述通气孔开设于所述外侧壁上且贯穿所述凸台部的侧面。
5.根据权利要求3所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述密封圈为V形密封圈,所述V形密封圈的唇边与所述阻挡部相抵,所述V形密封圈的唇口朝向所述凸台部的侧面,以使所述V形密封圈、所述工作台及所述凸台部共同围成一积液空间。
6.根据权利要求3所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述固定部的底部开设有凹槽,所述凹槽内设置有O型密封圈。
7.根据权利要求6所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述O型密封圈位于所述固定孔与所述通气槽之间。
8.根据权利要求3所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述凸台部的顶面高于所述固定部的顶面及所述阻挡部的顶面,以使所述工作台与所述密封环之间形成迷宫式间隙。
9.根据权利要求1至8任一项所述的数控转台的密封结构,其特征在于,所述气道包括第一气道段及第二气道段,所述第一气道段与所述第二气道段相互垂直相交设置;或者所述第一气道段与所述第二气道段呈夹角相交设置。
10.一种数控转台,其特征在于,包括转台壳体、转轴、工作台及如权利要求1至9任一项所述的数控转台的密封结构,所述转轴可转动地设置于所述转台壳体内,所述工作台安装于所述转轴的一端。
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CN202020009709.9U CN211889863U (zh) | 2020-01-03 | 2020-01-03 | 数控转台及其密封结构 |
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Cited By (2)
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CN114055341A (zh) * | 2021-11-16 | 2022-02-18 | 上海发那科机器人有限公司 | 一种应用于湿式打磨抛光场景的防水转台 |
CN115255524A (zh) * | 2022-09-28 | 2022-11-01 | 山东豪迈机械科技股份有限公司 | 数控转台及数控机床 |
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- 2020-01-03 CN CN202020009709.9U patent/CN211889863U/zh active Active
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