CN211528197U - 一种椭偏仪的测试台面 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种椭偏仪的测试台面，其用于放置测试样品需要测试的硅片，包括水平台面、凹槽、第一定位组件、第二定位组件、第三定位组件和第四定位组件，所述凹槽为矩形，以所述水平台面的圆心为对称中心，所述凹槽的对称轴分别为轴A和轴B，所述第一定位组件与第二定位组件关于所述轴A对称分布，第三定位组件和第四定位组件关于所述轴A对称分布，所述第二定位组件与第三定位组件关于所述轴B对称分布，所述第一定位组件和第四定位组件关于所述轴B对称分布。本实用新型统一了椭偏仪测试的位置，减少测试的误差，便于产线的管控；固定测试的5个点位，便于获得准确地片内均匀性数据，工程师可以根据测试数据准确地把握工艺改进方向。

Description

一种椭偏仪的测试台面

技术领域

本实用新型涉及光电检测技术领域，具体涉及一种椭偏仪的测试台面。

背景技术

在太阳能电池的制作工艺中，需要通过等离子增强气相沉积的方法制作一层氮化硅薄膜。根据薄膜干涉原理，这一层氮化硅薄膜可以起到碱少光在电池表面反射的作用。另外，这层薄膜还可以钝化硅片表面不饱和的硅原子。在实际生产中，我们需要用椭偏仪来监控氮化硅薄膜的膜厚与折射率。膜厚与折射率是影响电池片效率的重要因素。

通常的椭偏仪如图1所示是由光源200、起偏器300、测试台面400、检偏器500和探测器600构成。现有椭偏仪的测试台面400是一个简单的水平台面。正常测试时，将测试样品需要测试的硅片放在测试台面上，点击程序中的开始键，就能得到该硅片的膜厚和折射率。

但是由于现在主流的管式PE镀膜后硅片的片内均匀性很难控制。由于椭偏仪的光源一般射在测试台面中间，需要测试硅片不同位置的膜厚和折射率时，需要人为调整硅片的位置，因此每次测试硅片上点位是不固定的。而且硅片切割痕的方位也不固定，这都使得测试结果没有统一的标准，不利于产线的管控。另外，在调整工艺时需要测试同一张片子的不同位置的数据，并计算出镀膜的均匀性。现有台面无法获得准确地均匀性数据，也就无法准确地把握改进的方向。

实用新型内容

实用新型目的：为了克服上述现有技术中的问题，本实用新型提供一种椭偏仪的测试台面。

技术方案：本实用新型所述的一种椭偏仪的测试台面，其用于放置测试样品需要测试的硅片，包括水平台面、凹槽、第一定位组件、第二定位组件、第三定位组件和第四定位组件，所述凹槽为矩形，以所述水平台面的圆心为对称中心，所述凹槽的对称轴分别为轴A和轴B，所述第一定位组件与第二定位组件关于所述轴A对称分布，第三定位组件和第四定位组件关于所述轴A对称分布，所述第二定位组件与第三定位组件关于所述轴B对称分布，所述第一定位组件和第四定位组件关于所述轴B对称分布。

进一步地，包括：

所述第一定位组件包括定位点一，定位点二，定位点三和定位点四，所述定位点一，定位点二，定位点三和定位点四均为凸起的柱体，且所述定位点一、定位点二形成的直线L1和定位点三、定位点四对应的直线L2相互垂直。

进一步地，包括：

所述第二定位组件包括定位点五，定位点六，定位点七和定位点八，所述定位点五，定位点六，定位点七和定位点八均为凸起的柱体，且所述定位点五和定位点六在所述直线L1上，定位点七和定位点八构成直线L3。

进一步地，包括：

所述第三定位组件包括定位点九，定位点十，定位点十一和定位点十二，所述定位点九，定位点十，定位点十一和定位点十二均为凸起的柱体，且所述定位点九和定位点十在所述直线L3上，定位点十一和定位点十二构成直线。

进一步地，包括：

所述第四定位组件包括定位点十三，定位点十四，定位点十五和定位点十六，所述定位点十三，定位点十四，定位点十五和定位点十六均为凸起的柱体，且所述定位点十三和定位点十四在所述直线L2上，定位点十五、定位点十六在所述直线L4上。

进一步地，包括：

所述直线L1、直线L2、直线L3和直线L4相交构成一个矩形结构。

进一步地，包括：

所述凹槽包括内矩形框和外矩形框，所述外矩形框边长比内矩形框大2mm～4mm。

有益效果：本实用新型与现有技术相比，其显著优点是：1、本实用新型统一了椭偏仪测试的位置，减少测试的误差，便于产线的管控；2、固定测试的5个点位，便于获得准确地片内均匀性数据，工程师可以根据测试数据准确地把握工艺改进方向；3、本实用新型结构简单、制作方便。

附图说明

图1是现有技术中椭偏仪测试结构示意图；

图2是本实用新型椭偏仪测试台面结构平面俯视图；

图3是本实用新型椭偏仪测试台面未安装定位点结构示意图；

图4是本实用新型椭偏仪测试台面已安装定位点结构示意图。

具体实施方式

下面对本实用新型作进一步的说明。

如图2所示，本实用新型提供一种椭偏仪的测试台面，其用于放置测试样品需要测试的硅片，包括水平台面1、凹槽2、第一定位组件3、第二定位组件4、第三定位组件5和第四定位组件6，所述凹槽2为矩形，以所述水平台面1的圆心为对称中心，即硅片尺寸的矩形凹槽2是刻画在水平台面1中间，尺寸根据硅片的尺寸确定；所述凹槽2的对称轴分别为竖直轴A21和水欧水平轴B22，所述第一定位组件3与第二定位组件4关于所述轴A21对称分布，第三定位组件5和第四定位组件6关于所述轴A21对称分布，所述第二定位组件4与第三定位组件5关于所述轴B22对称分布，所述第一定位组件3和第四定位组件6关于所述轴B22对称分布。

凹槽2包括内矩形框23和外矩形框24，所述外矩形框24边长比内矩形框23大2mm～4mm。

具体的，凹槽2位于台面正中间，凹槽2的内框尺寸与硅片尺寸相近，边长在157-210mm左右，外框边长较内框大2mm左右，台面厚度在15mm左右。

如图3和4所示，所述第一定位组件3相对于附图2中为右上角，其包括定位点一31，定位点二32，定位点三33和定位点四34，所述定位点一31，定位点二32，定位点三33和定位点四34均为凸起的柱体，定位点一31、定位点二32形成的直线L1和定位点三33、定位点四34对应的直线L2相互垂直。

所述第二定位组件4相对于附图2中为左上角，其包括定位点五41，定位点六42，定位点七43和定位点八44，所述定位点五41，定位点六42，定位点七43和定位点八44均为凸起的柱体，且所述定位点五41和定位点六42在所述直线L1上，定位点七43和定位点八44构成直线L3。

所述第三定位组件5相对于附图2中为左下角，其包括定位点九51，定位点十52，定位点十一53和定位点十二54，所述定位点九51，定位点十52，定位点十一53和定位点十二54均为凸起的柱体，且所述定位点九51和定位点十52在所述直线L3上，定位点十一53和定位点十二54构成直线L4。

所述第四定位组件6相对于附图2中为右下角，其包括定位点十三61，定位点十四62，定位点十五63和定位点十六64，所述定位点十三61，定位点十四62，定位点十五63和定位点十六64均为凸起的柱体，且所述定位点十三61和定位点十四62在所述直线L2上，定位点十五63、定位点十六64在所述直线L4上。直线L1、直线L2、直线L3和直线L4相交构成一个矩形结构7，边长为270mm-370mm左右，相邻定位点圆心之间的间距在20mm左右，靠近角的定位点与矩形凹槽靠近的顶点间距也在20mm左右。

具体的，定位点一31、定位点二、定位点五、定位点六水平开设，并位于所述圆形台面的上端，定位点一31和定位点二32与所述定位点五41和定位点六42关于竖直轴A对称定，定位点三33、定位点四34竖直开设，并靠近所述定位点一31和定位点二32，定位点七43和定位点八44竖直开设，并靠近所述定位点五41和定位点六42，所述定位点三33和定位点四34与所述定位点七43和定位点八44关于竖直轴A对称；

定位点十一53、定位点十二54水平开设，并位于与所述定位点一31对应的台面1的另一端，定位点十五63、定位点十六64水平开设，并位于所述定位点三33对应的台面的另一端，定位点十一53、定位点十二54与所述定位点十五63、定位点十六64关于轴A对称，定位点九51、定位点十52、定位点十三61和定位十四62竖直开设，定位点九51、定位点十52与定位点十三61、定位点十四62关于轴A21对称。

柱体的尺寸为半径为3mm左右，高度为5mm左右，由于椭偏仪光源射在测试台面中间，测试时只要将硅片放入矩形凹槽2中，就能得到硅片正中间的膜厚λ1和折射率n1。由于本测试台面的结构，测试光点的实际位置没变，硅片向左上角移动时，测试光点照射的是硅片的右下方。因此，将硅片贴着左上角的两排定位点(41、42、43、44)测试可以得到右下角的膜厚λ₂和折射率n₂；将硅片贴着右上角的两排定位点(31、32、33、34)，测试可以得到左下角的膜厚λ₃和折射率n₃；将硅片贴着左下角的两排定位点(51、52、53、54)测试可以得到右上角的膜厚λ₄和折射率n₄；将硅片贴着右下角的两排定位点(61、62、63、64)测试可以得到左上角的膜厚λ₅和折射率n₅。

以上5次测试均要求保证硅片切割痕与测试光线保持平行放置。由此可得到该硅片镀膜的均匀性(平方差)如下：

膜厚均匀性

折射率均匀性

Claims (7)

1.一种椭偏仪的测试台面，其用于放置测试样品需要测试的硅片，其特征在于，包括水平台面(1)、凹槽(2)、第一定位组件(3)、第二定位组件(4)、第三定位组件(5)和第四定位组件(6)，所述凹槽(2)为矩形，以所述水平台面(1)的圆心为对称中心，所述凹槽(2)的对称轴分别为轴A(21)和轴B(22)，所述第一定位组件(3)与第二定位组件(4)关于所述轴A(21)对称分布，第三定位组件(5)和第四定位组件(6)关于所述轴A(21)对称分布，所述第二定位组件(4)与第三定位组件(5)关于所述轴B(22)对称分布，所述第一定位组件(3)和第四定位组件(6)关于所述轴B(22)对称分布。

2.根据权利要求1所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述第一定位组件(3)包括定位点一(31)，定位点二(32)，定位点三(33)和定位点四(34)，所述定位点一(31)，定位点二(32)，定位点三(33)和定位点四(34)均为凸起的柱体，且所述定位点一(31)、定位点二(32)形成的直线L1和定位点三(33)、定位点四(34)对应的直线L2相互垂直。

3.根据权利要求2所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述第二定位组件(4)包括定位点五(41)，定位点六(42)，定位点七(43)和定位点八(44)，所述定位点五(41)，定位点六(42)，定位点七(43)和定位点八(44)均为凸起的柱体，且所述定位点五(41)和定位点六(42)在所述直线L1上，定位点七(43)和定位点八(44)构成直线L3。

4.根据权利要求3所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述第三定位组件(5)包括定位点九(51)，定位点十(52)，定位点十一(53)和定位点十二(54)，所述定位点九(51)，定位点十(52)，定位点十一(53)和定位点十二(54)均为凸起的柱体，且所述定位点九(51)和定位点十(52)在所述直线L3上，定位点十一(53)和定位点十二(54)构成直线L4。

5.根据权利要求4所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述第四定位组件(6)包括定位点十三(61)，定位点十四(62)，定位点十五(63)和定位点十六(64)，所述定位点十三(61)，定位点十四(62)，定位点十五(63)和定位点十六(64)均为凸起的柱体，且所述定位点十三(61)和定位点十四(62)在所述直线L2上，定位点十五(63)、定位点十六(64)在所述直线L4上。

6.根据权利要求5所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述直线L1、直线L2、直线L3和直线L4相交构成一个矩形结构(7)。

7.根据权利要求1所述的椭偏仪的测试台面，其特征在于，所述凹槽(2)包括内矩形框(23)和外矩形框(24)，所述外矩形框(24)边长比内矩形框(23)大2mm～4mm。

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