CN211828679U - 一种用于真空等离子体设备的进气管结构 - Google Patents
一种用于真空等离子体设备的进气管结构 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体，所述腔体内壁设置一个或多个进气管，每个进气管对应两个位于腔体上的进气口，每个进气管上均设有多个出气孔，本实用新型提出的进气管结构优化腔体内进气分布，可以获得更好的腔体内气体均匀性，最终得到更好的等离子处理效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体技术领域，具体是一种用于真空等离子体设备的进气管结构。
背景技术
真空等离子设备主要由真空腔体，真空获得系统，气体输送系统，等离子发生系统与控制系统组成。
在现有技术中，真空等离子体设备的真空腔结构如图1所示，包括形成腔体的腔体壁、进气孔及抽气口。其中，进气孔常位于腔体的顶部或侧面，数量可以是一至多个，当进气孔在两个以上时，这些进气孔通常由前端的一个主路进气口分为多个进气孔，常见做法如图2。靠近主气路的进气孔1会比远离主气路的进气孔n分得明显多的气体，气体流量会从进气孔1至进气孔n逐渐降低，从而导致较差的腔体内气体均匀性。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种用于真空等离子体设备的进气管结构，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体，所述腔体内壁设置一个或多个进气管，每个进气管对应两个位于腔体上的进气口，每个进气管上均设有多个出气孔。
作为本实用新型的进一步方案：每个进气管上的出气孔数量不少于2个。
作为本实用新型的进一步方案：所述腔体上与进气口相对的面上设有排气口。
作为本实用新型的进一步方案：每个进气管对应两个进气口在使用时需要同时通气。
作为本实用新型的进一步方案：所述进气管两端结构对称。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型提出的进气管结构优化腔体内进气分布，可以获得更好的腔体内气体均匀性，最终得到更好的等离子处理效果。
附图说明
图1是现有真空腔结构图。
图2是现有真空腔进气口设置图。
图3是本实用新型结构图。
图4是本实用新型真空腔进气口设置图。
图中：1-腔体、2-进气管、3-进气口、4-排气口、5-出气孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图3和4，实施例1：本实用新型实施例中，一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体1，所述腔体1内壁设置一个或多个进气管2，每个进气管2对应两个位于腔体1上的进气口3，每个进气管2上均设有多个出气孔5，使气体能够均匀地从出气孔5流出，各出气孔5之间出气量差异较小。
图4是进气分配盘的实施例一；与图2中方案相比，图4中方案将气体从单向流动转变为双向进气，由于进气管两端结构对称，进气管位于中部气孔与两端气孔流量的差异会比图2方案明显降低，从而提升获得更好的腔体气体分布均匀性。
实施例2：在实施例1的基础上，每个进气管2上的出气孔4数量不少于2个。腔体1上与进气口3相对的面上设有排气口4。每个进气管2对应两个进气口3在使用时需要同时通气。进气管2两端结构对称。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (5)
1.一种用于真空等离子体设备的进气管结构，包括腔体（1），其特征在于，所述腔体（1）内壁设置一个或多个进气管（2），每个进气管（2）对应两个位于腔体（1）上的进气口（3），每个进气管（2）上均设有多个出气孔（5）。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的进气管结构，其特征在于，每个进气管（2）上的出气孔（5）数量不少于2个。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的进气管结构，其特征在于，所述腔体（1）上与进气口（3）相对的面上设有排气口（4）。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的进气管结构，其特征在于，每个进气管（2）对应两个进气口（3）在使用时需要同时通气。
5.根据权利要求4所述的一种用于真空等离子体设备的进气管结构，其特征在于，所述进气管（2）两端结构对称。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202020567756.5U CN211828679U (zh) | 2020-04-16 | 2020-04-16 | 一种用于真空等离子体设备的进气管结构 |
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Publications (1)
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| CN211828679U true CN211828679U (zh) | 2020-10-30 |
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Family Applications (1)
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| CN202020567756.5U Active CN211828679U (zh) | 2020-04-16 | 2020-04-16 | 一种用于真空等离子体设备的进气管结构 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-04-16 CN CN202020567756.5U patent/CN211828679U/zh active Active
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