CN211629036U - 一种等离子体刻蚀机用匀气盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩，所述安装罩顶端旋转安装有衔接管，所述安装罩底端旋转安装有衔接罩，所述衔接罩内部底端开设有安装槽，所述安装槽内旋转安装有供气盒，所述供气盒底端表面镶嵌有均气盘，本实用新型通过供气盒顶端表面镶嵌的一号进气管和二号进气管，便利于通过一号进气管和二号进气管不同的口径来改变气体进入供气盒内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体刻蚀机配件领域，具体为一种等离子体刻蚀机用匀气盘。
背景技术
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
而等离子刻蚀机在进行气体输送时，需要使用匀气盘将气体均匀的输送至其内部刻蚀中。
但是，现有的等离子体刻蚀机用匀气盘存在以下缺点：
1、现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，安装不便，无法进行拆卸维护。
2、现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，无法对气体进行过滤，而且由于供气管道气压的影响，导致其无法进行均匀供气作业。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种等离子体刻蚀机用匀气盘，以解决上述背景技术中现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，安装不便，无法进行拆卸维护，现有的等离子体刻蚀机用匀气盘，无法对气体进行过滤，而且由于供气管道气压的影响，导致其无法进行均匀供气作业的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩，所述安装罩顶端旋转安装有衔接管，所述安装罩底端旋转安装有衔接罩，所述衔接罩内部底端开设有安装槽，所述安装槽内旋转安装有供气盒，所述供气盒底端表面镶嵌有均气盘。
优选的，所述安装罩旋转安装有定位环，通过安装罩旋转安装的定位环，便利于将安装罩通过定位环配合螺栓安装在等离子体刻蚀机内，提高了整个装置的安装稳定性。
优选的，所述衔接管表面滑扣安装有密封环，通过衔接管表面滑扣安装的密封环，便利于提高衔接管与气体供给管道之间的密封性，避免气体的泄漏影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
优选的，所述供气盒顶端表面镶嵌有一号进气管和二号进气管，所述二号进气管位于一号进气管两侧，且二号进气管口径大于一号进气管口径，通过供气盒顶端表面镶嵌的一号进气管和二号进气管，便利于通过一号进气管和二号进气管不同的口径来改变气体进入供气盒内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
优选的，所述安装罩内部卡扣安装有过滤网，所述安装罩顶端表面旋转安装有密封塞，通过安装罩内部卡扣安装的过滤网，便利于对进入安装罩内的气体进行过滤，从而避免气体中夹杂杂物导致杂物进入等离子体刻蚀机内对等离子体刻蚀机造成损坏以及影响等离子体刻蚀操作的情况出现，通过安装罩顶端表面旋转安装的密封塞，便利于打开安装罩，对安装罩内部进行清理维护。
优选的，所述均气盘表面镶嵌有内盘，所述均气盘与内盘表面均开设有气孔，通过均气盘表面镶嵌的内盘，可配合均气盘对工件所需深度刻蚀的部位提供气体，从而提高刻蚀效果。
本实用新型提供了一种等离子体刻蚀机用匀气盘，具备以下有益效果：
(1)本实用新型通过安装罩旋转安装的定位环，便利于将安装罩通过定位环配合螺栓安装在等离子体刻蚀机内，提高了整个装置的安装稳定性，将衔接管与气体供给管道相互连通，通过衔接管表面滑扣安装的密封环，便利于提高衔接管与气体供给管道之间的密封性，避免气体的泄漏影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
(2)本实用新型通过安装罩内部卡扣安装的过滤网，便利于对进入安装罩内的气体进行过滤，从而避免气体中夹杂杂物导致杂物进入等离子体刻蚀机内对等离子体刻蚀机造成损坏以及影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
(3)本实用新型通过供气盒顶端表面镶嵌的一号进气管和二号进气管，便利于通过一号进气管和二号进气管不同的口径来改变气体进入供气盒内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型的供气盒内部结构示意图；
图3为本实用新型的安装罩内部结构示意图；
图4为本实用新型的整体结构仰视图。
图中：1、安装罩；2、定位环；3、衔接管；4、密封环；5、衔接罩；6、均气盘；7、供气盒；8、一号进气管；9、二号进气管；10、过滤网；11、密封塞；12、安装槽；13、内盘；14、气孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
如图1-4所示，本实用新型提供一种技术方案：一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩1，所述安装罩1顶端旋转安装有衔接管3，所述安装罩 1底端旋转安装有衔接罩5，所述衔接罩5内部底端开设有安装槽12，所述安装槽12内旋转安装有供气盒7，所述供气盒7底端表面镶嵌有均气盘6。
优选的，所述安装罩1旋转安装有定位环2，通过安装罩1旋转安装的定位环2，便利于将安装罩1通过定位环2配合螺栓安装在等离子体刻蚀机内，提高了整个装置的安装稳定性。
优选的，所述衔接管3表面滑扣安装有密封环4，通过衔接管3表面滑扣安装的密封环4，便利于提高衔接管3与气体供给管道之间的密封性，避免气体的泄漏影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
优选的，所述供气盒7顶端表面镶嵌有一号进气管8和二号进气管9，所述二号进气管9位于一号进气管8两侧，且二号进气管9口径大于一号进气管8口径，通过供气盒7顶端表面镶嵌的一号进气管8和二号进气管9，便利于通过一号进气管8和二号进气管9不同的口径来改变气体进入供气盒7内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘6排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。
优选的，所述安装罩1内部卡扣安装有过滤网10，所述安装罩1顶端表面旋转安装有密封塞11，通过安装罩1内部卡扣安装的过滤网10，便利于对进入安装罩1内的气体进行过滤，从而避免气体中夹杂杂物导致杂物进入等离子体刻蚀机内对等离子体刻蚀机造成损坏以及影响等离子体刻蚀操作的情况出现，通过安装罩1顶端表面旋转安装的密封塞11，便利于打开安装罩1，对安装罩1内部进行清理维护。
优选的，所述均气盘6表面镶嵌有内盘13，所述均气盘6与内盘13表面均开设有气孔14，通过均气盘6表面镶嵌的内盘13，可配合均气盘6对工件所需深度刻蚀的部位提供气体，从而提高刻蚀效果。
需要说明的是，一种等离子体刻蚀机用匀气盘，在工作时，通过安装罩1 旋转安装的定位环2，便利于将安装罩1通过定位环2配合螺栓安装在等离子体刻蚀机内，提高了整个装置的安装稳定性，将衔接管3与气体供给管道相互连通，通过衔接管3表面滑扣安装的密封环4，便利于提高衔接管3与气体供给管道之间的密封性，避免气体的泄漏影响等离子体刻蚀操作的情况出现，气体由衔接管3进入安装罩1内后，通过安装罩1内部卡扣安装的过滤网10，便利于对进入安装罩1内的气体进行过滤，从而避免气体中夹杂杂物导致杂物进入等离子体刻蚀机内对等离子体刻蚀机造成损坏以及影响等离子体刻蚀操作的情况出现，然后气体通过供气盒7顶端表面镶嵌的一号进气管8和二号进气管9进入供气盒7内，在由供气盒7底端的均气盘6排出，通过供气盒7顶端表面镶嵌的一号进气管8和二号进气管9，便利于通过一号进气管8 和二号进气管9不同的口径来改变气体进入供气盒7内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘6排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现，通过安装罩1顶端表面旋转安装的密封塞11，便利于打开安装罩1，对安装罩1 内部进行清理维护。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩(1)，其特征在于：所述安装罩(1)顶端旋转安装有衔接管(3)，所述安装罩(1)底端旋转安装有衔接罩(5)，所述衔接罩(5)内部底端开设有安装槽(12)，所述安装槽(12)内旋转安装有供气盒(7)，所述供气盒(7)底端表面镶嵌有均气盘(6)。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述安装罩(1)旋转安装有定位环(2)。
3.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述衔接管(3)表面滑扣安装有密封环(4)。
4.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述供气盒(7)顶端表面镶嵌有一号进气管(8)和二号进气管(9)，所述二号进气管(9)位于一号进气管(8)两侧，且二号进气管(9)口径大于一号进气管(8)口径。
5.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述安装罩(1)内部卡扣安装有过滤网(10)，所述安装罩(1)顶端表面旋转安装有密封塞(11)。
6.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机用匀气盘，其特征在于：所述均气盘(6)表面镶嵌有内盘(13)，所述均气盘(6)与内盘(13)表面均开设有气孔(14)。
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| CN202020069857.XU CN211629036U (zh) | 2020-01-14 | 2020-01-14 | 一种等离子体刻蚀机用匀气盘 |
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Publications (1)
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2020
- 2020-01-14 CN CN202020069857.XU patent/CN211629036U/zh active Active
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