CN211340873U - 后浇带防水结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种后浇带防水结构，包括：浇筑形成于地面的垫层，该垫层的表面对应待形成的后浇带的位置向下凹陷并形成下凹空间；沿垫层表面铺设的防水层，且该防水层贴合于下凹空间的侧壁及底面；以及浇筑形成于下凹空间中的防水层上的保护层，该保护层两侧的防水层上浇筑形成有主体结构，且两个主体结构之间形成后浇带，该主体结构和保护层覆盖住防水层。本实用新型有效地解决了后浇带处的防水层易被损坏的问题，覆盖住后浇带处的防水层，避免防水层因暴露而被损坏，减少渗漏隐患，保证施工质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及建筑施工领域，特指一种后浇带防水结构。
背景技术
地下室施工中通常会在容易产生伸缩缝的位置设置后浇带，然而在地下室的底板上铺设有防水层，但后浇带需要待主体结构施工完毕后再进行浇筑，因此在施工过程中后浇带处的防水层暴露在外，容易被损坏从而失去防水效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种后浇带防水结构，解决了后浇带处的防水层易被损坏的问题，覆盖住后浇带处的防水层，避免防水层因暴露而被损坏，减少渗漏隐患，保证施工质量。
实现上述目的的技术方案是：
提供了一种后浇带防水结构，包括：
浇筑形成于地面的垫层，该垫层的表面对应待形成的后浇带的位置向下凹陷并形成下凹空间；
沿垫层表面铺设的防水层，且该防水层贴合于下凹空间的侧壁及底面；以及
浇筑形成于下凹空间中的防水层上的保护层，该保护层两侧的防水层上浇筑形成有主体结构，且两个主体结构之间形成后浇带，该主体结构和保护层覆盖住防水层。
本实用新型采用后浇带防水结构，通过在垫层对应待形成的后浇带的位置形成下凹空间，并将防水层沿垫层的表面铺设，进而在下凹空间中的防水层上浇筑形成保护层以覆盖住后浇带处的防水层，从而防止该处的防水层暴露在外，并避免防水层收到破坏，解决了后浇带处的防水层易被损坏的问题，覆盖住后浇带处的防水层，避免防水层因暴露而被损坏，减少渗漏隐患，保证施工质量。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，该下凹空间的宽度大于后浇带的宽度，该主体结构部分浇筑形成于保护层上，使得该保护层的端部位于对应的主体结构的底部。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，还包括对应待形成的后浇带且开挖于地面的凹坑；
该垫层一体浇筑形成于凹坑并部分自凹坑的开口处向外延伸，该下凹空间形成于凹坑的开口处，且垫层形成有下凹空间的部分的厚度大于垫层其他部分的厚度，主体结构浇筑形成于垫层的延伸部分。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，凹坑相对的两侧砌筑有砖模，该垫层一体浇筑形成于相对的两个砖模之间且部分自砖模的顶部向外延伸。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，该砖模靠近下凹空间的侧部形成有向下倾斜的倾斜面，两个砖模的倾斜面相对设置并呈“八”字形。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，下凹空间的转角均为圆角。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，该保护层由C15细石混凝土浇筑而成。
本实用新型后浇带防水结构的进一步改进在于，该保护层的顶面与垫层的顶面相平齐。
附图说明
图1为本实用新型后浇带防水结构的正面剖视图。
图2为本实用新型后浇带防水结构的立体剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
参阅图1，本实用新型提供了一种后浇带防水结构，通过在垫层对应待形成的后浇带的位置形成下凹空间，并将防水层沿垫层的表面铺设，进而在下凹空间中的防水层上浇筑形成保护层以覆盖住后浇带处的防水层，从而防止该处的防水层暴露在外，并避免防水层收到破坏，解决了后浇带处的防水层易被损坏的问题，覆盖住后浇带处的防水层，避免防水层因暴露而被损坏，减少渗漏隐患，保证施工质量。下面结合附图对本实用新型后浇带防水结构进行说明。
参阅图1，图1为本实用新型后浇带防水结构的正面剖视图。下面结合图1，对本实用新型后浇带防水结构进行说明。
如图1和图2所示，本实用新型后浇带防水结构，包括：
浇筑形成于地面的垫层11，该垫层11的表面对应待形成的后浇带22的位置向下凹陷并形成下凹空间111；
沿垫层11表面铺设的防水层12，且该防水层12贴合于下凹空间111的侧壁及底面；以及
浇筑形成于下凹空间111中的防水层12上的保护层13，该保护层13两侧的防水层12上浇筑形成有主体结构21，且两个主体结构21之间形成后浇带22，该主体结构21和保护层13覆盖住防水层12，以防止防水层12暴露在外。
具体的，该保护层13的顶面与垫层11的顶面相平齐。
较佳地，该保护层13由C15细石混凝土浇筑而成。
又佳地，下凹空间111的转角均为圆角，防止防水层12铺设时转角过于锋利而破坏防水层12。
作为本实用新型的一较佳实施方式，该下凹空间111的宽度大于后浇带22的宽度，该主体结构21部分浇筑形成于保护层13上，使得该保护层13的端部位于对应的主体结构21的底部，使得防水层12贴合于下凹空间111侧壁的部分能够置于主体结构21底部，防止该部分被破坏。
进一步的，还包括对应待形成的后浇带22且开挖于地面的凹坑；
该垫层11一体浇筑形成于凹坑中且部分自凹坑的开口处向外延伸，该下凹空间111形成于凹坑的开口处，且该垫层11形成有下凹空间111的部分的厚度大于垫层11其他部分的厚度，以降低渗漏的隐患，该主体结构21浇筑形成于垫层11的延伸部分。
进一步的，凹坑相对的两侧砌筑有砖模14，该垫层11一体浇筑形成于相对的两个砖模14之间且部分自砖模14的顶部向外延伸。
具体的，该砖模14靠近后浇带22下凹空间111的侧部形成有向下倾斜的倾斜面，两个砖模14的倾斜面相对设置并呈“八”字形，从而垫层11对应后浇带22部分的截面呈类梯形，以减小渗漏隐患。
较佳地，该下凹空间111的高度为10cm，且端部至对应的主体结构21的端面距离为10cm。
本实用新型的具体实施方式如下：
在基坑底部靠近待形成后浇带22的位置开挖形成一凹坑，于凹坑底面相对的两侧壁处砌筑相对的两个砖模14，两个砖模14的倾斜面相对呈倒“八”字形，在两个砖模14的上方支设模板，以于砖模14之间浇筑形成垫层11，该垫层11部分自砖模14顶部向外延伸形成延伸部分，且该垫层11对应后浇带22的位置形成向下凹陷的下凹空间111；
将垫层11表面的转角处均处理成圆角，沿垫层11的表面铺设防水层12，且该防水层12贴合于下凹空间111的侧壁和底面；
在下凹空间111中的防水层12上浇筑混凝土以形成保护层13，该保护层13覆盖住下凹空间111部分的防水层12；
在垫层11延伸部分的防水层12上浇筑形成主体结构21，且该主体结构21部分形成于保护层13上；
此时保护层13覆盖住防水层12，避免防水层12暴露在外，防止在后浇带22浇筑前的施工中破坏后浇带22中的防水层12，减小了渗漏隐患，保证整体结构的防水性能。
以上结合附图实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域中普通技术人员可根据上述说明对本实用新型做出种种变化例。因而，实施例中的某些细节不应构成对本实用新型的限定，本实用新型将以所附权利要求书界定的范围作为本实用新型的保护范围。
Claims (8)
1.一种后浇带防水结构，其特征在于，包括：
浇筑形成于地面的垫层，所述垫层的表面对应待形成的后浇带的位置向下凹陷并形成下凹空间；
沿所述垫层表面铺设的防水层，且所述防水层贴合于所述下凹空间的侧壁及底面；以及
浇筑形成于所述下凹空间中的防水层上的保护层，所述保护层两侧的防水层上浇筑形成有主体结构，且两个所述主体结构之间形成所述后浇带，所述主体结构和所述保护层覆盖住所述防水层。
2.如权利要求1所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述下凹空间的宽度大于所述后浇带的宽度，所述主体结构部分浇筑形成于所述保护层上，使得所述保护层的端部位于对应的所述主体结构的底部。
3.如权利要求1所述的后浇带防水结构，其特征在于，还包括对应待形成的所述后浇带且开挖于所述地面的凹坑；
所述垫层一体浇筑形成于所述凹坑并部分自所述凹坑的开口处向外延伸，所述下凹空间形成于所述凹坑的开口处，且所述垫层形成有所述下凹空间的部分的厚度大于所述垫层其他部分的厚度，所述主体结构浇筑形成于所述垫层的延伸部分。
4.如权利要求3所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述凹坑相对的两侧砌筑有砖模，所述垫层一体浇筑形成于相对的两个所述砖模之间且部分自所述砖模的顶部向外延伸。
5.如权利要求4所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述砖模靠近所述下凹空间的侧部形成有向下倾斜的倾斜面，两个所述砖模的倾斜面相对设置并呈“八”字形。
6.如权利要求1所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述下凹空间的转角均为圆角。
7.如权利要求1所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述保护层由C15细石混凝土浇筑而成。
8.如权利要求1所述的后浇带防水结构，其特征在于，所述保护层的顶面与所述垫层的顶面相平齐。
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| CN201922074906.9U Active CN211340873U (zh) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | 后浇带防水结构 |
Country Status (1)
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2019
- 2019-11-27 CN CN201922074906.9U patent/CN211340873U/zh active Active
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