CN211488968U

CN211488968U - 玻璃基板的清洗装置

Info

Publication number: CN211488968U
Application number: CN201922118596.6U
Authority: CN
Inventors: 鉴继薰; 中塚弘树; 山本好晴
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2019-11-29
Filing date: 2019-11-29
Publication date: 2020-09-15
Anticipated expiration: 2029-11-29

Abstract

本实用新型提供一种能够使清洗液的浓度恒定的玻璃基板的清洗装置。玻璃基板(G)的清洗装置(1)具备：贮存清洗液(C)的清洗液箱(2)；输送清洗液箱(2)内的清洗液(C)的清洗液泵(3)；清洗部(4)，其使用由清洗液泵(3)输送的清洗液(C)来清洗玻璃基板(G)；传感器(5)，其测量清洗液(C)的浓度；原液箱(6)，其贮存清洗液(C)的原液(U)；以及原液泵(7)，其输送原液箱(6)内的清洗液(C)的原液(U)，在清洗装置(1)中，以传感器(5)测量的清洗液(C)的浓度达到规定浓度的方式，向清洗液箱(2)输送清洗液(C)的原液(U)。

Description

玻璃基板的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及玻璃基板的清洗装置的技术。

背景技术

以往，已知有在制造平板显示器(FPD)用的玻璃基板时对玻璃基板进行清洗的清洗装置。例如如专利文献1记载。

专利文献1中公开了在清洗液中对多张玻璃基板进行清洗的清洗装置。清洗装置具备由内槽和外槽的内外双层槽构成的处理槽，内槽构成为对玻璃基板进行清洗的清洗槽。在内槽中贮存清洗液，贮存在内槽中的清洗液从内槽向外槽侧溢出并贮存在外槽中。贮存在外槽中的清洗液暂时贮存于与外槽连通的箱中后，由泵输送并从内槽的底部中心部再次向内槽内供给。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-199030号公报

在上述的清洗装置中，操作员以恒定间隔确认清洗液的浓度，在清洗液浓度降低的情况下向清洗液箱投入清洗液的原液。通过投入隔开这样的时间间隔的清洗液的原液，在即将投入清洗液之前和刚刚投入后清洗液的浓度差变大。在清洗液的浓度高的情况下有时不能充分地漂洗清洗液，在清洗液的浓度低的情况下有时不能充分地去污。这样，清洗液的浓度差增大会导致玻璃基板的品质偏差，因此谋求能够使清洗液的浓度恒定的玻璃基板的清洗装置。

实用新型内容

实用新型要解决的课题

本实用新型的课题在于提供能够使清洗液的浓度恒定的玻璃基板的清洗装置。

用于解决课题的方案

本实用新型要解决的课题如上所述，以下说明用于解决该课题的方案。

即，本实用新型的玻璃基板的清洗装置具备：清洗液箱，其贮存清洗液；清洗液泵，其输送所述清洗液箱内的清洗液；清洗部，其使用由所述清洗液泵输送的清洗液来清洗玻璃基板；传感器，其测量所述清洗液的浓度；原液箱，其贮存清洗液的原液；以及原液泵，其输送所述原液箱内的清洗液的原液，所述玻璃基板的清洗装置的特征在于，以所述传感器测量的清洗液的浓度达到规定浓度的方式，向所述清洗液箱输送所述清洗液的原液。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，自动向清洗液箱输送清洗液的原液，以使清洗液达到规定浓度。因此能够使清洗液的浓度恒定。另外，由于操作员无需确认清洗液的浓度、进行清洗液的原液投入，因此能够使清洗液的浓度管理变得容易。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，以清洗液从所述清洗部向所述清洗液箱返回的方式构成，在所述清洗液箱内设置有：向所述清洗部输送的清洗液的吸引口；从所述清洗部返回的清洗液的返回口；以及从所述原液箱输送的清洗液的原液的投入口，所述投入口位于比所述返回口远离所述吸引口的位置。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，利用从返回口返回的清洗液混合清洗液和清洗液的原液。然后，混合有原液的清洗液被从吸引口向清洗部输送。因此，能够使用通过混合而使浓度恒定的清洗液来清洗玻璃基板。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，所述传感器设置在所述清洗液箱内。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，测量清洗液箱内的清洗液浓度。因此，能够以清洗液箱内的清洗液的浓度达到规定浓度的方式使清洗液的浓度恒定。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，在所述清洗液泵的下游侧设置有容器，在所述容器内设置有所述传感器。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，由于测量在容器内整流后的清洗液的浓度，因此所测量的清洗液的浓度稳定。因此，由于基于稳定的清洗液的浓度投入清洗液的原液，因此能够使清洗液的浓度恒定。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，所述容器的下游侧构成为，使清洗液绕过所述清洗部而返回所述清洗液箱。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，能够在与向清洗部输送的清洗液的流路相比以低速输送的清洗液的流路中设置容器。因此能够使所测量的清洗液的浓度稳定。因此，能够基于稳定的清洗液的浓度投入清洗液的原液，能够使清洗液的浓度恒定。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，在所述容器与所述清洗液泵之间的清洗液的流路设置阀。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，能够通过使阀为关闭状态而不向容器输送清洗液。因此使设置在容器内的传感器的维护变得容易。

另外，优选的是，在本实用新型的玻璃基板的清洗装置的基础上，在所述清洗液泵停止时，使所述原液泵停止。

根据这样的本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，在未向容器输送清洗液的状态下，不向清洗液箱输送清洗液的原液。因此，能够防止即使清洗液箱内的清洗液的浓度上升仍基于容器内的清洗液的浓度而继续向清洗液箱输送清洗液的原液。

作为本实用新型的效果，发挥以下所示的效果。

即，根据本实用新型中的玻璃基板的清洗装置，能够使清洗液的浓度恒定。

附图说明

图1是示出本实用新型的第一实施方式的玻璃基板的清洗装置的整体构成的图。

图2是示出本实用新型的第二实施方式的玻璃基板的清洗装置的整体构成的图。

附图标记说明：

1 清洗装置

2 清洗液箱

3 清洗液泵

4 清洗部

5 传感器

6 原液箱

7 原液泵

8 吸引口

9 返回口

10 投入口

17 容器

18 阀

19a 流路

C 清洗液

G 玻璃基板

U 原液。

具体实施方式

首先，使用图1说明本实用新型的第一实施方式的玻璃基板G的清洗装置1(以下简记为清洗装置1)。清洗装置1对玻璃基板G进行清洗，在玻璃基板G的清洗工序中使用。清洗装置1主要具备清洗液箱2、清洗液泵3、清洗部4、传感器5、原液箱6和原液泵7。

清洗液箱2用于贮存清洗液C。在清洗液箱2内设置有向清洗部4输送的清洗液C的吸引口8、从清洗部4返回的清洗液C的返回口9、以及从原液箱6输送的清洗液C的原液U的投入口10。清洗液箱2以投入口10位于比返回口9远离吸引口8的位置的方式构成。需要说明的是，清洗液箱2例如具有150L到200L的容量。

清洗液泵3用于输送清洗液箱2内的清洗液C。清洗液泵3设置在连通清洗液箱2和清洗部4的流路11的中途部。清洗液泵3经由流路11从清洗液箱2向清洗部4输送清洗液C。

清洗部4用于清洗玻璃基板G。清洗部4具有供给从清洗液箱2输送的清洗液C的给液部12、以及排出玻璃基板G的清洗使用的清洗液C的排液口13。清洗部4使用从给液部12供给的清洗液C对清洗部4内的玻璃基板G进行清洗。从排液口13排出的清洗液C经由连通清洗部4和清洗液箱2的流路14而返回清洗液箱2。需要说明的是，也可以利用在流路14设置的未图示的泵使清洗液C返回清洗液箱2。另外，也可以利用高低差使清洗液C返回清洗液箱2。

在玻璃基板G上附着有在清洗工序之前的加工工序中使用的水(例如研削液、研磨液)。因此，从排液口13排出的清洗液C的浓度低于由给液部12供给的清洗液C的浓度。

传感器5测量清洗液C的浓度。传感器5以浸在清洗液C中的方式设置在清洗液箱2内。例如，传感器5是电导率仪，基于清洗液C的电导率测量清洗液箱2内的清洗液C的浓度。传感器5经由未图示的控制器与原液泵7电连接，能够将所测量的清洗液C的浓度以信号形式向原液泵7发送。

原液箱6用于贮存清洗液C的原液U。在原液箱6内设置有向清洗液箱2输送的清洗液C的原液U的吸引口15。需要说明的是，原液箱6例如具有100L到200L的容量。

原液泵7用于输送原液箱6内的清洗液C的原液U。原液泵7设置在连通原液箱6和清洗液箱2的流路16的中途部。原液泵7经由流路16从原液箱6向清洗液箱2输送清洗液C。

在清洗液箱2中，清洗液C的浓度由于从返回口9返回的清洗液C而降低。原液泵7从原液箱6向清洗液箱2输送清洗液C的原液U，以使得传感器5测量的清洗液箱2内的清洗液C的浓度达到规定浓度。

根据这样的本实用新型中的清洗装置1，自动向清洗液箱2输送清洗液C的原液U，以使清洗液C达到规定浓度。因此能够使清洗液C的浓度恒定。另外，由于操作员无需确认清洗液C的浓度、进行清洗液C的原液U的投入，因此能够使清洗液C的浓度管理变得容易。

另外，根据这样的本实用新型中的清洗装置1，利用从返回口9返回的清洗液C使清洗液C与清洗液C的原液U混合。并且，混合有原液U的清洗液C被从吸引口8向清洗部4输送。因此，能够使用通过混合而浓度恒定的清洗液C对玻璃基板G进行清洗。

另外，根据这样的本实用新型中的清洗装置1，测量清洗液箱2内的清洗液C的浓度。因此，能够以清洗液箱2内的清洗液C的浓度达到规定浓度的方式使清洗液C的浓度恒定。

接下来，使用图2说明第二实施方式的清洗装置1。以下，通过使用在第一实施方式的清洗装置1的说明中使用的名称和附图标记，来指相同的构件。在此，以与第一实施方式的清洗装置1不同的部分为中心进行说明。

清洗装置1具备容器17和阀18。另外，在清洗液泵3的下游侧设置有流路19。流路19连通流路11和清洗液箱2。

容器17为用于测量清洗液C的浓度的取样瓶。容器17设置在流路19的中途部。流路19为取样流路，由容器17的上游侧的流路19a和容器17的下游侧的流路19b构成。并且，流路19b构成为，使清洗液C绕过清洗部4而返回清洗液箱2。需要说明的是，也可以构成为，设置连通容器17和清洗部4的未图示的流路并从容器17向清洗部4输送清洗液C。在该情况下，从容器17输送至清洗部4的清洗液C在用于玻璃基板G的清洗后，返回清洗液箱2。

另外，容器17在内部设置有传感器5。传感器5测量在容器17内整流后的清洗液C的浓度。需要说明的是，容器17例如具有1L的容量。

原液泵7从原液箱6向清洗液箱2输送清洗液C的原液U，以使传感器5测量的容器17内的清洗液C的浓度达到规定浓度。

根据这样的本实用新型中的清洗装置1，由于测量在容器17内整流后的清洗液C的浓度，因此所测量的清洗液C的浓度稳定。因此，基于稳定的清洗液C的浓度投入清洗液C的原液U，因此能够使清洗液C的浓度恒定。

另外，在这样的本实用新型的清洗装置1中，与向清洗部4输送的清洗液C的流路11相比，能够在以低速输送的清洗液C的流路19中设置容器17。因而能够使所测量的清洗液C的浓度稳定。因此，能够基于稳定的清洗液C的浓度投入清洗液C的原液U，因此能够使清洗液C的浓度恒定。

阀18用于使流路19开闭。阀18设置在流路19a(容器17与清洗液泵3间的清洗液C的流路)的中途部。在阀18为打开状态的情况下，成为从清洗液泵3向容器17输送清洗液C的状态。在阀18为关闭状态的情况下，成为不从清洗液泵3向容器17输送清洗液C的状态。通常使阀18为打开状态，在维护传感器5时等使阀18为关闭状态。

根据这样的本实用新型中的清洗装置1，能够通过使阀18为关闭状态而不向容器17输送清洗液C。因此使设置在容器17内的传感器5的维护变得容易。

清洗液泵3和原液泵7与未图示的控制器电连接。清洗液泵3在其停止的情况下，向控制器发送传递停止这一情况的信号。控制器向原液泵7发送使原液泵7停止的信号，使原液泵7停止。

根据这样的本实用新型中的清洗装置1，在不向容器17输送清洗液C的状态下，不输送清洗液C的原液U。因此，能够防止即使清洗液箱2内的清洗液C的浓度上升仍基于容器17内的清洗液C的浓度而继续向清洗液箱2输送清洗液C的原液U。

上述实施方式只不过示出了代表性的方式，能够在不脱离上述实施方式的要点的范围内进行各种变形来实施。当然还能够以各种方式实施，本实用新型的范围由实用新型技术方案的记载表示，还包含实用新型技术方案中记载的等同的含义及范围内的全部变更。

工业上的可利用性

本实用新型适合用于向清洗液箱输送清洗液的原液的清洗装置，以使清洗液的浓度恒定。

Claims

1.一种玻璃基板的清洗装置，具备：

清洗液箱，其贮存清洗液；

清洗液泵，其输送所述清洗液箱内的清洗液；

清洗部，其使用由所述清洗液泵输送的清洗液来清洗玻璃基板；

传感器，其测量清洗液的浓度；

原液箱，其贮存清洗液的原液；以及

原液泵，其输送所述原液箱内的清洗液的原液，

其特征在于，

以所述传感器测量的清洗液的浓度达到规定浓度的方式，向所述清洗液箱输送清洗液的原液。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

所述玻璃基板的清洗装置以清洗液从所述清洗部向所述清洗液箱返回的方式构成，

在所述清洗液箱内设置有：

向所述清洗部输送的清洗液的吸引口；

从所述清洗部返回的清洗液的返回口；以及

从所述原液箱输送的清洗液的原液的投入口，

所述投入口位于比所述返回口远离所述吸引口的位置。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

所述传感器设置在所述清洗液箱内。

4.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

在所述清洗液泵的下游侧设置有容器，在所述容器内设置有所述传感器。

5.根据权利要求4所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

所述容器的下游侧构成为，使清洗液绕过所述清洗部而返回所述清洗液箱。

6.根据权利要求4所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

在所述容器与所述清洗液泵之间的清洗液的流路设置阀。

7.根据权利要求4所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

在所述清洗液泵停止时，使所述原液泵停止。