CN211170867U

CN211170867U - 一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置

Info

Publication number: CN211170867U
Application number: CN201922438575.2U
Authority: CN
Inventors: 王雷; 常代展
Original assignee: Jiangsu Tuo Innovative Materials Technology Co ltd
Current assignee: Jiangsu Tuo Innovative Materials Technology Co ltd
Priority date: 2019-12-30
Filing date: 2019-12-30
Publication date: 2020-08-04
Anticipated expiration: 2029-12-30

Abstract

本实用新型公开了一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，包括靶材夹持机构、旋转平台和底座，旋转平台固定在底座上，底座下方安装有可升降支撑腿，靶材夹持机构包括U形夹持架，U形夹持架包括底板、左侧板和右侧板，底板下端面开有上凹槽，旋转平台上端面开有与上凹槽对称的下凹槽，且上凹槽和下凹槽之间安装旋转轴，底座内安装有与旋转轴传动连接的电机，左侧板内侧安装第一固定块，右侧板内侧安装第二固定块，本实用新型结构设计新颖，结构稳定性好，能够实现对导电氧化锆旋转靶材表面的快速喷涂，同时能够进行均匀冷却，提高了靶材喷涂质量。

Description

一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置

技术领域

本实用新型涉及靶材制造技术领域，具体为一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置。

背景技术

靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

目前的导电氧化锆旋转靶材在制造过程中操作不方便，冷却均匀性差，导致加工效率低，因此，有必要进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，包括靶材夹持机构、旋转平台和底座，所述旋转平台固定在底座上，所述底座下方安装有可升降支撑腿，所述靶材夹持机构包括U形夹持架，所述U形夹持架包括底板、左侧板和右侧板，所述底板下端面开有上凹槽，所述旋转平台上端面开有与上凹槽对称的下凹槽，且所述上凹槽和下凹槽之间安装旋转轴，所述底座内安装有与旋转轴传动连接的电机，所述左侧板内侧安装第一固定块，所述右侧板内侧安装第二固定块，所述第一固定块内侧安装第一支撑块，所述第二固定块内侧安装第二支撑块，所述第一固定块与第一支撑块之间安装缓冲组件，所述第二固定块与第二支撑块之间安装伸缩油缸。

优选的，所述缓冲组件包括多根导向柱和缓冲弹簧，多根导向柱固定在固定块与支撑块之间，所述缓冲弹簧套在导向柱外部，所述缓冲弹簧包括第一接触端、第二接触端和弹簧本体，所述弹簧本体由一长条形金属或树脂环形绕转而成，且呈螺旋状，所述第一接触端和第二接触端分别设置在弹簧本体的顶部和底部。

优选的，所述底板上还安装有散热组件，且所述散热组件安装在靶材正下方，所述散热组件包括两个层叠设置的金属基板以及设置于两个金属基板之间的多个半导体制冷晶粒，所述半导体制冷晶粒均呈柱状，且多个半导体制冷晶粒呈矩阵排列；所述金属基板靠近半导体制冷晶粒的侧面均固定设置有多个导流金属片，多个半导体制冷晶粒通过多个导流金属片串联电连接；所述散热组件与外部电源连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型结构设计新颖，结构稳定性好，能够实现对导电氧化锆旋转靶材表面的快速喷涂，同时能够进行均匀冷却，提高了靶材喷涂质量。

（2）本实用新型采用的缓冲组件缓冲性能好，安装在夹持机构上，能够实现对不同尺寸靶材的夹持，进一步提高了靶材加工效率。

（3）本实用新型采用的散热组件能够实现对靶材底部的均匀散热，进一步提高了靶材的冷却效果。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型缓冲弹簧结构示意图；

图3为本实用新型散热组件结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，包括靶材夹持机构、旋转平台1和底座2，所述旋转平台1固定在底座2上，所述底座2下方安装有可升降支撑腿3，所述靶材夹持机构包括U形夹持架4，所述U形夹持架4包括底板5、左侧板6和右侧板7，所述底板5下端面开有上凹槽8，所述旋转平台1上端面开有与上凹槽8对称的下凹槽9，且所述上凹槽8和下凹槽9之间安装旋转轴10，所述底座2内安装有与旋转轴10传动连接的电机11，所述左侧板6内侧安装第一固定块12，所述右侧板7内侧安装第二固定块13，所述第一固定块12内侧安装第一支撑块14，所述第二固定块13内侧安装第二支撑块15，所述第一固定块12与第一支撑块14之间安装缓冲组件，所述第二固定块13与第二支撑块15之间安装伸缩油缸16。

本实用新型中，缓冲组件包括多根导向柱17和缓冲弹簧18，多根导向柱17固定在固定块与支撑块之间，所述缓冲弹簧18套在导向柱17外部，所述缓冲弹簧18包括第一接触端19、第二接触端20和弹簧本体21，所述弹簧本体21由一长条形金属或树脂环形绕转而成，且呈螺旋状，所述第一接触端19和第二接触端20分别设置在弹簧本体21的顶部和底部。本实用新型采用的缓冲组件缓冲性能好，安装在夹持机构上，能够实现对不同尺寸靶材的夹持，进一步提高了靶材加工效率。

此外，本实用新型中，底板5上还安装有散热组件22，且所述散热组件22安装在靶材正下方，所述散热组件22包括两个层叠设置的金属基板23以及设置于两个金属基板23之间的多个半导体制冷晶粒24，所述半导体制冷晶粒24均呈柱状，且多个半导体制冷晶粒24呈矩阵排列；所述金属基板23靠近半导体制冷晶粒24的侧面均固定设置有多个导流金属片25，多个半导体制冷晶粒24通过多个导流金属片25串联电连接；所述散热组件22与外部电源连接。本实用新型采用的散热组件能够实现对靶材底部的均匀散热，进一步提高了靶材的冷却效果。

综上所述，本实用新型结构设计新颖，结构稳定性好，能够实现对导电氧化锆旋转靶材表面的快速喷涂，同时能够进行均匀冷却，提高了靶材喷涂质量。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims

1.一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，包括靶材夹持机构、旋转平台（1）和底座（2），其特征在于：所述旋转平台（1）固定在底座（2）上，所述底座（2）下方安装有可升降支撑腿（3），所述靶材夹持机构包括U形夹持架（4），所述U形夹持架（4）包括底板（5）、左侧板（6）和右侧板（7），所述底板（5）下端面开有上凹槽（8），所述旋转平台（1）上端面开有与上凹槽（8）对称的下凹槽（9），且所述上凹槽（8）和下凹槽（9）之间安装旋转轴（10），所述底座（2）内安装有与旋转轴（10）传动连接的电机（11），所述左侧板（6）内侧安装第一固定块（12），所述右侧板（7）内侧安装第二固定块（13），所述第一固定块（12）内侧安装第一支撑块（14），所述第二固定块（13）内侧安装第二支撑块（15），所述第一固定块（12）与第一支撑块（14）之间安装缓冲组件，所述第二固定块（13）与第二支撑块（15）之间安装伸缩油缸（16）。

2.根据权利要求1所述的一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，其特征在于：所述缓冲组件包括多根导向柱（17）和缓冲弹簧（18），多根导向柱（17）固定在固定块与支撑块之间，所述缓冲弹簧（18）套在导向柱（17）外部，所述缓冲弹簧（18）包括第一接触端（19）、第二接触端（20）和弹簧本体（21），所述弹簧本体（21）由一长条形金属或树脂环形绕转而成，且呈螺旋状，所述第一接触端（19）和第二接触端（20）分别设置在弹簧本体（21）的顶部和底部。

3.根据权利要求1所述的一种导电氧化锆旋转靶材制造专用装置，其特征在于：所述底板（5）上还安装有散热组件（22），且所述散热组件（22）安装在靶材正下方，所述散热组件（22）包括两个层叠设置的金属基板（23）以及设置于两个金属基板（23）之间的多个半导体制冷晶粒（24），所述半导体制冷晶粒（24）均呈柱状，且多个半导体制冷晶粒（24）呈矩阵排列；所述金属基板（23）靠近半导体制冷晶粒（24）的侧面均固定设置有多个导流金属片（25），多个半导体制冷晶粒（24）通过多个导流金属片（25）串联电连接；所述散热组件（22）与外部电源连接。