CN211125410U - 一种双稳态开关位稳定装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及双稳态开关技术领域，尤其是指一种双稳态开关位稳定装置，其包括支架，还包括固定于所述支架且依次呈直线间隔设置的上固定盘、下固定盘、上电磁铁和下电磁铁，还包括连接筒，连接筒上固置有上吸引盘、下吸引盘和圆盘，连接筒且位于上吸引盘之间下吸引盘滑动设置有活动盘；活动盘设置有上常闭开关和下常闭开关；上固定盘设置有上主线圈、上副线圈和上常开开关，当活动盘接触上固定盘时可触发上常开开关；下固定盘下主线圈、下副线圈和下常开开关，当活动盘接触下固定盘时可触发下常开开关。本实用新型通过控制上电磁铁和下电磁铁的通断，可以辅助保持双稳态开关的出头稳定，提高了双稳态开关的稳定性。

Description

一种双稳态开关位稳定装置

技术领域

本实用新型涉及双稳态开关技术领域，尤其是指一种双稳态开关位稳定装置。

背景技术

双稳态电路一般有一个输出端和两个输入端(“+”、“－”端各一个)，当输入端的“+”端有触发信号时，输出端不管原来是什么状态，都会立即变为高电平，且一直稳定地输出高电平。如果当输入端的“－”端有触发信号时，输出端不管原来是什么状态，都会立即变为低电平，且一直稳定地输出低电平。这就是双稳态电路。

双稳态开关设置有上固定盘和下固定盘，分别设置有主线圈，主线圈通电产生涡流，吸引活动盘，活动盘带动触头移动，触头下移则开关断开，触头上移则开关闭合，然而，线圈通电后由于电流不稳，可能导致磁场强度发生变化，造成触头接触不稳定。

实用新型内容

本实用新型提供一种双稳态开关位稳定装置，解决了线圈通电后由于电流不稳，可能导致磁场强度发生变化，造成触头接触不稳定的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种双稳态开关位稳定装置，其包括支架，还包括固定于所述支架且依次呈直线间隔设置的上固定盘、下固定盘、上电磁铁和下电磁铁，还包括连接筒，所述连接筒与所述上固定盘、下固定盘、上电磁铁滑动连接，所述连接筒上固置有上吸引盘、下吸引盘和圆盘，所述上吸引盘、下吸引盘位于所述上固定盘和下固定盘之间，所述圆盘位于上电磁铁和下电磁铁之间且与上电磁铁和下电磁铁磁吸配合，所述连接筒且位于所述上吸引盘之间下吸引盘滑动设置有活动盘；所述活动盘靠近下吸引盘的一侧设置有用于控制下电磁铁断电的上常闭开关，所述活动盘靠近上吸引盘的一侧设置有用于控制上电磁铁断电的下常闭开关；

所述上固定盘靠近所述下固定盘的一侧设置有用于吸附所述活动盘靠近上固定盘的上主线圈、用于吸引所述上吸引盘靠近上固定盘的上副线圈和用于控制上电磁铁通电的上常开开关，当所述活动盘接触上固定盘时可触发上常开开关；所述下固定盘靠近所述上固定盘的一侧设置有用于吸附所述活动盘靠近下固定盘的下主线圈、用于吸引所述上吸引盘靠近下固定盘的下副线圈和用于控制上电磁铁通电的下常开开关，当所述活动盘接触下固定盘时可触发下常开开关。

进一步地，所述活动盘的两侧设置有用于容纳上吸引盘的上容纳槽和用于容纳所述下吸引盘的下容纳槽，所述下容纳槽的深度大于下吸引盘的厚度，所述下常闭开关安装于上容纳槽，所述上常闭开关安装于所述下容纳槽，所述上容纳槽的深度大于上吸引盘的厚度；所述上常开开关避开于上容纳槽在上固定盘的平面投影区域，所述下常开开关避开于下容纳槽在下固定盘的平面投影区域。

进一步地，所述上吸引盘和活动盘之间通过上弹簧连接，所述下吸引盘和活动盘之间通过下弹簧连接，自然状态时，所述活动盘位于上吸引盘和下吸引盘之间的中点处。

进一步地，所述上主线圈和上副线圈同心设置，所述下主线圈和下副线圈同心设置。

进一步地，所述连接筒的轴线与上固定盘、上吸引盘、活动盘、下吸引盘、下固定盘、上电磁铁、圆盘、下电磁铁的中心连线共线。

进一步地，所述活动盘设置有滑孔，所述滑孔与所述连接筒间隙配合。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过控制上电磁铁和下电磁铁的通断，可以辅助保持双稳态开关的出头稳定，避免出现由于电流不稳，可能导致磁场强度发生变化，造成触头接触不稳定的问题，可以提高双稳态开关的稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例的稳定装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例稳定装置的另一视角的结构示意图。

附图标记说明：10、支架；20、连接套；21、圆盘；30、上固定盘；31、上主线圈；32、上副线圈；33、上常开开关；40、上吸引盘；41、上弹簧；50、活动盘；51、上容纳槽；52、下常闭开关；53、下容纳槽；54、上常闭开关；60、下吸引盘；61、下弹簧；70、下固定盘；71、下主线圈；72、下副线圈；73、下常开开关；80、上电磁铁；90、下电磁铁。

具体实施方式

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

实施例

如图1和图2所示，本实用新型提供的一种双稳态开关位稳定装置，其包括支架10，还包括固定于所述支架10且依次呈直线间隔设置的上固定盘30、下固定盘70、上电磁铁80和下电磁铁90，还包括连接筒，所述连接筒与所述上固定盘30、下固定盘70、上电磁铁80滑动连接，所述连接筒上固置有上吸引盘40、下吸引盘60和圆盘21，所述上吸引盘40、下吸引盘60位于所述上固定盘30和下固定盘70之间，所述圆盘21位于上电磁铁80和下电磁铁90之间且与上电磁铁80和下电磁铁90磁吸配合，圆盘21可以采用铁块，所述连接筒且位于所述上吸引盘40之间下吸引盘60滑动设置有活动盘50；所述活动盘50靠近下吸引盘60的一侧设置有用于控制下电磁铁90断电的上常闭开关54，所述活动盘50靠近上吸引盘40的一侧设置有用于控制上电磁铁80断电的下常闭开关52；所述上固定盘30靠近所述下固定盘70的一侧设置有用于吸附所述活动盘50靠近上固定盘30的上主线圈31、用于吸引所述上吸引盘40靠近上固定盘30的上副线圈32和用于控制上电磁铁80通电的上常开开关33，当所述活动盘50接触上固定盘30时可触发上常开开关33；所述下固定盘70靠近所述上固定盘30的一侧设置有用于吸附所述活动盘50靠近下固定盘70的下主线圈71、用于吸引所述上吸引盘40靠近下固定盘70的下副线圈72和用于控制上电磁铁80通电的下常开开关73，当所述活动盘50接触下固定盘70时可触发下常开开关73。

优选地，所述活动盘50的两侧设置有用于容纳上吸引盘40的上容纳槽51和用于容纳所述下吸引盘60的下容纳槽53，所述下容纳槽53的深度大于下吸引盘60的厚度，所述下常闭开关52安装于上容纳槽51，所述上常闭开关54安装于所述下容纳槽53，所述上容纳槽51的深度大于上吸引盘40的厚度；所述上常开开关33避开于上容纳槽51在上固定盘30的平面投影区域，所述下常开开关73避开于下容纳槽53在下固定盘70的平面投影区域。

优选地，所述上吸引盘40和活动盘50之间通过上弹簧41连接，所述下吸引盘60和活动盘50之间通过下弹簧61连接，自然状态时，所述活动盘50位于上吸引盘40和下吸引盘60之间的中点处，可以提高活动盘50的灵敏度。

优选地，所述上主线圈31和上副线圈32同心设置，所述下主线圈71和下副线圈72同心设置，时结构更加紧密。

优选地，所述连接筒的轴线与上固定盘30、上吸引盘40、活动盘50、下吸引盘60、下固定盘70、上电磁铁80、圆盘21、下电磁铁90的中心连线共线。

优选地，所述活动盘50设置有滑孔，所述滑孔与所述连接筒间隙配合。

工作原理：

当下主线圈71与下副线圈72同时通电，下主线圈71将活动盘50向下吸引，活动盘50向下移动，活动盘50接触下常开开关73，下电磁铁90得电，吸引圆盘21向下运动，使圆盘21贴合下电磁铁90，辅助保持触头稳定；此时下吸引盘60接触下副线圈72，在下容纳槽53内，下容纳槽53深度大于下吸引盘60厚度，因此，下吸引盘60没有触发下常闭开关52，下电磁铁90保持得电状态；

当开关状态切换时，下主线圈71与下副线圈72断电，上主线圈31与上副线圈32通电，上副线圈32吸引上吸引盘40向上运动，上吸引盘40带动连接套20向上移动，进而带动下吸引盘60向上移动，下吸引盘60与上常闭开关54接触，上常闭开关54断开，下电磁铁90断电，上主线圈31将活动盘50向上吸引，活动盘50向上移动，活动盘50接触上常开开关33，上电磁铁80得电，吸引圆盘21，使圆盘21贴合上电磁铁80，辅助保持触头稳定。

综上所述，本实用新型通过控制上电磁铁80和下电磁铁90的通断，可以辅助保持双稳态开关的出头稳定，避免出现由于电流不稳，可能导致磁场强度发生变化，造成触头接触不稳定的问题，可以提高双稳态开关的稳定性。

显然，以上所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例，附图中给出了本申请的较佳实施例，但并不限制本申请的专利范围。本申请可以以许多不同的形式来实现，相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来而言，其依然可以对前述各具体实施方式所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等效替换。凡是利用本申请说明书及附图内容所做的等效结构，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理在本申请专利保护范围之内。

Claims (6)

1.一种双稳态开关位稳定装置，包括支架，其特征在于：还包括固定于所述支架且依次呈直线间隔设置的上固定盘、下固定盘、上电磁铁和下电磁铁，还包括连接筒，所述连接筒与所述上固定盘、下固定盘、上电磁铁滑动连接，所述连接筒上固置有上吸引盘、下吸引盘和圆盘，所述上吸引盘、下吸引盘位于所述上固定盘和下固定盘之间，所述圆盘位于上电磁铁和下电磁铁之间且与上电磁铁和下电磁铁磁吸配合，所述连接筒且位于所述上吸引盘之间下吸引盘滑动设置有活动盘；所述活动盘靠近下吸引盘的一侧设置有用于控制下电磁铁断电的上常闭开关，所述活动盘靠近上吸引盘的一侧设置有用于控制上电磁铁断电的下常闭开关；

所述上固定盘靠近所述下固定盘的一侧设置有用于吸附所述活动盘靠近上固定盘的上主线圈、用于吸引所述上吸引盘靠近上固定盘的上副线圈和用于控制上电磁铁通电的上常开开关，当所述活动盘接触上固定盘时可触发上常开开关；所述下固定盘靠近所述上固定盘的一侧设置有用于吸附所述活动盘靠近下固定盘的下主线圈、用于吸引所述上吸引盘靠近下固定盘的下副线圈和用于控制上电磁铁通电的下常开开关，当所述活动盘接触下固定盘时可触发下常开开关。

2.根据权利要求1所述的一种双稳态开关位稳定装置，其特征在于：所述活动盘的两侧设置有用于容纳上吸引盘的上容纳槽和用于容纳所述下吸引盘的下容纳槽，所述下容纳槽的深度大于下吸引盘的厚度，所述下常闭开关安装于上容纳槽，所述上常闭开关安装于所述下容纳槽，所述上容纳槽的深度大于上吸引盘的厚度；所述上常开开关避开于上容纳槽在上固定盘的平面投影区域，所述下常开开关避开于下容纳槽在下固定盘的平面投影区域。

3.根据权利要求2所述的一种双稳态开关位稳定装置，其特征在于：所述上吸引盘和活动盘之间通过上弹簧连接，所述下吸引盘和活动盘之间通过下弹簧连接，自然状态时，所述活动盘位于上吸引盘和下吸引盘之间的中点处。

4.根据权利要求1所述的一种双稳态开关位稳定装置，其特征在于：所述上主线圈和上副线圈同心设置，所述下主线圈和下副线圈同心设置。

5.根据权利要求1所述的一种双稳态开关位稳定装置，其特征在于：所述连接筒的轴线与上固定盘、上吸引盘、活动盘、下吸引盘、下固定盘、上电磁铁、圆盘、下电磁铁的中心连线共线。

6.根据权利要求1所述的一种双稳态开关位稳定装置，其特征在于：所述活动盘设置有滑孔，所述滑孔与所述连接筒间隙配合。

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