CN211367712U - 一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于离子溅射仪技术领域且公开了一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，包括支撑台面、升降杆和框架，所述支撑台面底部连接升降杆顶部；所述升降杆包括第一支杆、第二支杆和横杆；所述第一支杆与第二支杆连接；所述第一支杆之间设有横杆；所述第二支杆之间设有横杆；所述升降杆通过连接轴连接液压杆。本实用新型通过该升降工作台通过支杆来提供支撑力，液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命，将工作台停留在任意高度，结构简单，成本较低；采用X型升降机构，锁紧位置，使用安全，结构简单、高度调节方便。

Description

一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备

技术领域

本实用新型具体涉及一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，属于离子溅射仪技术领域。

背景技术

离子溅射仪是在工业用途或者实验室在制备金属薄膜中最常用的仪器，随着技术的不断发展，离子溅射仪趋于轻便仪器，更加方便使用，但价格昂贵，离子溅射仪在使用中，一般放置在桌面或台面上使用，多数为固定高度，无法根据需要调整高度，必要时，必须来回人工搬运，有可能无意对仪器造成损害，降低使用寿命。为此，我们提出一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题克服现有的缺陷，提供一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，该升降工作台通过支杆来提供支撑力，液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命，将工作台停留在任意高度，结构简单，成本较低；采用X型升降机构，在升降过程中，使支撑板面高度固定，滑销在滑轨中滑动，稳步上升或者下降，固定脚杯固定滚动轮，防止在升降或者使用过程中，位置发生移动，锁紧位置，使用安全，结构简单、高度调节方便，可以有效解决背景技术中的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型提供一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，包括支撑台面、升降杆和框架，所述支撑台面底部连接升降杆顶部；所述升降杆包括第一支杆、第二支杆和横杆；所述第一支杆与第二支杆连接；所述第一支杆之间设有横杆；所述第二支杆之间设有横杆；所述升降杆通过连接轴连接液压杆；所述液压杆底部连接框架；所述框架内部设有滑轨，顶部设有支撑柱，底部设有支撑板；所述第一支杆与第二支杆底部均设有滑销；所述滑销与滑轨活动连接；所述框架底部连接滚动轮；所述框架一侧均设有固定杆；所述固定杆连接固定脚杯。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一支杆与第二支杆中部铰接呈X型。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定脚杯与滚动轮底部在同一高度。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述液压杆顶部通过连接轴与横杆连接，底部连接在框架边缘。

本实用新型所达到的有益效果是：一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，该升降工作台通过支杆来提供支撑力，液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命，将工作台停留在任意高度，结构简单，成本较低；采用X型升降机构，在升降过程中，使支撑板面高度固定，滑销在滑轨中滑动，稳步上升或者下降，固定脚杯固定滚动轮，防止在升降或者使用过程中，位置发生移动，锁紧位置，使用安全，结构简单、高度调节方便。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。

在附图中：

图1是本实用新型实施例所述的一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备整体结构示意图；

图2是本实用新型实施例所述的一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备升降控制示意图；

图中标号：1、支撑台面；2、第二支杆；3、横杆；4、连接轴；5、液压杆；6、第一支杆；7、支撑柱；8、框架；9、固定杆；10、固定脚杯；11、滚动轮；12、升降杆；13、支撑板；14、滑轨；15、滑销。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例：请参阅图1-2，本实用新型一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，包括支撑台面1、升降杆12和框架8，所述支撑台面1底部连接升降杆12顶部；所述升降杆12包括第一支杆6、第二支杆2和横杆3；所述第一支杆6与第二支杆2连接；所述第一支杆6之间设有横杆3；所述第二支杆2之间设有横杆3；所述升降杆12通过连接轴4连接液压杆5；所述液压杆5底部连接框架8；所述框架8内部设有滑轨14，顶部设有支撑柱7，底部设有支撑板13；所述第一支杆6与第二支杆2底部均设有滑销15；所述滑销15与滑轨14活动连接；所述框架8底部连接滚动轮11；所述框架8一侧均设有固定杆9；所述固定杆9连接固定脚杯10;所述第一支杆6与第二支杆2中部铰接呈X 型, 在升降过程中，使支撑板面高度固定，滑销在滑轨中滑动，稳步上升或者下降，固定脚杯固定滚动轮，防止在升降或者使用过程中，位置发生移动，锁紧位置，使用安全；所述固定脚杯10与滚动轮11底部在同一高度，固定安全，使设备固定在同一水平面，防止仪器放置发生移动；所述液压杆5顶部通过连接轴4与横杆3连接，底部连接在框架8边缘，在升降时液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命。

需要说明的是，本实用新型为一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，工作时，该升降工作台通过支杆来提供支撑力，液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命，将工作台停留在任意高度，结构简单，成本较低；采用X型升降机构，在升降过程中，使支撑板面高度固定，滑销在滑轨中滑动，稳步上升或者下降，固定脚杯固定滚动轮，防止在升降或者使用过程中，位置发生移动，锁紧位置，使用安全，结构简单、高度调节方便。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，包括支撑台面（1）、升降杆（12）和框架（8），其特征在于：

所述支撑台面（1）底部连接升降杆（12）顶部；

所述升降杆（12）包括第一支杆（6）、第二支杆（2）和横杆（3），所述第一支杆（6）与第二支杆（2）连接；所述第一支杆（6）之间设有横杆（3）；所述第二支杆（2）之间设有横杆（3）；

所述升降杆（12）通过连接轴（4）连接液压杆（5）；

所述液压杆（5）底部连接框架（8）；所述框架（8）内部设有滑轨（14），顶部设有支撑柱（7），底部设有支撑板（13）；所述第一支杆（6）与第二支杆（2）底部均设有滑销（15）；所述滑销（15）与滑轨（14）活动连接；所述框架（8）底部连接滚动轮（11）；所述框架（8）一侧均设有固定杆（9）；所述固定杆（9）连接固定脚杯（10）。

2.根据权利要求1所述的一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，其特征在于，所述第一支杆（6）与第二支杆（2）中部铰接呈X 型。

3.根据权利要求1所述的一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，其特征在于，所述固定脚杯（10）与滚动轮（11）底部在同一高度。

4.根据权利要求1所述的一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，其特征在于，所述液压杆（5）顶部通过连接轴（4）与横杆（3）连接，底部连接在框架（8）边缘。

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