CN204898067U - 一种带有抽气系统的pecvd工艺设备腔室 - Google Patents

一种带有抽气系统的pecvd工艺设备腔室 Download PDF

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曹锦鹏
杨川
张自成
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Abstract

本实用新型公开了一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，涉及PECVD技术领域，其包括真空泵和设备腔室，真空泵和设备腔室通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器，过滤器将抽气管道分为两段，与设备腔室连接的一段为第一抽气管道，与真空泵连接的一段为第二抽气管道。本装置通过过滤器对进入真空泵的气体进行过滤，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空泵免受伤害，从而防止真空泵卡死，延长了真空泵的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。

Description

一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室
技术领域
本实用新型涉及PECVD技术领域，尤其涉及一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室。
背景技术
PECVD（PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition）即等离子体增强化学气相沉积，它是借助微波或射频使含有薄膜组成原子的气体发生电离，在局部形成等离子体，借助等离子体活泼易反应的化学特性，在基片上沉积出所期望的薄膜。该技术被广泛应用于晶体硅太阳能电池的生产中。
晶体硅太阳能电池的主要生产流程为制绒、扩散、湿法刻蚀、减反射膜的沉积、丝网印刷和烧结等工序，PECVD工艺正是应用在减反射膜的沉积工序上。
太阳能行业所用的PECVD一般分为管式和链式两种，链式PECVD采用真空腔室作为反应室，因此在工艺过程中需要用真空泵不停地对设备腔室进行抽真空。
但是，由于PECVD工艺过程中会有氮化硅产生，真空泵会将氮化硅抽到泵体内，而氮化硅长时间在泵体内沉积会造成真空泵的卡死，从而导致工艺的被迫中断，给减反射膜沉积工序带来麻烦，甚至影响整个生产线的生产效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：针对上述现有技术的不足，提供一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，该装置在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空泵免受伤害，从而防止真空泵卡死，延长了真空泵的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。
为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案是：
一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空泵和设备腔室，真空泵和设备腔室通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器，过滤器将抽气管道分为两段，与设备腔室连接的一段为第一抽气管道，与真空泵连接的一段为第二抽气管道。
具体地，过滤器与抽气管道通过法兰连接，过滤器与抽气管道之间设有密封圈，过滤器的两端设有拦网，过滤器内装有吸附剂，吸附剂可以采用活性炭；拦网不仅起到约束吸附剂的作用，还能拦截第一抽气管道处的较大颗粒；法兰连接方式不仅紧密，而且易于拆卸，可以在必要的时候对过滤器进行更换，非常方便。
具体地，第一抽气管道上靠近过滤器的位置处设有清理开口，清理开口上设有密封盖，密封盖和清理开口可以采用螺纹连接方式连接，从而便于装卸，这样能够随时对过滤器前积攒的残渣进行清理。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于：本实用新型在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空泵免受伤害，从而防止真空泵卡死，延长了真空泵的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。本实用新型与现有技术相比，其在结构上的改动不大，但设计合理，使用效果良好，非常实用。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是图1中过滤器的结构示意图。
图中：1、设备腔室；2、真空泵；31、第一抽气管道；310、清理开口；32、第二抽气管道；4、过滤器；41、连接法兰；42、密封圈；43、拦网；44、吸附剂。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1和2所示，一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空泵2和设备腔室1，真空泵2和设备腔室1通过抽气管道连接，抽气管道上设有过滤器4，过滤器4将抽气管道分为两段，与设备腔室1连接的一段为第一抽气管道31，与真空泵2连接的一段为第二抽气管道32；过滤器4与抽气管道通过法兰连接，过滤器4与抽气管道之间设有密封圈42，过滤器4的两端设有拦网43，过滤器4内装有吸附剂44，吸附剂44可以采用活性炭；第一抽气管道31上靠近过滤器4的位置处设有清理开口310，清理开口310上设有密封盖，密封盖和清理开口310可以采用螺纹连接方式连接。
使用时只要开动真空泵2即可对设备腔室1进行抽真空，从而使设备腔室1维持必要的工作条件，设备腔室1中的各种渣粒随气流向真空泵2方向流动；在第一抽气管道31与过滤器4的连接处，较大地渣粒被拦网43拦截，滞留在清理开口310处，较小的渣粒进入过滤器4，被吸附剂44吸附，最终进入第二抽气管道32的气体其含尘量已极大降低，大大减少了对真空泵2的伤害；当本装置运行一段时间后，第一抽气管道31内将沉积较多渣粒，此时可以打开密封盖，通过清理开口310对第一抽气管道31内的渣粒进行清理。
本实用新型在抽气管道上设置有过滤器，能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截，保护真空泵免受伤害，从而防止真空泵卡死，延长了真空泵的使用寿命，并保证了减反射膜沉积工序的正常运行，提高了生产效率。本实用新型与现有技术相比，其在结构上的改动不大，但设计合理，使用效果良好，非常实用。
需要指出的是，以上具体实施方式只是本专利实现方案的具体个例，没有也不可能覆盖本专利的所有实现方式，因此不能视作对本专利保护范围的限定；凡是与以上案例属于相同构思的实现方案，均在本专利的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其包括真空泵（2）和设备腔室（1），真空泵（2）和设备腔室（1）通过抽气管道连接，其特征在于：抽气管道上设有过滤器（4），过滤器（4）将抽气管道分为两段，与设备腔室（1）连接的一段为第一抽气管道（31），与真空泵（2）连接的一段为第二抽气管道（32）。
2.根据权利要求１所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于：所述过滤器（4）与抽气管道通过法兰连接，过滤器（4）与抽气管道之间设有密封圈（42），过滤器（4）的两端设有拦网（43），过滤器（4）内装有吸附剂（44）。
3.根据权利要求2所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于：所述吸附剂（44）为活性炭。
4.根据权利要求１所述的带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室，其特征在于：所述第一抽气管道（31）上靠近过滤器（4）的位置处设有清理开口（310），清理开口（310）上设有密封盖。
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Cited By (4)

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