CN211273722U - 一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体 - Google Patents
一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型揭示一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,包括反应腔本体,所述反应腔本体左侧的底部连通有回流管,所述回流管的左侧连通有收集箱,所述收集箱的顶部通过管道连通有吸泵,所述吸泵的出水端连通有高压喷头,且高压喷头延伸至反应腔本体的内腔。本实用新型通过吸泵吸取收集箱内腔蚀刻机液体,通过高压喷头高压喷淋,进行蚀刻工作,蚀刻机液体通过第一过滤板的过滤流入回流管内,再由第二过滤板过滤,最终流入收集箱内,从而进行循环使用,从而提高第一过滤板和第二过滤板的过滤效果,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及蚀刻机技术领域,具体涉及一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体。
背景技术
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类,在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,如今市场上所见到的自动型化学蚀刻机是通过高压喷淋及被蚀刻板直线运动形成连续不间断进料状态进行对工件腐蚀以提高生产效率,蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,具备过滤等优点,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,包括反应腔本体,所述反应腔本体左侧的底部连通有回流管,所述回流管的左侧连通有收集箱,所述收集箱的顶部通过管道连通有吸泵,所述吸泵的出水端连通有高压喷头,且高压喷头延伸至反应腔本体的内腔;
所述反应腔本体的内腔固定连接有第一过滤板,所述第一过滤板的表面滑动连接有滑套,所述滑套内腔的顶部和底部均固定连接有第一毛刷。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述反应腔本体内腔的底部固定连接有导流板,所述滑套内腔的两侧均开设有限位槽,所述限位槽的内腔滑动连接有限位块,所述限位块远离限位槽内腔的一侧与第一过滤板固定连接。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述回流管的表面活动连接有第二过滤板,所述回流管的底部固定连接有机箱,且机箱内腔的底部固定连接有伺服电机,所述伺服电机的输出轴固定连接有主动齿轮。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述主动齿轮的两侧均啮合有从动齿轮,所述从动齿轮的顶部固定连接有转杆,且转杆贯穿至回流管的内腔,所述转杆位于回流管内腔一端的两侧均固定连接有第二毛刷。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述回流管内腔的底部开设有插槽,所述插槽的内腔滑动连接有插块,所述插块远离插槽内腔的一侧与第二过滤板固定连接。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述回流管顶部的左侧通过转轴活动连接有卡块,所述卡块与第二过滤板活动连接。
本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其中,所述高压喷头贯穿至反应腔本体的内腔,且高压喷头的数量为三个。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过吸泵吸取收集箱内腔蚀刻机液体,通过高压喷头高压喷淋,进行蚀刻工作,蚀刻机液体通过第一过滤板的过滤流入回流管内,再由第二过滤板过滤,最终流入收集箱内,从而进行循环使用,移动滑套,滑套带动第一毛刷对第一过滤板表面的杂质进行清理,伺服电机的输出轴带动主动齿轮旋转,主动齿轮带动从动齿轮旋转,从动齿轮带动转杆和第二毛刷旋转,从而对第二过滤板表面的杂质进行清理,从而提高第一过滤板和第二过滤板的过滤效果,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。
2、本实用新型通过设置限位槽和限位块,起到了对滑套限位的效果,通过设置插槽、插块和卡块,起到了方便将第二过滤板抽出的效果。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型回流管的剖面结构示意图;
图3为本实用新型滑套的剖面结构示意图。
图中:1、反应腔本体;2、回流管;3、收集箱;4、吸泵;5、高压喷头;6、第一过滤板;7、滑套;8、第一毛刷;9、导流板;10、限位槽;11、限位块;12、第二过滤板;13、伺服电机;14、主动齿轮;15、从动齿轮;16、转杆;17、第二毛刷;18、插槽;19、插块;20、卡块。
具体实施方式
以下将以图式揭露本实用新型的多个实施方式,为明确说明起见,许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而,应了解到,这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说,在本实用新型的部分实施方式中,这些实务上的细节是非必要的。此外,为简化图式起见,一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单的示意的方式绘示之。
另外,在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,并非特别指称次序或顺位的意思,亦非用以限定本实用新型,其仅仅是为了区别以相同技术用语描述的组件或操作而已,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
请参阅图1-3,本实用新型的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,包括反应腔本体1,反应腔本体1左侧的底部连通有回流管2,回流管2的表面活动连接有第二过滤板12,回流管2的底部固定连接有机箱,且机箱内腔的底部固定连接有伺服电机13,伺服电机13的输出轴固定连接有主动齿轮14,主动齿轮14的两侧均啮合有从动齿轮15,从动齿轮15的顶部固定连接有转杆16,且转杆16贯穿至回流管2的内腔,转杆16位于回流管2内腔一端的两侧均固定连接有第二毛刷17,回流管2内腔的底部开设有插槽18,插槽18的内腔滑动连接有插块19,插块19远离插槽18内腔的一侧与第二过滤板12固定连接,回流管2顶部的左侧通过转轴活动连接有卡块20,卡块20与第二过滤板12活动连接,回流管2的左侧连通有收集箱3,收集箱3的顶部通过管道连通有吸泵4,吸泵4的出水端连通有高压喷头5,高压喷头5贯穿至反应腔本体1的内腔,且高压喷头5的数量为三个,且高压喷头5延伸至反应腔本体1的内腔;
反应腔本体1的内腔固定连接有第一过滤板6,第一过滤板6的表面滑动连接有滑套7,滑套7内腔的顶部和底部均固定连接有第一毛刷8,反应腔本体1内腔的底部固定连接有导流板9,滑套7内腔的两侧均开设有限位槽10,限位槽10的内腔滑动连接有限位块11,限位块11远离限位槽10内腔的一侧与第一过滤板6固定连接,通过吸泵4吸取收集箱3内腔蚀刻机液体,通过高压喷头5高压喷淋,进行蚀刻工作,蚀刻机液体通过第一过滤板6的过滤流入回流管2内,再由第二过滤板12过滤,最终流入收集箱3内,从而进行循环使用,移动滑套7,滑套7带动第一毛刷8对第一过滤板6表面的杂质进行清理,伺服电机13的输出轴带动主动齿轮14旋转,主动齿轮14带动从动齿轮15旋转,从动齿轮15带动转杆16和第二毛刷17旋转,从而对第二过滤板12表面的杂质进行清理,从而提高第一过滤板6和第二过滤板12的过滤效果,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。
在使用本实用新型时,通过吸泵4吸取收集箱3内腔蚀刻机液体,通过高压喷头5高压喷淋,进行蚀刻工作,蚀刻机液体通过第一过滤板6的过滤流入回流管2内,再由第二过滤板12过滤,最终流入收集箱3内,从而进行循环使用,移动滑套7,滑套7带动第一毛刷8对第一过滤板6表面的杂质进行清理,伺服电机13的输出轴带动主动齿轮14旋转,主动齿轮14带动从动齿轮15旋转,从动齿轮15带动转杆16和第二毛刷17旋转,从而对第二过滤板12表面的杂质进行清理,从而提高第一过滤板6和第二过滤板12的过滤效果,解决了蚀刻机在使用过程中蚀刻机液体可循环使用,但是没有经过过滤的蚀刻机液体直接使用会对蚀刻机造成危害的问题。
以上所述仅为本实用新型的实施方式而已,并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理的内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包括在本实用新型的权利要求范围之内。
Claims (7)
1.一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,包括反应腔本体(1),其特征在于:所述反应腔本体(1)左侧的底部连通有回流管(2),所述回流管(2)的左侧连通有收集箱(3),所述收集箱(3)的顶部通过管道连通有吸泵(4),所述吸泵(4)的出水端连通有高压喷头(5),且高压喷头(5)延伸至反应腔本体(1)的内腔;
所述反应腔本体(1)的内腔固定连接有第一过滤板(6),所述第一过滤板(6)的表面滑动连接有滑套(7),所述滑套(7)内腔的顶部和底部均固定连接有第一毛刷(8)。
2.根据权利要求1所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述反应腔本体(1)内腔的底部固定连接有导流板(9),所述滑套(7)内腔的两侧均开设有限位槽(10),所述限位槽(10)的内腔滑动连接有限位块(11),所述限位块(11)远离限位槽(10)内腔的一侧与第一过滤板(6)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述回流管(2)的表面活动连接有第二过滤板(12),所述回流管(2)的底部固定连接有机箱,且机箱内腔的底部固定连接有伺服电机(13),所述伺服电机(13)的输出轴固定连接有主动齿轮(14)。
4.根据权利要求3所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述主动齿轮(14)的两侧均啮合有从动齿轮(15),所述从动齿轮(15)的顶部固定连接有转杆(16),且转杆(16)贯穿至回流管(2)的内腔,所述转杆(16)位于回流管(2)内腔一端的两侧均固定连接有第二毛刷(17)。
5.根据权利要求1所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述回流管(2)内腔的底部开设有插槽(18),所述插槽(18)的内腔滑动连接有插块(19),所述插块(19)远离插槽(18)内腔的一侧与第二过滤板(12)固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述回流管(2)顶部的左侧通过转轴活动连接有卡块(20),所述卡块(20)与第二过滤板(12)活动连接。
7.根据权利要求1所述的一种垂直式等离子蚀刻机的反应室腔体,其特征在于:所述高压喷头(5)贯穿至反应腔本体(1)的内腔,且高压喷头(5)的数量为三个。
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CN112915614A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-08 | 沈颖 | 一种具备滤网自动清理功能的污水处理用净化装置 |
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