CN211036085U - 一种镀膜均匀的真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括真空箱，所述真空箱顶部的左侧固定连接有电机，所述电机的输出轴固定连接有主动齿轮，所述主动齿轮的右侧啮合连接有从动齿轮，所述从动齿轮的底部贯穿并延伸至真空箱的内部，所述从动齿轮的底部固定连接有中心转动杆，所述中心转动杆的底部与真空箱的内底壁转动连接，所述中心转动杆的顶部与底部均套设有与其固定连接有转动盘，两个所述转动盘之间固定连接有均匀分布的放置杆。该实用新型操作简单，并且使基片镀膜更加均匀，而且提高了工作的效率，可以在镀膜完成后第一时间吸附真空箱内的气化金属，降低真空箱内的温度，保护了人员的使用安全。

Description

一种镀膜均匀的真空镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

在传统的真空镀膜机之中，使用完成后，需要放置一段时间，来使得其中的金属因子完全沉淀，而且刚完成温度较高，直接打开拉门可能使得人员烫伤以及吸入金属因子，因此需要耽误一些时间，影响了使用的效率，而由于金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡的问题，因此会降低产品的成功率，不利于产品的有效生产，因此提出一种镀膜均匀的真空镀膜装置，来解决上述问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，具备效率更高，镀膜均匀等优点，解决了使用完成后，需要放置一段时间，来使得其中的金属因子完全沉淀，而且刚完成温度较高，直接打开拉门可能使得人员烫伤以及吸入金属因子，因此需要耽误一些时间，影响了使用的效率，而由于金属面板位置都是固定的，因此金属面板中面向金属蒸汽一面的镀膜效率更高，而金属面板背向金属蒸汽的一面则容易出现镀膜不完全的情况，或者金属面板会出现镀膜不平衡的问题，因此会降低产品的成功率，不利于产品的有效生产的问题。

(二)技术方案

为实现上述效率更高，镀膜均匀目的，本实用新型提供如下技术方案：一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括真空箱，所述真空箱顶部的左侧固定连接有电机，所述电机的输出轴固定连接有主动齿轮，所述主动齿轮的右侧啮合连接有从动齿轮，所述从动齿轮的底部贯穿并延伸至真空箱的内部，所述从动齿轮的底部固定连接有中心转动杆，所述中心转动杆的底部与真空箱的内底壁转动连接，所述中心转动杆的顶部与底部均套设有与其固定连接有转动盘，两个所述转动盘之间固定连接有均匀分布的放置杆，所述放置杆的外部套设有均匀分布的放置盘，所述放置盘的底部固定连接有三个挂钩，所述真空箱的底部固定连接有底座，所述底座内部的左侧固定安装有真空泵，所述真空泵的顶部贯穿底座、真空箱并与真空箱相连通，所述真空泵的左侧贯穿并延伸至底座的外部，所述底座的内部固定安装有蒸汽熔炉，所述蒸汽熔炉位于真空泵的右侧，所述蒸汽熔炉的顶部贯穿贯穿底座、真空箱并与真空箱相连通；

所述真空箱的右侧固定连接有过滤箱，所述过滤箱位于底座的顶部，所述过滤箱的左侧固定连接有连通的吸气口，所述吸气口贯穿并延伸至真空箱的内部，所述过滤箱的内部插接有过滤网，所述过滤箱的底部固定连接有连通的抽气泵，所述抽气泵位于底座的顶部并与其接触，所述抽气泵的底部固定连接有出气管，所述出气管的底部贯穿并延伸至底座的内部，所述底座内部的右侧固定连接有冷却池，所述出气管的底部延伸至冷却池的内部，所述冷却池的内部填充有冷却水，所述冷却池右侧的顶部开设有贯穿的出气孔，所述出气孔的右侧贯穿并延伸至底座的外部。

优选的，所述真空箱的左侧固定连接有显示屏，所述显示屏的右侧固定连接有膜厚计，所述膜厚计的右侧贯穿并延伸至真空箱的内部。

优选的，所述放置杆的数量为六个，每个所述放置杆上的放置盘均为五个。

优选的，所述挂钩包含挂钩座，所述挂钩座与放置盘固定连接，所述挂钩座的底部转动连接有钩子。

优选的，所述过滤网的内部填充有活性炭。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，具备以下有益效果：

1、该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过首先将需要镀膜的基片通过挂钩挂在放置盘上，由于放置盘共有三十个，每个放置盘上有三个挂钩，所以最多可以挂90个基片，然后打开电机，使得电机带动主动齿轮转动，从而带动从动齿轮转动，使得中心转动杆转动，因此中心转动杆带动转动盘转动，转动盘转动使得放置杆也同样转动，从而使得放置杆上的放置盘、挂钩及基片共同转动，随后打开真空泵，真空泵将真空箱内部抽成真空，同时打开蒸汽熔炉，将金属镀膜液放入其中，使得蒸汽镀膜液液化为蒸汽，然后被吸入真空箱内部，开始对真空箱内部的基片镀膜，基片旋转使得两面均匀的被镀上膜，当镀膜完成后，打开抽气泵，使得吸气口向过滤箱内吸收热气与蒸汽金属，然后经过过滤箱内部过滤网的过滤后被抽气泵抽入出气管，然后经过出气管导入冷却池内，空气冷却后通过出气孔排出底座。

2、该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过真空箱左侧的显示屏与真空箱内部的膜厚计，使得在镀膜过程中可以实时的监控内部的镀膜情况。

3、该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过放置杆的数量为六个，每个放置杆上的放置盘均为五个使得一共可以放置90个基片，可以同时镀膜更多的基片，很大的加快了使用效率。

4、该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过设置挂钩和挂钩座，以及挂钩座的底部转动连接有钩子，使得在挂基片的时候，可以更好的调节钩子的角度，更简单迅速的挂基片。

5、该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过设置活性炭的过滤网，使得过滤网能够更好的吸附真空箱内部的蒸汽金属因子。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型俯视剖面结构示意图；

图3为本实用新型挂钩与放置盘连接结构示意图；

图4为本实用新型图1中A处放大结构示意图。

图中标号说明：

1、真空箱；2、电机；3、主动齿轮；4、从动齿轮；5、中心转动杆；6、转动盘；7、放置杆；8、放置盘；9、挂钩；901、挂钩座；902、钩子；10、底座；11、真空泵；12、蒸汽熔炉；13、过滤箱；14、吸气口；15、过滤网；16、抽气泵；17、出气管；18、冷却池；19、出气孔；20、显示屏；21、膜厚计。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括真空箱1，真空箱1顶部的左侧固定连接有电机2，该电机2的型号为Y160M-4，电机2的输出轴固定连接有主动齿轮3，主动齿轮3的右侧啮合连接有从动齿轮4，从动齿轮4的底部贯穿并延伸至真空箱1的内部，从动齿轮4的底部固定连接有中心转动杆5，中心转动杆5的底部与真空箱1的内底壁转动连接，中心转动杆5的顶部与底部均套设有与其固定连接有转动盘6，两个转动盘6之间固定连接有均匀分布的放置杆7，放置杆7的外部套设有均匀分布的放置盘8，放置盘8的底部固定连接有三个挂钩9，真空箱1的底部固定连接有底座10，底座10内部的左侧固定安装有真空泵11，该真空泵11的型号为RV0100，真空泵11的顶部贯穿底座10、真空箱1并与真空箱1相连通，真空泵11的左侧贯穿并延伸至底座10的外部，底座10的内部固定安装有蒸汽熔炉12，该蒸汽熔炉12的型号为HJZ-70AB，蒸汽熔炉12位于真空泵11的右侧，蒸汽熔炉12的顶部贯穿贯穿底座10、真空箱1并与真空箱1相连通；

真空箱1的右侧固定连接有过滤箱13，过滤箱13位于底座10的顶部，过滤箱13的左侧固定连接有连通的吸气口14，吸气口14贯穿并延伸至真空箱1的内部，过滤箱13的内部插接有过滤网15，过滤箱13的底部固定连接有连通的抽气泵16，该抽气泵16的型号为9V12A75R30，抽气泵16位于底座10的顶部并与其固定连接，抽气泵16的底部固定连接有出气管17，出气管17的底部贯穿并延伸至底座10的内部，底座10内部的右侧固定连接有冷却池18，出气管17的底部延伸至冷却池18的内部，冷却池18的内部填充有冷却水，冷却池18右侧的顶部开设有贯穿的出气孔19，出气孔19的右侧贯穿并延伸至底座10的外部，该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过首先将需要镀膜的基片通过挂钩9挂在放置盘8上，由于放置盘8共有三十个，每个放置盘8上有三个挂钩9，所以最多可以挂90个基片，然后打开电机2，使得电机2带动主动齿轮3转动，从而带动从动齿轮4转动，使得中心转动杆5转动，因此中心转动杆5带动转动盘6转动，转动盘6转动使得放置杆7也同样转动，从而使得放置杆7上的放置盘8、挂钩9及基片共同转动，随后打开真空泵11，真空泵11将真空箱1内部抽成真空，同时打开蒸汽熔炉12，将金属镀膜液放入其中，使得蒸汽镀膜液气化为蒸汽，然后被吸入真空箱1内部，开始对真空箱1内部的基片镀膜，基片旋转使得两面均匀的被镀上膜，当镀膜完成后，打开抽气泵16，使得吸气口14向过滤箱13内吸收热气与蒸汽金属，然后经过过滤箱13内部过滤网15的过滤后被抽气泵16抽入出气管17，然后经过出气管17导入冷却池18内，空气冷却后通过出气孔19排出底座10。

进一步的，真空箱1的左侧固定连接有显示屏20，该显示屏20的型号为HTN-2431，显示屏20的右侧固定连接有膜厚计21，该膜厚计21的型号为SN-4500P，膜厚计21的右侧贯穿并延伸至真空箱1的内部，通过真空箱1左侧的显示屏20与真空箱1内部的膜厚计21，使得在镀膜过程中可以实时的监控内部的镀膜情况。

进一步的，放置杆7的数量为六个，每个放置杆7上的放置盘8均为五个，通过放置杆7的数量为六个，每个放置杆7上的放置盘8均为五个使得一共可以放置90个基片，可以同时镀膜更多的基片，很大的加快了使用效率。

进一步的，挂钩9包含挂钩座901，挂钩座901与放置盘8固定连接，挂钩座901的底部转动连接有钩子902，通过设置挂钩9和挂钩座901，以及挂钩座901的底部转动连接有钩子902，使得在挂基片的时候，可以更好的调节钩子902的角度，更简单迅速的挂基片，提高了工作的效率。

进一步的，过滤网15的内部填充有活性炭，通过设置活性炭的过滤网15，使得过滤网15能够更好的吸附真空箱1内部的蒸汽金属因子。

工作原理：该镀膜均匀的真空镀膜装置，通过首先将需要镀膜的基片通过挂钩9挂在放置盘8上，通过设置挂钩9和挂钩座901，以及挂钩座901的底部转动连接有钩子902，使得在挂基片的时候，可以更好的调节钩子902的角度，更简单迅速的挂基片，提高了工作的效率，由于放置盘8共有三十个，每个放置盘8上有三个挂钩9，所以最多可以挂90个基片，然后打开电机2，使得电机2带动主动齿轮3转动，从而带动从动齿轮4转动，使得中心转动杆5转动，因此中心转动杆5带动转动盘6转动，转动盘6转动使得放置杆7也同样转动，从而使得放置杆7上的放置盘8、挂钩9及基片共同转动，随后打开真空泵11，真空泵11将真空箱1内部抽成真空，同时打开蒸汽熔炉12，将金属镀膜液放入其中，使得蒸汽镀膜液气化为蒸汽，然后被吸入真空箱1内部，开始对真空箱1内部的基片镀膜，基片旋转使得两面均匀的被镀上膜，通过真空箱1左侧的显示屏20与真空箱1内部的膜厚计21，使得在镀膜过程中可以实时的监控内部的镀膜情况，当镀膜完成后，打开抽气泵16，使得吸气口14向过滤箱13内吸收热气与蒸汽金属，然后经过过滤箱13内部过滤网15的过滤后被抽气泵16抽入出气管17，然后经过出气管17导入冷却池18内，空气冷却后通过出气孔19排出底座10。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括真空箱(1)，其特征在于：所述真空箱(1)顶部的左侧固定连接有电机(2)，所述电机(2)的输出轴固定连接有主动齿轮(3)，所述主动齿轮(3)的右侧啮合连接有从动齿轮(4)，所述从动齿轮(4)的底部贯穿并延伸至真空箱(1)的内部，所述从动齿轮(4)的底部固定连接有中心转动杆(5)，所述中心转动杆(5)的底部与真空箱(1)的内底壁转动连接，所述中心转动杆(5)的顶部与底部均套设有与其固定连接有转动盘(6)，两个所述转动盘(6)之间固定连接有均匀分布的放置杆(7)，所述放置杆(7)的外部套设有均匀分布的放置盘(8)，所述放置盘(8)的底部固定连接有三个挂钩(9)，所述真空箱(1)的底部固定连接有底座(10)，所述底座(10)内部的左侧固定安装有真空泵(11)，所述真空泵(11)的顶部贯穿底座(10)、真空箱(1)并与真空箱(1)相连通，所述真空泵(11)的左侧贯穿并延伸至底座(10)的外部，所述底座(10)的内部固定安装有蒸汽熔炉(12)，所述蒸汽熔炉(12)位于真空泵(11)的右侧，所述蒸汽熔炉(12)的顶部贯穿贯穿底座(10)、真空箱(1)并与真空箱(1)相连通；

所述真空箱(1)的右侧固定连接有过滤箱(13)，所述过滤箱(13)位于底座(10)的顶部，所述过滤箱(13)的左侧固定连接有连通的吸气口(14)，所述吸气口(14)贯穿并延伸至真空箱(1)的内部，所述过滤箱(13)的内部插接有过滤网(15)，所述过滤箱(13)的底部固定连接有连通的抽气泵(16)，所述抽气泵(16)位于底座(10)的顶部并与其固定连接，所述抽气泵(16)的底部固定连接有出气管(17)，所述出气管(17)的底部贯穿并延伸至底座(10)的内部，所述底座(10)内部的右侧固定连接有冷却池(18)，所述出气管(17)的底部延伸至冷却池(18)的内部，所述冷却池(18)的内部填充有冷却水，所述冷却池(18)右侧的顶部开设有贯穿的出气孔(19)，所述出气孔(19)的右侧贯穿并延伸至底座(10)的外部。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述真空箱(1)的左侧固定连接有显示屏(20)，所述显示屏(20)的右侧固定连接有膜厚计(21)，所述膜厚计(21)的右侧贯穿并延伸至真空箱(1)的内部。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述放置杆(7)的数量为六个，每个所述放置杆(7)上的放置盘(8)均为五个。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述挂钩(9)包含挂钩座(901)，所述挂钩座(901)与放置盘(8)固定连接，所述挂钩座(901)的底部转动连接有钩子(902)。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：所述过滤网(15)的内部填充有活性炭。

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