CN211786583U - 一种光刻图形版 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种光刻图形版,包括透明的基版,所述基版的一个表面设有图形层,所述图形层由多个光学零件图形构成;所述图形层中,相邻光学零件图形之间留有间隙。本实用新型的光刻图形版在应用时,光学零件图形的脱铬及崩边率大大的降低,提高了切割的良品率,降低了生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种光刻图形版。
背景技术
一般的,在制作光学零件时,需先在镀铬的玻璃基底的表面根据图形设计,利用光刻机,形成镀铬(遮光)与透光交替出现,从而显现所需光学零件图形,形成光刻图形版;然后,通过激光切割的方式将一个个光学零件从光刻图形版上切出。
通过上述方法形成的现有的光刻图形版中,光学零件图形的周围会有多余的铬层,例如,对于带有圆形光学零件的光刻图形版,光刻图形版中圆形零件常会出现镀铬图形区域与外圆相连情况,激光切割外圆时,由于激光切割会形成0.1mm左右宽的切缝,切割到有镀铬图形的区域会造成图形表面的铬层脱落,也容易造成零件的边缘崩边,切割完成后,需挑选圆形零件边缘铬膜脱落少,崩边少的零件出货,如此,良率低,报废率高。更具体地,如图1和图2所示,一种现有的光刻图形版,其具有基版1,基版上设有多个呈矩形阵列式排布的光学零件图形2,每个光学零件图形2均被多余的铬层3包围,切割时,需要沿光学零件图形2与其周围的铬层3之间的界线切割,如此容易导致零件边缘铬膜脱落或边缘崩边,降低良品率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的不足,提供一种新型光刻图形版,该种光刻图形版的应用可有效解决切割过程中光学零件图形铬膜易脱落、零件易崩边的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:
一种光刻图形版,包括透明的基版,所述基版的一个表面设有图形层,所述图形层由多个光学零件图形构成;所述图形层中,相邻光学零件图形之间留有间隙。
进一步地,所述多个光学零件图形呈阵列排布。
进一步地,所述间隙的最小宽度不小于0.2mm,预留激光切割时,需要切除的部分,保证能得到完整的光学零件。
进一步地,所述基版由玻璃制成。
可选的,基版的厚度为1-10mm。
可选的,所述图形层的厚度为50-500μm。
进一步地,所述光学零件呈圆形。
一般的,光学零件图形包括实体部分和实体部分周围的镂空部分。可选的,实体部分由铬制成。
本实用新型改变了传统的光刻图形版中光学零件的切割和设计的方式,传统光刻图形版都是遮光基底,光学零件图形区域内的非零件实体部分透光,光学零件图形区域外遮光,激光只能由透光部分透过,不利于零件的切割和保护;本实用新型通过对光刻图形版的重新设计,使得光学零件的切割过程中,激光与铬层的接触几率大大减小,能减少图形的铬层脱落及崩边,也使切割的过程更单且易于操作。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1.简单易操作,不需要做大规模的设备及生产工艺的变更;
2.光学零件图形的脱铬及崩边率大大的降低,提高了切割的良品率,降低了生产成本。
附图说明
图1是一种现有光刻图形版的俯视图。
图2是沿图1中A-A线的剖视图。
图3是本实用新型的一种光刻图形版的俯视图。
图4是沿图3中B-B线的剖视图。
具体实施方式
以下将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。为叙述方便,下文中如出现“上”、“下”、“左”、“右”字样,仅表示与附图本身的上、下、左、右方向一致,并不对结构起限定作用。
参见图3和图4,一种光刻图形版,包括透明的基版1,所述基版1的一个表面设有图形层,所述图形层由多个光学零件图形2构成;所述图形层中,相邻光学零件图形2之间留有间隙。
所述多个光学零件图形2呈方形阵列排布,具体地,分为4排、4列,每排设有4个光学零件图形2,每列设有4个光学零件图形。所述基版由玻璃制成。光学零件呈圆形。相邻光学零件图形2之间的最小距离为0.2mm。
采用本实用新型的光刻图形版时,在切割时根据光学零件的直径要求和制版设计图纸,设置激光切割路径,进行切割,切割过程中激光不与铬层接触。光刻图形版由传统黑色的遮光底版变更为白色透光底版,有利于激光切割的操作,有效减少图形铬膜脱落及崩边。
上述实施例阐明的内容应当理解为这些实施例仅用于更清楚地说明本实用新型,而不用于限制本实用新型的范围,在阅读了本实用新型之后,本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落入本申请所附权利要求所限定的范围。
Claims (5)
1.一种光刻图形版,包括透明的基版(1),所述基版(1)的一个表面设有图形层,所述图形层由多个光学零件图形(2)构成;其特征在于,所述图形层中,相邻光学零件图形(2)之间留有间隙。
2.根据权利要求1所述的光刻图形版,其特征在于,所述多个光学零件图形(2)呈阵列排布。
3.根据权利要求1所述的光刻图形版,其特征在于,所述间隙的最小宽度不小于0.2mm。
4.根据权利要求1所述的光刻图形版,其特征在于,所述基版由玻璃制成。
5.根据权利要求1所述的光刻图形版,其特征在于,所述光学零件呈圆形。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202020662009.XU CN211786583U (zh) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 一种光刻图形版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202020662009.XU CN211786583U (zh) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 一种光刻图形版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN211786583U true CN211786583U (zh) | 2020-10-27 |
Family
ID=72957705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202020662009.XU Active CN211786583U (zh) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 一种光刻图形版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN211786583U (zh) |
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2020
- 2020-04-27 CN CN202020662009.XU patent/CN211786583U/zh active Active
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