CN211063029U - 一种激光器的光斑调节系统 - Google Patents
一种激光器的光斑调节系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN211063029U CN211063029U CN201922269285.XU CN201922269285U CN211063029U CN 211063029 U CN211063029 U CN 211063029U CN 201922269285 U CN201922269285 U CN 201922269285U CN 211063029 U CN211063029 U CN 211063029U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- laser
- fac lens
- quality analyzer
- beam quality
- spot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
本实用新型涉及激光器领域，具体涉及一种激光器的光斑调节系统。该光斑调节系统包括激光器，用于发射激光；FAC透镜，所述FAC透镜接收激光器发射的激光，并将其准直聚焦后输出；光束质量分析仪，所述光束质量分析仪接收FAC透镜输出的光束，将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息；显示设备，与所述光束质量分析仪连接将其光斑信息显示输出以观察调节光斑的位置和尺寸。本实用新型通过设置光束质量分析仪将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息，显示设备能将其光斑信息的同步显示输出，以观察调节光斑的位置和尺寸，从而准确得出光斑位置和尺寸，满足高精度的要求，提高了耦合效率，从而提高了激光器的可靠性，减小了工艺难度。
Description
技术领域
本实用新型涉及激光器领域，具体涉及一种激光器的光斑调节系统。
背景技术
激光器是能发射激光的装置。随着科学技术的发展，激光器广泛应用于工业生产加工中。
在激光器的应用中，需要对激光器发射的激光进行转换整形，最后调节得到生产加工所需要的光斑。在光斑调节的过程中，通常通过激光观察卡观察光斑的位置和尺寸。
尤其是9xxnm半导体激光器中光斑的调节，9xxnm半导体激光器发射的激光为不可见光，通常使用激光观察卡将其转换为可见光，再进行光束整形，调节准直透镜与9xxnm半导体激光器之间的距离和角度，通过激光观察卡观察光斑的位置和尺寸，使光斑最小且处于水平状态，得到一个压缩过的光斑，但是，使用该方案得到的光斑位置和尺寸不够精确，无法满足高精度要求。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种激光器的光斑调节系统，克服现有的激光器光斑调节得到的光斑位置和尺寸不够精确，无法满足高精度要求的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种激光器的光斑调节系统，包括：
激光器，用于发射激光；
FAC透镜，所述FAC透镜接收激光器发射的激光，并将其准直聚焦后输出；
光束质量分析仪，所述光束质量分析仪接收FAC透镜输出的光束，将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息；
显示设备，与所述光束质量分析仪连接将其光斑信息显示输出以观察调节光斑的位置和尺寸。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述光斑调节系统还包括六维调节架，所述FAC透镜设于六维调节架上并通过六维调节架调节位置和角度。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述六维调节架包括六个调节轴向，每一所述调节轴向包括用于调节FAC透镜的位置和角度的粗调调节杆和微调调节杆。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述光束质量分析仪与激光器的激光输出端的距离为20～30cm。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述光斑调节系统还包括设于FAC透镜与光束质量分析仪之间的衰减片，所述FAC透镜输出的光束经衰减片减弱能量后入射至光束质量分析仪。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述FAC透镜包括一接收激光器发射激光的入射平面，所述入射平面与激光器的激光输出端平行。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述FAC透镜与激光器的激光输出端的距离为90～110um。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述光斑调节系统还包括用于夹紧固定FAC透镜的夹具，所述六维调节架带动夹具移动调节FAC透镜的位置和角度。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述FAC透镜输出的光束垂直入射至光束质量分析仪。
本实用新型的更进一步优选方案是：所述激光器为9xxnm的半导体激光器。
本实用新型的有益效果在于，与现有技术相比，通过设置光束质量分析仪，激光器发射的激光经FAC透镜准直聚焦后输出，入射至光束质量分析仪，光束质量分析仪将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息，显示设备能将其光斑信息的同步显示输出，以观察调节光斑的位置和尺寸，从而准确得出光斑位置和尺寸，满足高精度的要求，提高了耦合效率，从而提高了激光器的可靠性，减小了工艺难度。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
图1是本实用新型激光器的光斑调节系统的结构示意图；
图2是本实用新型FAC透镜的立体结构示意图；
图3是本实用新型激光器的光斑调节系统所得到的光斑的示意图。
具体实施方式
现结合附图，对本实用新型的较佳实施例作详细说明。
如图1所示，本实用新型提供一种激光器的光斑调节系统的优选实施例。
一种激光器的光斑调节系统，包括激光器10，用于发射激光；FAC透镜20，所述FAC透镜20接收激光器10发射的激光，并将其准直聚焦后输出；光束质量分析仪30，所述光束质量分析仪30接收FAC透镜20输出的光束，将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息；显示设备40，与所述光束质量分析仪30连接将其光斑信息显示输出以观察调节光斑的位置和尺寸。
通过设置光束质量分析仪30，激光器10发射的激光经FAC透镜20准直聚焦后输出，入射至光束质量分析仪30，光束质量分析仪30将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息，显示设备40能将其光斑信息的同步显示输出，以观察调节光斑的位置和尺寸，从而准确得出光斑位置和尺寸，满足高精度的要求，提高了耦合效率，从而提高了激光器10的可靠性，减小了工艺难度。
其中，FAC透镜20能在激光器10快轴方向上对激光器10(尤其是半导体激光器)中扩散输出的光束进行准直输出。
进一步地，所述光斑调节系统还包括六维调节架(图未示)，所述FAC透镜20设于六维调节架上并通过六维调节架调节位置和角度。其中，六维调节架具有六个方向的自由度，能精确调节FAC透镜20的位置和角度。FAC透镜20通过六维调节架调节位置和角度，能使激光器10发射的激光以更精确的角度和传输距离入射至FAC透镜20，且由FAC透镜20输出的光束以更合适的角度和距离入射至光束质量分析仪30，从而得到水平状态的、经压缩的质量更良好的光斑，满足高精度的要求，提高了耦合效率。
其中，所述六维调节架包括六个调节轴向，每一所述调节轴向包括用于调节FAC透镜20的位置和角度的粗调调节杆和微调调节杆。在调节FAC透镜20的位置和角度时，六维调节架的同一调节轴向设置粗调调节杆和微调调节杆，先使用粗调调节杆调节FAC透镜20的位置和角度，当FAC透镜20距离激光器10的激光输出端较近时，再使用微调调节杆调节，提高位置和角度调节精度，同时避免FAC透镜20与激光器10相撞。
本实施例中，所述光束质量分析仪30与激光器10的激光输出端的距离为20～30cm。具体地，所述光束质量分析仪30与激光器10的激光输出端的距离优选为25cm，这样能得到质量更好的光斑。
进一步地，参考图2，所述FAC透镜20包括一接收激光器10发射激光的入射平面21，所述入射平面21与激光器10的激光输出端平行。调整FAC透镜20的位置和角度，使得FAC透镜20的入射平面21与激光器10的激光输出端平行，从而使得压缩得到的光斑质量更好。
进一步地，所述FAC透镜20输出的光束垂直入射至光束质量分析仪30。其中，激光垂直入射至光束质量分析仪30，激光器10的激光输出端与光束质量分析仪30的输入端基本处于同一高度，光束质量分析仪30与激光器10的距离为25cm，可获得一个水平状态、质量良好的光斑。
进一步地，所述FAC透镜20与激光器10的激光输出端的距离为90～110um。将FAC透镜20与激光器10的激光输出端的距离设置为90～110um，得到的光斑质量更好。
本实施例中，所述光斑调节系统还包括用于夹紧固定FAC透镜20的夹具(图未示)，所述六维调节架带动夹具移动调节FAC透镜20的位置和角度。其中，夹具夹紧固定FAC透镜20，FAC透镜20通过夹具设在六维调节架上，通过六维架调节调节FAC透镜20的位置和角度，尤其是FAC透镜20的高度和与激光器10的激光输出端之间的距离，使得FAC透镜20的入射平面21与激光器10的激光输出端平行，FAC透镜20与激光器10的激光输出端的距离为90～110um，从而得到质量更好的光斑。
本实施例中，所述光斑调节系统还包括设于FAC透镜20与光束质量分析仪30之间的衰减片50，所述FAC透镜20输出的光束经衰减片50减弱能量后入射至光束质量分析仪30。在激光器10发射激光的功率密度比较高的情况下，其超出了光束质量分析仪30的损伤阈值，通过在FAC透镜20与光束质量分析仪30之间设置衰减片50，减弱光束的能量，使得入射至光束质量分析仪30的光束低于光束质量分析仪30的损伤阈值，延长光束质量分析仪30的使用寿命，同时滤除一些杂散光。
本实施例中，所述激光器10为9xxnm的半导体激光器。当然，在其他实施例中，所述激光器10也可以是9xxnm的半导体激光器以外的激光器10，只要其激光波长在光束质量分析仪30的监控范围内即可。
基于半导体激光器的光斑调节系统的工作原理如下：
操作人员使用夹具夹紧固定FAC透镜20，通过调节六维调节架调整FAC透镜20的位置和角度，使得FAC透镜20靠近激光器10的激光输出端，距离激光输出端100um左右，且FAC透镜20的入射平面21保持与激光器10的激光输出端平行，然后给激光器10供电，激光器10发射的激光经FAC透镜20准直聚焦后垂直入射至光束质量分析仪30，光束质量分析仪30将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息至显示设备40，通过显示设备40科观察到一条光斑，始终保持FAC透镜20的入射平面21保持与激光器10的激光输出端平行，并调节FAC透镜20的高度以及其与激光器10的激光输出端的距离，使得光斑逐渐被压缩得越来越小，亮度越来越高，最终显示设备40显示的光斑呈水平状态况且光斑的竖直方向发散角较小，如图3所示。
本实用新型的激光器的光斑调节系统，可以精确的调节光斑的高度位置以及大小形状，可以满足高精度要求，用来生产更高功率、高效率的半导体激光器。
应当理解的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制，对本领域技术人员来说，可以对上述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而所有这些修改和替换，都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种激光器的光斑调节系统，其特征在于，包括：
激光器，用于发射激光；
FAC透镜，所述FAC透镜接收激光器发射的激光，并将其准直聚焦后输出；
光束质量分析仪，所述光束质量分析仪接收FAC透镜输出的光束，将光信号转换为电信号并输出对应的光斑信息；
显示设备，与所述光束质量分析仪连接将其光斑信息显示输出以观察调节光斑的位置和尺寸。
2.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述光斑调节系统还包括六维调节架，所述FAC透镜设于六维调节架上并通过六维调节架调节位置和角度。
3.根据权利要求2所述的光斑调节系统，其特征在于，所述六维调节架包括六个调节轴向，每一所述调节轴向包括用于调节FAC透镜的位置和角度的粗调调节杆和微调调节杆。
4.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述光束质量分析仪与激光器的激光输出端的距离为20～30cm。
5.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述光斑调节系统还包括设于FAC透镜与光束质量分析仪之间的衰减片，所述FAC透镜输出的光束经衰减片减弱能量后入射至光束质量分析仪。
6.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述FAC透镜包括一接收激光器发射激光的入射平面，所述入射平面与激光器的激光输出端平行。
7.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述FAC透镜与激光器的激光输出端的距离为90～110um。
8.根据权利要求2所述的光斑调节系统，其特征在于，所述光斑调节系统还包括用于夹紧固定FAC透镜的夹具，所述六维调节架带动夹具移动调节FAC透镜的位置和角度。
9.根据权利要求1所述的光斑调节系统，其特征在于，所述FAC透镜输出的光束垂直入射至光束质量分析仪。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的光斑调节系统，其特征在于，所述激光器为9xxnm的半导体激光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201922269285.XU CN211063029U (zh) | 2019-12-17 | 2019-12-17 | 一种激光器的光斑调节系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201922269285.XU CN211063029U (zh) | 2019-12-17 | 2019-12-17 | 一种激光器的光斑调节系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN211063029U true CN211063029U (zh) | 2020-07-21 |
Family
ID=71592990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201922269285.XU Active CN211063029U (zh) | 2019-12-17 | 2019-12-17 | 一种激光器的光斑调节系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN211063029U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114322804A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 光斑外接圆测试工装及测试方法 |
| CN114545703A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-05-27 | 国科大杭州高等研究院 | 一种应用精密六维调节机构的f-p可调谐滤波器、系统、校正及电调谐方法 |
| CN114755770A (zh) * | 2022-05-16 | 2022-07-15 | 江苏镭创高科光电科技有限公司 | 激光耦合光纤的自动调光系统及调光方法 |
-
2019
- 2019-12-17 CN CN201922269285.XU patent/CN211063029U/zh active Active
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114322804A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 光斑外接圆测试工装及测试方法 |
| CN114545703A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-05-27 | 国科大杭州高等研究院 | 一种应用精密六维调节机构的f-p可调谐滤波器、系统、校正及电调谐方法 |
| CN114755770A (zh) * | 2022-05-16 | 2022-07-15 | 江苏镭创高科光电科技有限公司 | 激光耦合光纤的自动调光系统及调光方法 |
| CN114755770B (zh) * | 2022-05-16 | 2023-07-28 | 江苏镭创高科光电科技有限公司 | 激光耦合光纤的自动调光系统及调光方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN211063029U (zh) | 一种激光器的光斑调节系统 | |
| CN101435918B (zh) | 一种激光二极管列阵/面阵的尾纤耦合输出装置 | |
| CN108563034B (zh) | 反射型空间滤波器调试装置和方法 | |
| CN102494299A (zh) | 半导体激光照明光源 | |
| CN108535932A (zh) | 一种近远场同时检测光路的调试装置及调试方法 | |
| CN113600412A (zh) | 一种激光器光学镜片自动组装设备 | |
| CN210731347U (zh) | 一种基于温度检测的激光加工设备 | |
| CN104143495A (zh) | 一种质谱仪核心部件的自动控制系统 | |
| CN102646925B (zh) | 带光反馈激光模组结构 | |
| CN112198597A (zh) | 一种光纤耦合调节方法 | |
| CN114063225A (zh) | 一种光纤耦合模块封装调节方法及其装置 | |
| CN111896939A (zh) | 激光雷达光源检测装置 | |
| CN1821798A (zh) | 半导体激光近、远场分布观测装置 | |
| CN203071396U (zh) | 一种高功率半导体激光光束准直调整装置 | |
| CN208467512U (zh) | 一种激光切割打标一体机 | |
| CN204479799U (zh) | 一种阵列准直器 | |
| CN212330036U (zh) | 一种高精度控制多台co2激光器同步加工导光板设备 | |
| CN112658472A (zh) | 一种屋脊式激光分光系统和方法 | |
| CN208780434U (zh) | 激光准直光箱测试工装 | |
| JP2006064885A (ja) | 光モジュールおよびその製造方法 | |
| CN208596857U (zh) | 一种便于光纤输出的结构稳定微片激光系统 | |
| CN112427251A (zh) | 全自动fac镜准直系统 | |
| CN209632304U (zh) | 一种光斑焦距可调的激光器系统 | |
| CN215615871U (zh) | 一种基于脆性材料的双头加工系统 | |
| CN114791351A (zh) | 一种大功率光纤耦合半导体激光器测试系统及其使用方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 518000 No. 35, Cuijing Road, Pingshan New District, Shenzhen, Guangdong Patentee after: Ona Technology (Shenzhen) Group Co.,Ltd. Address before: No.35 Cuijing Road, Pingshan District, Shenzhen City, Guangdong Province Patentee before: O-NET COMMUNICATIONS (SHENZHEN) Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address |