CN211683857U

CN211683857U - 辐射制冷膜

Info

Publication number: CN211683857U
Application number: CN201922493934.4U
Authority: CN
Inventors: 徐绍禹; 杨慧慧; 高开; 王明辉
Original assignee: Ningbo Ruiling New Energy Technology Co ltd
Current assignee: Ningbo Ruiling New Energy Technology Co ltd; Ningbo Radi Cool Advanced Energy Technologies Co Ltd
Priority date: 2019-12-31
Filing date: 2019-12-31
Publication date: 2020-10-16
Anticipated expiration: 2029-12-31

Abstract

本实用新型涉及一种辐射制冷膜，包括层叠设置的第一粘接层、低光泽度保护层以及用于反射光线并将热量通过大气窗口进行发射的辐射制冷层，第一粘接层设于辐射制冷层与低光泽度保护层之间。由于辐射制冷层上设置有低光泽度保护层，低光泽度保护层可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，这样可以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。此外，将低光泽度保护层设置在辐射制冷层外，低光泽度保护层可以有效地保护辐射制冷层，防止辐射制冷层被刮蹭，从而延长辐射制冷膜的辐射制冷的效果。当太阳光照射在该辐射制冷膜的表面时，辐射制冷层可以反射大多数太阳光，同时将热量以大气窗口波段的红外辐射的方式传递至外太空，以降低建筑物的室内温度。

Description

辐射制冷膜

技术领域

本实用新型涉及辐射制冷技术领域，特别是涉及一种辐射制冷膜。

背景技术

辐射制冷膜是一种可以调节温度的薄膜，其具有无能耗、无污染的优点，被广泛应用于节能建材、光伏产业、户外用品等领域。在建筑领域，通常将辐射制冷膜贴附在建筑物的玻璃外墙上，辐射制冷膜可以反射太阳光，并将热量以大气窗口波段的红外辐射的方式传递至外太空，以降低建筑物的室内温度。但是，传统辐射制冷膜的镜面反射较明显，容易引起光污染。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种辐射制冷膜，能够减少镜面反射的光线，从而减少光污染。

一种辐射制冷膜，包括层叠设置的第一粘接层、低光泽度保护层以及用于反射光线并将热量通过大气窗口进行发射的辐射制冷层，所述第一粘接层设于所述辐射制冷层与所述低光泽度保护层之间，所述第一粘接层能够将所述低光泽度保护层连接于所述辐射制冷层。

上述辐射制冷膜至少具有以下优点：

上述方案提供一种辐射制冷膜，通过第一粘接层将低光泽度保护层设置在辐射制冷层的表面。由于辐射制冷层上设置有低光泽度保护层，低光泽度保护层可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。此外，将低光泽度保护层设置在辐射制冷层外，低光泽度保护层可以有效地保护辐射制冷层，防止辐射制冷层被刮蹭，以延长辐射制冷膜的辐射制冷的效果。当太阳光照射在该辐射制冷膜的表面上时，辐射制冷层可以反射部分太阳光，同时将热量以大气窗口波段的红外辐射的方式传递至外太空，以降低建筑物的室内温度。

下面进一步对技术方案进行说明：

在其中一个实施例中，所述低光泽度保护层为压花保护层，所述压花保护层包括基层，所述基层上设置有压花结构。

在其中一个实施例中，所述压花保护层的压花深度为0.5μm～2.5μm。

在其中一个实施例中，所述压花保护层的压花结构为方形、圆形、菱形、斜纹形中的一种或多种。

在其中一个实施例中，所述低光泽度保护层包括基层以及亚光涂层，所述第一粘接层设于所述基层与所述辐射制冷层之间，所述亚光涂层设置于所述基层的表面。

在其中一个实施例中，所述亚光涂层的厚度为5μm～30μm。

在其中一个实施例中，所述低光泽度保护层的厚度为12μm～75μm。

在其中一个实施例中，辐射制冷膜还包括第二粘接层，所述第二粘接层与所述第一粘接层相对设置在所述辐射制冷层的表面。

在其中一个实施例中，所述第二粘接层的厚度为10μm～70μm。

在其中一个实施例中，辐射制冷膜还包括离型层，所述离型层用于设置在所述第二粘接层背离所述辐射制冷层的表面。

在其中一个实施例中，所述第一粘接层的厚度为3μm～15μm。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的辐射制冷膜的结构示意图；

图2为本实用新型另一实施例的辐射制冷膜的结构示意图。

附图标记说明：

10、辐射制冷层，20、第一粘接层，30、低光泽度保护层，31、压花，32、基层，33、亚光涂层，40、第二粘接层，50、离型层。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

请参阅图1和图2，一实施例中的辐射制冷膜，包括辐射制冷层10、第一粘接层20以及低光泽度保护层30。辐射制冷层10用于反射光线并将热量通过大气窗口进行发射，第一粘接层20设于辐射制冷层10与低光泽度保护层30之间，第一粘接层20能够将低光泽度保护层30连接于辐射制冷层10。

需要说明的是，本申请中的辐射制冷层10包括层叠设置的高分子层与反射层，其中高分子层中具有分散均匀的无机颗粒，高分子层用于将热量以8μm至13μm大气窗口波段的电磁波向外辐射，实现被动式降温功能，反射层用于对太阳光进行反射，避免物体表面积累热量，优选地，本申请中的反射层为金属反射层，更优选地，反射层为银白色的金属反射层。

上述的辐射制冷膜，通过第一粘接层20将低光泽度保护层30设置在辐射制冷层10的表面。由于辐射制冷层10上设置有低光泽度保护层30，低光泽度保护层30可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。此外，将低光泽度保护层30设置在辐射制冷层10外，低光泽度保护层30可以有效地保护辐射制冷层10，防止辐射制冷层10被刮蹭，以延长辐射制冷膜的辐射制冷的效果。当太阳光照射在该辐射制冷膜的表面上时，辐射制冷层10可以反射部分太阳光，同时将热量以大气窗口波段的红外辐射的方式传递至外太空，以降低建筑物的室内温度。

需要说明的是，降低辐射制冷膜的表面光泽度是相对于普通的辐射制冷膜而言的。具体地，采用60°角测量辐射制冷膜的表面光泽度，若表面光泽度值低于60GU为低光泽度。通过低光泽度保护层30可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，减少镜面反射的光线，从而减少光污染。

可以理解的是，第一粘接层20设有至少两个粘接面，其中两个粘接面相对设置。通过第一粘接层20将低光泽度保护层30粘接在辐射制冷层10上，使得辐射制冷层10、第一粘接层20以及低光泽度保护层30依次层叠设置，以形成上述的辐射制冷膜。使用时，低光泽度保护层30位于最外层，通过低光泽度保护层30可以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。具体地，辐射制冷层10粘接在第一粘接层20的其中一个粘接面上，低光泽度保护层30粘接在第一粘接层20的另外一个粘接面上。在本实施例中，第一粘接层20为复合胶层，复合胶层的胶黏剂为聚丙烯酸胶黏剂、聚氨酯胶黏剂、环氧树脂胶黏剂中的一种或多种。

进一步地，第一粘接层20的厚度为3μm～15μm。在该厚度范围内的第一粘接层20，一方面可以将低光泽度保护层30牢固地粘接在辐射制冷层10上，同时可以保证辐射制冷膜的厚度适中；另一方面，第一粘接层20不会影响辐射制冷层10的辐射制冷效果。在本实施例中，第一粘接层20的厚为3μm～10μm。

在一个实施例中，请参阅图1，上述的低光泽度保护层30为压花保护层，压花保护层包括基层32，基层32上设置有压花结构。通过在辐射制冷层10上设置压花保护层，可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，这样可以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。同时，在辐射制冷层10外设置基层32，可以有效地保护辐射制冷层10，防止辐射制冷层10被刮蹭，以延长辐射制冷膜的辐射制冷的效果。相比于普通的辐射制冷膜而言，设有压花保护层的辐射制冷膜还可以减少对光线的镜面反射，同时压花保护层对辐射制冷膜的热量发射效果并无影响。

在本实施例中，低光泽度保护层30中的基层32为薄膜层，该薄膜层为PEN薄膜层、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜层、PI(聚酰亚胺)薄膜层、PE(聚乙烯)薄膜层、PVDF(聚偏二氟乙烯)薄膜层、PP(聚丙烯)薄膜层、PVC(聚氯乙烯)薄膜层中的至少一种。

进一步地，压花保护层中的压花31深度为0.5μm～2.5μm。通过在基材上设置压花结构，可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，这样可以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。压花31的深度在该范围内的压花保护层，既可以减少镜面反射的光线，而且压花保护层也不会影响辐射制冷膜的辐射制冷效果。具体地，随着压花保护层中压花31深度的增加，辐射制冷膜的表面光泽度越来越低，辐射制冷膜对光线的反射率也越来越低，并且压花保护层的压花31深度对辐射制冷层10的辐射制冷效果并无显著影响。

具体地，低光泽度保护层30在生产加工的过程中，在流延膜头的位置处将镜面辊更换为磨砂辊，液体保护层材料经流延膜头挤出，并流至磨砂辊的表面，经冷却后形成压花保护层。该压花保护层表面的纹路与磨砂辊表面的纹路相同，这样可以降低辐射制冷膜的表面光泽度。在生产低光泽度保护层30的过程中，可以设置一个磨砂辊，这样基材的一个表面设置有压花结构，以形成单面压花保护层。当然，也可以设置两个磨砂辊，这样基材的两个表面均设置有压花结构，以形成双面压花保护层。经实验得出双面压花保护层的表面光泽度低于单面压花保护层的表面光泽度，使用者可以根据实际需求选用单面压花保护层或双面压花保护层。

上述的压花保护层的压花结构为方形、圆形、菱形、斜纹形中的一种或多种。由于低光泽度保护层30的压花31形状不同，则辐射制冷膜的表面光泽度也不相同，但不同压花31形状的低光泽度保护层30均可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，使用者可以根据实际需求设置不同形状的压花结构，不以此为限。

在另一个实施例中，请参阅图2，低光泽度保护层30包括基层32以及亚光涂层33。第一粘接层20设置于辐射制冷层10与基层32之间，亚光涂层33设置于基层32的表面。可以理解的是，基层32通过第一粘接层20粘接在辐射制冷层10上，亚光涂层33涂覆在基层32背离辐射制冷层10的表面。通过在基层32上设置亚光涂层33，可以降低辐射制冷膜的表面光泽度，这样可以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。优选地，亚光涂层33的厚度为5μm～30μm。同时，在辐射制冷层10外设置基层32，基层32可以起到保护辐射制冷层10的作用，可以有效地防止辐射制冷层10被刮蹭，从而延长辐射制冷膜的辐射制冷效果。当然，低光泽度保护层30也可以通过调整材料配方来降低辐射制冷膜的表面光泽度，在此对材料配方不做具体说明。

进一步地，低光泽度保护层30的厚度为12μm～75μm。在该厚度范围内的低光泽度保护层30，一方面可以有效地保护辐射制冷层10，防止辐射制冷层10被刮蹭，从而延长辐射制冷膜的辐射制冷效果；另一方面可以使得辐射制冷膜具有低光泽度的表面，以减少镜面反射的光线，从而减少光污染。

在一个实施例中，请参阅图1和图2，辐射制冷膜还包括第二粘接层40。第二粘接层40设于辐射制冷层10的表面，第二粘接层40与第一粘接层20相对设置。具体地，第一粘接层20与第二粘接层40分别设置在辐射制冷层10的两个表面，且第一粘接层20与第二粘接层40相对设置，这样低光泽度保护层30、第一粘接层20、辐射制冷层10和第二胶粘层40依次层叠设置，以形成上述的辐射制冷膜。可以理解的是，第二粘接层40设置有至少两个粘接面，其中一个粘接面用以粘接在辐射制冷层10的表面，其中另一个粘接面用以粘接在应用对象上，例如通过第二粘接层40可以将辐射制冷膜粘接在建筑物的玻璃外墙的外表面，以降低建筑物的室内温度。在本实施例中，上述的第二粘接层40的胶黏剂为聚丙烯酸胶黏剂、聚氨酯胶黏剂、环氧树脂胶黏剂、硅胶中的一种或多种。

具体地，第二粘接层40的厚度为10μm～70μm。在该厚度范围内的第二粘接层40，一方面可以牢固地粘接辐射制冷层10的表面；另一方面可以将辐射制冷层10牢固地粘接在应用对象的表面。在本实施例中，第二粘接层40的厚度为30μm～50μm。

进一步地，请参阅图1和图2，辐射制冷膜还包括离型层50，离型层50用于设置在第二粘接层40背离辐射制冷层10的表面。使用时，从第二粘接层40上撕下离型层50，通过第二粘接层40可以将辐射制冷层10粘接在应用对象上。可以理解的是，第二粘接层40的其中一个粘接面用以粘接在辐射制冷层10上，第二粘接层40的其中另一个粘接面用以将辐射制冷层10粘接在应用对象上，离型层50设置在第二粘接层40的背离辐射制冷层10的粘接面上。通过在第二粘接层40上设置离型层50，可以有效地保护第二粘接层40，防止第二粘接层40因失去粘性而无法粘接在应用对象上。

在本实施例中，上述的离型层50为薄膜层，薄膜层用于保护第二粘接层40，可以防止第二粘接层40失去粘性而无法粘接在应用对象上，同时薄膜层的成本较低，相对于其他的离型层材料，可以降低辐射制冷膜的制造成本。

针对上述实施例进行相关实验，实验内容如下：

光泽度表征的是物体表面的特性，表述的是具有方向选择的反射性质，它的大小取决于物体表面对光的镜面反射能力。通过光泽度测试仪测试辐射制冷膜的表面光泽度，测试角度一般有三个，分别为20°、60°以及85°，通常根据国标，采用60°角测量辐射制冷膜的表面光泽度，光泽度在40GU～60GU的范围内称为半亚光，光泽度低于30GU称为全亚。

其中，第1组实验采用厚度为25um的PI保护层，对PI保护层进行单面低光泽度处理前与处理后的结果对比；第2组实验采用厚度为50um的PVDF保护层，对PVDF保护层进行单面低光泽度处理前与处理后的结果对比；第3组实验采用厚度为36um的PEN保护层，对PEN保护层进行双面低光泽度处理前与处理后的结果对比，并对处理后的薄膜在300nm至2500nm的反射率以及在8μm至13μm之间的发射率进行测试。

试验数据具体如下：

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种辐射制冷膜，其特征在于，包括层叠设置的第一粘接层、低光泽度保护层以及用于反射光线并将热量通过大气窗口进行发射的辐射制冷层，所述第一粘接层设于所述辐射制冷层与所述低光泽度保护层之间，所述第一粘接层能够将所述低光泽度保护层连接于所述辐射制冷层。

2.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述低光泽度保护层为压花保护层，所述压花保护层包括基层，所述基层设置有压花结构。

3.根据权利要求2所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述压花保护层的压花深度为0.5μm～2.5μm。

4.根据权利要求2或3所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述压花保护层的压花结构为方形、圆形、菱形、斜纹形中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述低光泽度保护层包括基层以及亚光涂层，所述第一粘接层设于所述基层与所述辐射制冷层之间，所述亚光涂层设置于所述基层的表面。

6.根据权利要求5所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述亚光涂层的厚度为5μm～30μm。

7.根据权利要求1至3任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述低光泽度保护层的厚度为12μm～75μm。

8.根据权利要求1至3任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，还包括第二粘接层，所述第二粘接层与所述第一粘接层相对设置在所述辐射制冷层的表面。

9.根据权利要求8所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述第二粘接层的厚度为10μm～70μm。

10.根据权利要求8所述的辐射制冷膜，其特征在于，还包括离型层，所述离型层用于设置在所述第二粘接层背离所述辐射制冷层的表面。

11.根据权利要求1至3任一项所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述第一粘接层的厚度为3μm～15μm。