CN211689233U - 一种金属管件内壁镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种金属管件内壁镀膜系统，包括：镀膜电源、固定装置、抽真空装置、左阳极板、右阳极板、工艺气路管道以及基座；工艺气路管道为一接地的导电性管道，与左、右阳极板共同组合以形成闭合阳极；通电状态下，工艺气体被离化为正离子和电子，在待沉积管件的内壁重新组合形成所需固态膜层。本实用新型提供的金属管件内壁镀膜系统，利用工艺气路管道参与阳极系统，与左、右阳极板共同组合，形成闭合阳极系统，在待沉积管件内形成均匀的电场分布，同时利用左、右抽气腔体真空控制系统维持待沉积管道内部气体的均匀分布，实现待沉积管件内壁固态膜层的均匀化，提高所形成的固态膜层的质量，以便应用于要求较高的场合。

Description

一种金属管件内壁镀膜系统

技术领域

本实用新型涉及金属镀膜技术领域，更具体地说，涉及一种金属管件内壁镀膜系统。

背景技术

在工业和农业应用中，存在大量器件需要适用于特殊的使用场合，特殊的使用场合对器件内壁性能提出了更高的要求，如输水输油的管道需要内壁有优异的耐磨损、耐腐蚀性能；飞机发动机舱需要管道内壁有优异的耐磨损、耐高温性能等。为满足这些内壁性能需求，直接加强器件整体的材料性能固然可以，但投资巨大，所以对其内壁表面进行改性是比较优选的方案，既能满足性能需求又可控制成本。现行的能对内壁改性的方式有很多，如化学镀、电镀，但污染大，对环境影响恶劣，又如N离子注入形成氮化物膜，但效率慢，膜层薄；而采用真空镀膜方式的PECVD技术来沉积所需薄膜是既洁净效率又高的一种技术，属于比较合适的选择。

PECVD技术是在低气压条件下，将工艺腔体的阴极连接负电压产生辉光放电，利用辉光放电一方面使样品升温；一方面将阴极周边工艺气体离化成为正离子和电子，其中正离子受电场力驱动在阴极表面组合成为所需的固态膜层。

目前采用PECVD技术实现金属内壁镀膜的很多，但大多设备简陋，通过简单的技术手段将管道内部实现真空状态，再将管道接上一个负高压同时内部通入工艺气体进行反应沉积。此种方式虽可实现膜层沉积，但过于粗糙；当管长：管径＜5时勉强可行，当管长：管径>5时，管内壁在沉积时因为各部位气体和电场分布不均匀会导致膜层沉积的厚度不均匀，所沉积的膜层只能应用在一些要求不高的场合。

综上所述，如何提供一种镀膜质量较高的金属管件内壁镀膜系统，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种金属管件内壁镀膜系统，可以使镀膜层厚度沉积均匀，以提高镀膜质量。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种金属管件内壁镀膜系统，包括：

镀膜电源，所述镀膜电源的正极接地、负极与待沉积管件连接，用于提供电能；

固定装置，用于固定所述镀膜电源的接线端头并支撑所述待沉积管件；

抽真空装置，用于对所述待沉积管件内进行抽真空操作；

左阳极板，设置于所述待沉积管件的左端；

右阳极板，设置于所述待沉积管件的右端；

气路管道，用于为所述待沉积管件内提供工艺气体、且接地设置的导电性管道，所述气路管道贯穿所述待沉积管件的长度方向设置，且一端与所述左阳极板连接、另一端与所述右阳极板连接，以形成闭合阳极，使所述待沉积管件内的电场均匀分布；

基座，用于安装所述镀膜电源、所述固定装置、所述抽真空装置、所述左阳极板、所述右阳极板和所述气路管道；

所述抽真空装置与所述待沉积管件连通；通电状态下，所述工艺气体被离化为正离子和电子，所述正离子在电场力驱动下在所述待沉积管件的内壁形成固态膜层。

优选的，所述气路管道位于所述待沉积管件内部的部分设置有多个出气孔，且所述出气孔自所述气路管道的进气端至出气端沿所述气路管道的长度方向由疏至密分布，以使所述工艺气体在所述待沉积管件内均匀分布。

优选的，所述出气孔在所述气路管道的周向均匀分布。

优选的，所述气路管道的中心轴线与所述待沉积管件的中心轴线重合。

优选的，所述抽真空装置包括与所述待沉积管件的一端连通的左抽气设备、与所述待沉积管件的另一端连通的右抽气设备以及与所述左抽气设备和所述右抽气设备均连接的真空抽气泵组，且所述左抽气设备与所述右抽气设备关于所述待沉积管件的长度方向的中间截面对称设置。

优选的，所述左抽气设备包括左抽气腔、用于检测所述左抽气腔真空度的左复合真空计以及用于调节抽气速率的左比例调节阀；

所述右抽气设备包括右抽气腔、用于检测所述右抽气腔真空度的右复合真空计以及用于调节所述抽气速率的右比例调节阀；

所述左比例调节阀和所述右比例调节阀均与所述真空抽气泵组连接。

优选的，所述固定装置包括与所述待沉积管件的一端连接的左固定座以及与所述待沉积管件的另一端连接的右固定座；

所述左固定座与所述左抽气设备连通，所述右固定座与所述右抽气设备连通，所述左固定座和所述右固定座均设置有通孔，以使所述左抽气设备通过所述左固定座与所述待沉积管件的一端连通，所述右抽气设备通过所述右固定座与所述待沉积管件的另一端连通。

优选的，所述左抽气设备和所述右抽气设备中的一者固设于所述基座，所述左固定座与所述左抽气设备连接，所述左抽气设备和所述右抽气设备中的另一者可滑动的设置于所述基座，所述右固定座与所述右抽气设备连接。

优选的，所述左固定座与所述右固定座之间通过拉杆连接，所述拉杆的两端均设置有用于使所述左固定座与所述右固定座相互靠近或远离的螺母。

优选的，所述左抽气腔与所述左固定座的连接处、所述左固定座与所述待沉积管件的连接处、所述右抽气腔与所述右固定座的连接处以及所述右固定座与所述沉积管件的连接处均设置有用于密封的密封圈。

本实用新型提供的金属管件内壁镀膜系统，包括：镀膜电源，镀膜电源的正极接地、负极与待沉积管件连接，用于提供电能；固定装置，用于固定镀膜电源的接线端头并支撑待沉积管件；抽真空装置，用于对待沉积管件内进行抽真空操作；左阳极板，设置于待沉积管件的左端；右阳极板，设置于待沉积管件的右端；气路管道，用于为待沉积管件内提供工艺气体、且接地设置的导电性管道，气路管道贯穿待沉积管件的长度方向设置，且一端与左阳极板连接、另一端与右阳极板连接，以形成闭合阳极，使待沉积管件内的电场均匀分布；基座，用于安装镀膜电源、固定装置、抽真空装置、左阳极板、右阳极板和气路管道；抽真空装置与待沉积管件连通；通电状态下，工艺气体被离化为正离子和电子，正离子在电场力驱动下在待沉积管件的内壁形成固态膜层。

使用实用新型例提供的金属管件内壁镀膜系统对待沉积管件进行镀膜时，可以首先通过固定装置将传输过来的镀膜电源的接线端头进行固定，保证镀膜电源的引线能够便捷、紧密的接入金属管件，方便更换管件的操作，并对待沉积管件进行支撑；然后使用抽真空装置对待沉积管件内部进行抽真空操作，使待沉积管件内部形成真空环境，接通镀膜电源，使待沉积管件与镀膜电源的负极连接，气路管道接地且与镀膜电源的正极连接，待沉积管件产生辉光放电现象，利用辉光放电一方面使待沉积管件升温，另一方面将阴极周边工艺气体离化为正离子和电子，其中正离子受电场力驱动在待沉积管件的内表面形成所需的固态膜层。

相比于现有技术，本实用新型提供的金属管件内壁镀膜系统中的抽气方式，由传统的对待沉积管件进行单端抽气优化为同时对待沉积管件两端抽气并加以控制，管件内部气体分布更加均匀并可以数据化，气路管道穿过待沉积管件的长度方向设置，且伸出待沉积管件的一端与左阳极板连接，另一端与右阳极板连接，形成闭合阳极系统，可以在待沉积管件内形成均匀的电场分布，有利于实现待沉积管件内壁固态膜层的均匀化，提高所形成的固态膜层的质量，尤其是在管长与管径之比大于5的情况下，可以提高待沉积管件内部形成的固态膜层质量，使待沉积管件内部所形成的固态膜层能够应用于要求较高的场合。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本实用新型所提供的金属管件内壁镀膜系统的部分结构的具体实施例的结构示意图；

图2为本实用新型所提供的金属管件内壁镀膜系统的具体实施例的正示图；

图3为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统的轴测图；

图4为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统的后视图；

图5为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统中左固定座与待沉积管件的连接示意图。

图1-5中：

1为待沉积管件、2为气路管道、3为绝缘板、31为橡胶或金属密封件、32为密封圈、41为左阳极板、42为右阳极板、51为左固定座、511为金属连接板、52为右固定座、61为左抽气腔、611为腔体法兰、62为右抽气腔、63为左复合真空计、64为右复合真空计、65为左比例调节阀、66为右比例调节阀、7为波纹管、8为镀膜电源、81为电极连接座、9为拉杆、10为真空抽气泵组。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的核心是提供一种金属管件内壁镀膜系统，在镀膜的过程中可以产生均匀分布的电场，使待沉积管件内部的固态膜层更加均匀。

请参考图1-5，图1为本实用新型所提供的金属管件内壁镀膜系统的部分结构的具体实施例的结构示意图；图2为本实用新型所提供的金属管件内壁镀膜系统的具体实施例的正示图；图3为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统的轴测图；图4为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统的后视图；图5为图2中所提供的金属管件内壁镀膜系统中左固定座与待沉积管件的连接示意图。

本具体实施例提供的金属管件内壁镀膜系统，包括：镀膜电源8，镀膜电源8的正极接地、负极与待沉积管件1连接，用于提供电能；固定装置，用于固定镀膜电源8的接线端头并支撑待沉积管件1；抽真空装置，用于对待沉积管件1内进行抽真空操作；左阳极板41，设置于待沉积管件1的左端；右阳极板42，设置于待沉积管件1的右端；气路管道2，用于为待沉积管件1内提供工艺气体、且接地设置的导电性管道，气路管道2贯穿待沉积管件1的长度方向设置，且一端与左阳极板41连接、另一端与右阳极板42连接，以形成闭合阳极，使待沉积管件1内的电场均匀分布；基座，用于安装镀膜电源8、固定装置、抽真空装置、左阳极板、右阳极板和气路管道2；抽真空装置与待沉积管件1连通；通电状态下，工艺气体被离化为正离子和电子，正离子在电场力驱动下在待沉积管件1的内壁形成固态膜层。

需要进行说明的是，气路管道2贯穿设置于待沉积管件1的内部，是指气路管道2的两端均伸出待沉积管件1设置，优选的，可以将气路管道2的一端固定于质量流量控制器，另一端穿过待沉积管件1之后固定于左抽气枪底部的支架，或者是固定于套筒。

使用本具体实施例提供的金属管件内壁镀膜系统对待沉积管件1进行镀膜时，可以首先通过固定装置将传输过来的镀膜电源8的接线端头进行固定，保证镀膜电源8的引线能够便捷、紧密的接入金属管件，方便更换管件的操作，并对待沉积管件1进行支撑，然后使用抽真空装置对待沉积管件1内部进行抽真空操作，使待沉积管件1内部形成真空环境，接通镀膜电源8，使待沉积管件1与镀膜电源8的负极连接，气路管道2接地且与镀膜电源8的正极连接，待沉积管件1产生辉光放电现象，利用辉光放电一档变使待沉积管件1升温，另一方面将阴极周边工艺气体离化为正离子和电子，其中正离子受电场力驱动在待沉积管件1的内表面形成所需的固态膜层。

相比于现有技术，本具体实施例提供的金属管件内壁镀膜系统中的气路管道2穿过待沉积管件1的长度方向设置，且伸出待沉积管件1的一端与左阳极板41连接，另一端与右阳极板42连接，形成闭合阳极系统，可以在待沉积管件1内形成均匀的电场分布，有利于实现待沉积管件1内壁固态膜层的均匀化，提高所形成的固态膜层的质量，尤其是在管长与管径之比大于5的情况下，可以使待沉积管件1内部所形成的固态膜层应用于要求较高的场合。

在上述实施例的基础上，为了进一步提到待沉积管件1内部的镀膜效果，可以在气路管道2位于待沉积管件1内部的部分设置多个出气孔，且出气孔自气路管道2的进气端至出气端由疏至密分布，以使工艺气体在待沉积管件1内均匀分布。

需要进行说明的是，在进气端气路管道2内的压力较大，随着气路管道2中的气体的流动，气路管道2内越接近出气端的地方压力越小，为了使待沉积管件1内的工艺气体能够均匀分布，可以使出气孔自气路管道2的进气端至出气端沿其长度方向由疏至密分布，出气孔的数量需要根据气路管道2的长度确定；此处提到的由疏至密是指在气路管道2的长度方向，至气路管道2的进气端至出气端，沿其长度方向相邻的两出气孔之间的间距逐渐变小，以使待沉积管件1长度方向各个位置的工艺气体均匀分布。

优选的，出气孔的尺寸相同，且均为圆形孔。

在上述实施例的基础上，为了使工艺气体在待沉积管件1长度方向的同一位置的周向能够均匀分布，可以使出气孔在气路管道2的周向均匀分布。

需要进行说明的是，此处提到的出气孔在气路管道2的周向均匀分布，是指多个出气孔在气路管道2的周向均匀分布，这多个出气孔可以位于气路管道2长度方向的不同位置。

优选的，可以使气路管道2的中心轴线与待沉积管件1的中心轴线重合，以使由出气孔排出的工艺气体在待沉积管件1中均匀分布。

在上述实施例的基础上，为了提高待沉积管件1长度方向的各个位置真空度的一致性，可以使抽真空装置包括与待沉积管件1的一端连通的左抽气设备、与待沉积管件1的另一端连通的右抽气设备以及与左抽气设备和右抽气设备均连接的真空抽气泵组10，且左抽气设备与右抽气设备关于待沉积管件1的长度方向的中间截面对称设置。

在进行抽真空操作的过程中，可以使左抽气设备与右抽气设备同时工作，为保证左抽气设备与右抽气设备内的真空度相同，可设置相关控制设备，控制左抽气设备与右抽气设备工作，避免因待沉积管件1长度过长而真空度不均匀，进一步提高镀膜质量。

在上述实施例的基础上，可以使左抽气设备包括左抽气腔61、用于检测左抽气腔61真空度的左复合真空计63以及用于调节抽气速率的左比例调节阀65；右抽气设备包括右抽气腔62、用于检测右抽气腔62真空度的右复合真空计64以及用于调节抽气速率的右比例调节阀66，左比例调节阀65和右比例调节阀66均与真空抽气泵组10连接。

左抽气腔61、右抽气腔62，用于控制待沉积管件1左右两端真空度，依靠腔体上安装的复合真空计和比例调节阀组成的真空控制系统，在工艺进行过程中维持管件左右两端真空度在工艺所需范围内，配合工艺输气管路，实现待沉积管件1内部气体分布均匀一致。

需要进行说明的是，本申请文件中提到的左抽气腔61固定设置，右抽气腔62相对于左抽气腔61可移动设置，以适应不同长度的待沉积管件1，左抽气腔61安装有左复合真空计63，右抽气腔62安装有右复合真空计64，左抽气腔61的后端安装有左比例调节阀65，右抽气腔62的后端安装有右比例调节阀66，左比例调节阀65和右比例调节阀66可以通过调节内部通道的直径来调节抽气速率；且左比例调节阀65和右比例调节阀66均通过抽气管道与真空抽气泵组10连接；在使用的过程中，可以通过左复合真空计63监控左抽气腔61的真空度，通过右复合真空计64监控右抽气腔62的真空度，并将真空度数值传送到控制系统，在工艺过程中，提前为左抽气腔61和右抽气腔62设定具体的真空度数值，当左复合真空计63所测得的实际真空度数值小于左抽气腔61设定值或右复合真空计64所测得的实际真空度数值小于右抽气腔62设定值时，系统改变比例调节阀开合角度，开启角度大，真空抽气泵组10对左腔体或右腔体的抽气速率提高，左腔体或右腔体的压力下降，反之减小开启角度，抽气速率降低，左腔体或右腔体的压力升高。复合真空计负责监控实际真空度并与系统设定真空度进行比较，而比例调节阀负责执行最终获得所需真空度，共同组合实现控制。

优选的，左抽气腔61与右抽气腔62通过可伸缩的波纹管7连接，以适应不同长度的待沉积管件1。

在上述实施例的基础上，可以使固定装置包括与待沉积管件1的一端连接的左固定座51以及与待沉积管件1的另一端连接的右固定座52；左固定座51与左抽气设备连通，右固定座52与右抽气设备连通，左固定座51和右固定座52均设置有通孔，以使左抽气设备通过左固定座51与待沉积管件1的一端连通，右抽气设备通过右固定座52与待沉积管件1的另一端连通。

优选的，左固定座51和右固定座52均设置有用于与待沉积管件1配合连接的金属连接板511，且金属连接板511可拆卸设置，当与不同尺寸的待沉积管件1配合时，只需要更换金属连接板511即可。

如图5所示，左固定座51包括设置于左阳极板41厚度方向两侧的绝缘板3，以及与待沉积管件1配合的金属连接板511，绝缘板3与左阳极板41之间设置有密封圈32，金属连接板511与待沉积管件1之间通过橡胶或金属密封件31密封连接；右固定座52的结构与左固定座51的结构相同，且与左固定座51关于待沉积管件1的长度方向的中间截面对称设置。

优选的，左抽气腔61与左固定座51之间、右抽气腔62与右固定座52之间均通过腔体法兰611连接，且腔体法兰与绝缘板3之间设置有密封圈32。

在上述实施例的基础上，可以还包括用于安装镀膜电源8、固定装置、抽真空装置、左阳极板、右阳极板和气路管道2的基座；左抽气设备和右抽气设备中的一者固设于基座，左固定座51与左抽气设备连接，左抽气设备和右抽气设备中的另一者可滑动的设置于基座，右固定座52与右抽气设备连接。

优选的，可以将左固定座51与右固定座52之间通过拉杆9连接，拉杆9的两端均设置有用于使左固定座51与右固定座52相互靠近或远离的螺母，以方便快捷的对待沉积管件1进行装卸。

需要进行说明的是，左固定座51及右固定座52内部的中空结构的尺寸略小于待沉积管件1的内径，但是大于气路管道2的外径，左固定座51与右固定座52通过拉杆9紧固之后，左抽气腔61、左固定座51、待沉积管件1、右固定座52、右抽气腔62内部连通为一体，并依靠密封连接与外部隔离，维持良好的密封性。

如图5所示，在左阳极板41和右阳极板42均设置用于使拉杆9穿过的通孔，拉杆9的数量可以是1个、2个、3个或多个，具体根据实际情况确定，在此不做赘述；旋拧拉杆9两端的螺母，可以使左阳极板41和右阳极板42相互靠近，直至待沉积管件1的两端与左固定座51、右固定座52均密封连接。

优选的，可以在左抽气腔61与左固定座51的连接处、左固定座51与待沉积管件1的连接处、右抽气腔62与右固定座52的连接处以及右固定座52与沉积管件的连接处均设置有用于密封的密封圈32。

需要进行说明的是，待沉积管件1通过电极连接座81与镀膜电源8连接，电极连接座81分为两个部分，连接镀膜电源8的负极和待沉积管件1的部分为良好的导体，比如银或者铜，而其余部分均为有一定强度的高绝缘材质，比如陶瓷，电木等。

另外，气路管道2的一端固定在质量流量控制器的出气口上，另一端只需保证穿过待沉积管件1，端口可以随意采用便捷方式托住，可以通过固定在左抽气腔61底部的支架托住，亦可以是套筒托住固定。气路管道2和端部阳极板的接地均靠统一的接地线接上即可。端部阳极板加待沉积管件1内部的气路管道2已经形成闭合的阳极系统，伸出待沉积管件1的气路管道2对沉积区域的电场影响非常细微到忽略不计，因此可以随意配置，无需考虑太多对称性问题，端部阳极板指左阳极板41与右阳极板42。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。本实用新型所提供的所有实施例的任意组合方式均在此实用新型的保护范围内，在此不做赘述。

以上对本实用新型所提供的金属管件内壁镀膜系统进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，包括：

镀膜电源(8)，所述镀膜电源(8)的正极接地、负极与待沉积管件(1)连接，用于提供电能；

固定装置，用于固定所述镀膜电源(8)的接线端头并支撑所述待沉积管件(1)；

抽真空装置，用于对所述待沉积管件(1)内进行抽真空操作；

左阳极板(41)，设置于所述待沉积管件(1)的左端；

右阳极板(42)，设置于所述待沉积管件(1)的右端；

气路管道(2)，用于为所述待沉积管件(1)内提供工艺气体、且接地设置的导电性管道，所述气路管道(2)贯穿所述待沉积管件(1)的长度方向设置，且一端与所述左阳极板(41)连接、另一端与所述右阳极板(42)连接，以形成闭合阳极，使所述待沉积管件(1)内的电场均匀分布；

基座，用于安装所述镀膜电源(8)、所述固定装置、所述抽真空装置、所述左阳极板(41)、所述右阳极板(42)和所述气路管道(2)；

所述抽真空装置与所述待沉积管件(1)连通；通电状态下，所述工艺气体被离化为正离子和电子，所述正离子在电场力驱动下在所述待沉积管件(1)的内壁形成固态膜层。

2.根据权利要求1所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述气路管道(2)位于所述待沉积管件(1)内部的部分设置有多个出气孔，且所述出气孔自所述气路管道(2)的进气端至出气端沿所述气路管道(2)的长度方向由疏至密分布，以使所述工艺气体在所述待沉积管件(1)内均匀分布。

3.根据权利要求2所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述出气孔在所述气路管道(2)的周向均匀分布。

4.根据权利要求2所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述气路管道(2)的中心轴线与所述待沉积管件(1)的中心轴线重合。

5.根据权利要求1-4任一项所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述抽真空装置包括与所述待沉积管件(1)的一端连通的左抽气设备、与所述待沉积管件(1)的另一端连通的右抽气设备以及与所述左抽气设备和所述右抽气设备均连接的真空抽气泵组(10)，且所述左抽气设备与所述右抽气设备关于所述待沉积管件(1)的长度方向的中间截面对称设置。

6.根据权利要求5所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述左抽气设备包括左抽气腔(61)、用于检测所述左抽气腔(61)真空度的左复合真空计(63)以及用于调节抽气速率的左比例调节阀(65)；

所述右抽气设备包括右抽气腔(62)、用于检测所述右抽气腔(62)真空度的右复合真空计(64)以及用于调节所述抽气速率的右比例调节阀(66)；

所述左比例调节阀(65)和所述右比例调节阀(66)均与所述真空抽气泵组(10)连接。

7.根据权利要求6所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述固定装置包括与所述待沉积管件(1)的一端连接的左固定座(51)以及与所述待沉积管件(1)的另一端连接的右固定座(52)；

所述左固定座(51)与所述左抽气设备连通，所述右固定座(52)与所述右抽气设备连通，所述左固定座(51)和所述右固定座(52)均设置有通孔，以使所述左抽气设备通过所述左固定座(51)与所述待沉积管件(1)的一端连通，所述右抽气设备通过所述右固定座(52)与所述待沉积管件(1)的另一端连通。

8.根据权利要求7所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述左抽气设备和所述右抽气设备中的一者固设于所述基座，所述左固定座(51)与所述左抽气设备连接，所述左抽气设备和所述右抽气设备中的另一者可滑动的设置于所述基座，所述右固定座(52)与所述右抽气设备连接。

9.根据权利要求8所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述左固定座(51)与所述右固定座(52)之间通过拉杆(9)连接，所述拉杆(9)的两端均设置有用于使所述左固定座(51)与所述右固定座(52)相互靠近或远离的螺母。

10.根据权利要求7所述的金属管件内壁镀膜系统，其特征在于，所述左抽气腔(61)与所述左固定座(51)的连接处、所述左固定座(51)与所述待沉积管件(1)的连接处、所述右抽气腔(62)与所述右固定座(52)的连接处以及所述右固定座(52)与所述沉积管件的连接处均设置有用于密封的密封圈(32)。

Images