CN211103359U - 一种陶瓷设备用的防污抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及陶瓷的技术领域，且公开了一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括底座，底座的上表面固定连接有底板，底板左侧的表面开设有外槽口，外槽口的内部设置有便于升高放置板的调节机构，内槽内设置有便于固定调节机构的固定机构，通过将活动柱向下进按动，使活动柱以两个转动柱为轴心在外槽口的内部向下进行转动，通过磁铁一与磁铁二磁极之间产生的斥力进而带动磁铁二在转轴上进行转动，随后通过磁铁二转动带动限位柱向外槽口内部的前侧进行移动，活动柱通过限位柱固定，从而同步将放置板固定在了空槽的内部，且此时工作人员在对放置板调节后同时完成了对放置板的固定操作，进而有效的提高了工作人员使用时的便捷性。

Description

一种陶瓷设备用的防污抛光装置

技术领域

本实用新型涉及陶瓷的技术领域，具体为一种陶瓷设备用的防污抛光装置。

背景技术

陶瓷砖是由粘土和其他无机非金属原料，经成型、烧结等工艺生产的板状或块状陶瓷制品，用于装饰与保护建筑物、构筑物的墙面和地面，现有陶瓷砖在制作成型后需要进行抛光打磨的加工操作，陶瓷砖在抛光时需要先进行抛光剂的喷洒来进行防污的作用，现有多数对陶瓷砖的抛光装置，均带有可以升降高度的装置，而在对陶瓷砖进行调节升降后，均还需要进行固定的操作，进而为工作人员的使用带来不便。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种陶瓷设备用的防污抛光装置，具备提高工作人员使用时的便捷性等优点，解决了现有多数对陶瓷砖的抛光装置，均带有可以升降高度的装置，而在对陶瓷砖进行调节升降后，均还需要进行固定的操作，进而为工作人员的使用带来不便的问题。

（二）技术方案

为实现上述提高工作人员使用时便捷性的目的，本实用新型提供如下技术方案：一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括底座，底座的上表面固定安装有支撑架，支撑架的下表面固定安装有抛光机,抛光机的输出端位于下方，底座的上表面固定连接有底板，底板的上表面开设有空槽，底板通过空槽活动连接有放置板，底板左侧的表面开设有外槽口，底板的内部还开设有内槽，内槽的位置位于外槽口的后侧，外槽口的内部设置有便于升高放置板的调节机构，内槽内设置有便于固定调节机构的固定机构。

优选的，所述调节机构包括有两个转动柱，两个转动柱的外端均分别贯穿外槽口内部的两侧壁并与外槽口的两侧壁为转动连接，两个转动柱之间设置有活动柱,活动柱的两侧面分别固定安装在两个转动柱的内端上，活动柱的上表面开设有横槽。

优选的，所述转动柱的外端贯穿外槽口的内侧壁并延伸至内槽的内部，且转动柱的外端固定连接有磁铁一，磁铁一的N极位于下方。

优选的，所述固定机构包括有限位柱与转轴,限位柱的后端贯穿外槽口的内侧壁并延伸至内槽的内部，且限位柱与外槽口的内侧壁为滑动连接，限位柱的位置位于转动柱的下方，限位柱的上表面开设有卡槽，转轴的两端分别固定连接在内槽内部的两侧壁上，转轴的外部套接有磁铁二，磁铁二与限位柱为转动连接，磁铁二的S极位于磁铁一的正下方，且磁铁二的S极同时位于卡槽的正上方。

优选的，所述放置板包括有上板和下板，上板活动连接在底板的上表面，下板固定连接在上板的下表面，且下板活动连接在空槽的内部，下板下表面的两侧均固定连接有压缩弹簧。

（三）有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种陶瓷设备用的防污抛光装置，具备以下有益效果：

1、该陶瓷设备用的防污抛光装置，通过将活动柱向下进按动，使活动柱以两个转动柱为轴心在外槽口的内部向下进行转动，且因为活动柱的左端远离轴心处，进而通过省力杠杆的远离可以节省工作人员需要使用的力气，且当活动柱的左端向下时，右端会对放置板进行挤推从而使放置板在空槽的内部向上移动，且在同时活动柱转动带动转动柱并带动磁铁一进行同步的转动，磁铁一转动进而磁极改变，通过磁铁一与磁铁二磁极之间产生的斥力进而带动磁铁二在转轴上进行转动，随后通过磁铁二转动带动限位柱向外槽口内部的前侧进行移动，且同时限位柱位于活动柱的上方，此时活动柱通过限位柱固定，从而同步将放置板固定在了空槽的内部，且此时工作人员在对放置板调节后同时完成了对放置板的固定操作，进而有效的提高了工作人员使用时的便捷性。

2、该陶瓷设备用的防污抛光装置，通过设置横槽与两个转动柱配合限位柱可以牢固的对活动柱的位置进行限位，使活动柱可以固定在外槽口的内部，且同时配合限位柱上设置的卡槽可以更顺畅使磁铁二带动限位柱进行滑动，进而可以有效地保证本装置的稳定运行状况。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图；

图2为本实用新型图1中底板的正面剖视结构示意图；

图3为本实用新型图1中底板的侧面剖视结构示意图；

图4为本实用新型图1中A处的局部放大结构示意图。

图中：1底座、11支撑架、机12抛光、13底板、14放置板、15压缩弹簧、16空槽、17外槽口、18内槽、2调节机构、21转动柱、22活动柱、23横槽、24磁铁一、3固定机构、31限位柱、32转轴、33磁铁二。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明，其中相同的零部件用相同的附图标记表示，需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”、“底面”和“顶面”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括底座1，底座1的上表面固定安装有支撑架11，支撑架11的下表面固定安装有抛光机12,抛光机12的输出端位于下方，底座1的上表面固定连接有底板13，底板13的上表面开设有空槽16，底板13通过空槽16活动连接有放置板14，放置板14包括有上板和下板，上板活动连接在底板13的上表面，下板固定连接在上板的下表面，且下板活动连接在空槽16的内部，下板下表面的两侧均固定连接有压缩弹簧15，底板13左侧的表面开设有外槽口17，底板13的内部还开设有内槽18，内槽18的位置位于外槽口17的后侧，外槽口17的内部设置有便于升高放置板14的调节机构2，调节机构2包括有两个转动柱21，两个转动柱21的外端均分别贯穿外槽口17内部的两侧壁并与外槽口17的两侧壁为转动连接，两个转动柱21之间设置有活动柱22,活动柱22的两侧面分别固定安装在两个转动柱21的内端上，活动柱22的上表面开设有横槽23，转动柱21的外端贯穿外槽口17的内侧壁并延伸至内槽18的内部，且转动柱21的外端固定连接有磁铁一24，磁铁一24的N极位于下方。

内槽18内设置有便于固定调节机构2的固定机构3，固定机构3包括有限位柱31与转轴32,限位柱31的后端贯穿外槽口17的内侧壁并延伸至内槽18的内部，且限位柱31与外槽口17的内侧壁为滑动连接，限位柱31的位置位于转动柱21的下方，限位柱31的上表面开设有卡槽，转轴32的两端分别固定连接在内槽18内部的两侧壁上，转轴32的外部套接有磁铁二33，磁铁二33与限位柱31为转动连接，磁铁二33的S极位于磁铁一24的正下方，且磁铁二33的S极同时位于卡槽的正上方。

在使用时，当工作人员在对陶瓷砖进行抛光打磨时，此时需要通过调节放置板14的高度来使陶瓷砖适应抛光机12输出端的位置，此时通过将活动柱22向下进按动，使活动柱22以两个转动柱21为轴心在外槽口17的内部向下进行转动，且因为活动柱22的左端远离轴心处，进而通过省力杠杆的远离可以节省工作人员需要使用的力气，且当活动柱22的左端向下时，右端会对放置板14进行挤推从而使放置板14在空槽16的内部向上移动，且在同时活动柱22转动带动转动柱21并带动磁铁一24进行同步的转动，磁铁一24转动进而磁极改变，通过磁铁一24与磁铁二33磁极之间产生的斥力进而带动磁铁二33在转轴32上进行转动，随后通过磁铁二33转动带动限位柱31向外槽口17内部的前侧进行移动，且同时限位柱31位于活动柱22的上方，此时活动柱22通过限位柱31固定，从而同步将放置板14固定在了空槽16的内部，且此时工作人员在对放置板14调节后同时完成了对放置板14的固定操作，进而有效的提高了工作人员使用时的便捷性。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种陶瓷设备用的防污抛光装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的上表面固定安装有支撑架（11），支撑架（11）的下表面固定安装有抛光机（12）,抛光机（12）的输出端位于下方，底座（1）的上表面固定连接有底板（13），底板（13）的上表面开设有空槽（16），底板（13）通过空槽（16）活动连接有放置板（14），底板（13）左侧的表面开设有外槽口（17），底板（13）的内部还开设有内槽（18），内槽（18）的位置位于外槽口（17）的后侧，外槽口（17）的内部设置有便于升高放置板（14）的调节机构（2），内槽（18）内设置有便于固定调节机构（2）的固定机构（3）。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述调节机构（2）包括有两个转动柱（21），两个转动柱（21）的外端均分别贯穿外槽口（17）内部的两侧壁并与外槽口（17）的两侧壁为转动连接，两个转动柱（21）之间设置有活动柱（22）,活动柱（22）的两侧面分别固定安装在两个转动柱（21）的内端上，活动柱（22）的上表面开设有横槽（23）。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述转动柱（21）的外端贯穿外槽口（17）的内侧壁并延伸至内槽（18）的内部，且转动柱（21）的外端固定连接有磁铁一（24），磁铁一（24）的N极位于下方。

4.根据权利要求2所述的一种陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述固定机构（3）包括有限位柱（31）与转轴（32）,限位柱（31）的后端贯穿外槽口（17）的内侧壁并延伸至内槽（18）的内部，且限位柱（31）与外槽口（17）的内侧壁为滑动连接，限位柱（31）的位置位于转动柱（21）的下方，限位柱（31）的上表面开设有卡槽，转轴（32）的两端分别固定连接在内槽（18）内部的两侧壁上，转轴（32）的外部套接有磁铁二（33），磁铁二（33）与限位柱（31）为转动连接，磁铁二（33）的S极位于磁铁一（24）的正下方，且磁铁二（33）的S极同时位于卡槽的正上方。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷设备用的防污抛光装置，其特征在于：所述放置板（14）包括有上板和下板，上板活动连接在底板（13）的上表面，下板固定连接在上板的下表面，且下板活动连接在空槽（16）的内部，下板下表面的两侧均固定连接有压缩弹簧（15）。

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