CN210935647U - 一种尿不湿加工用涂胶装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种尿不湿加工用涂胶装置,包括支撑腿,所述支撑腿的上方固定安装有支撑框架,所述支撑框架的两端通过轴承安装有滚筒,所述支撑框架的一侧安装有步进电机,所述步进电机与滚筒的一端传动连接,所述滚筒上传动连接有传送带,所述支撑框架的上方设置有上胶装置,所述上胶装置包括储胶箱、上胶辊、泵和管道,所述上胶辊通过轴承座安装在传送带的上方,所述储胶箱安装在轴承座的上方,所述储胶箱的下方通过泵连接有管道,所述管道的另一端与上胶辊的侧面连接,所述支撑框架的上方位于上胶装置的一侧设置有压胶辊,该尿不湿加工用涂胶装置,设计合理,结构简单,上胶效果好,效率高。

Description

一种尿不湿加工用涂胶装置
技术领域
本实用新型涉及涂胶装置技术领域,具体为一种尿不湿加工用涂胶装置。
背景技术
尿不湿的吸收体是尿不湿最主要的部分,现有的吸收体一般是由上下两层吸水纸包裹高分子吸水颗粒组成。由于吸收体的两侧并未封边导致其生产输送过程中出现大量的吸水颗粒外漏;不仅造成吸收体质量破坏,外漏的吸水颗粒还会对生产车间造成较大的污染。同时由于设备在生产过程中会产生相应的静电吸附作用,还会出现设备吸附吸水颗粒导致设备堵塞损坏的情况;现有两侧涂胶装置涂胶不够均匀,涂胶量不好控制,容易造成涂胶过多溢出和过少粘固不牢等情况。因此,发明一种尿不湿加工用涂胶装置来解决上述问题很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种尿不湿加工用涂胶装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种尿不湿加工用涂胶装置,包括支撑腿,所述支撑腿的上方固定安装有支撑框架,所述支撑框架的两端通过轴承安装有滚筒,所述支撑框架的一侧安装有步进电机,所述步进电机与滚筒的一端传动连接,所述滚筒上传动连接有传送带,通过设置的步进电机,步进电机可以驱动一侧的滚筒旋转,滚筒在带动传送带的旋转运行,在传送带的下方设置有支撑板,用于支撑传送带的上层输送带,可以将尿不湿的布料放置在传送带进行输送涂胶作业,支撑框架的上方设置有上胶装置,所述上胶装置包括储胶箱、上胶辊、泵和管道,所述上胶辊通过轴承座安装在传送带的上方,所述储胶箱安装在轴承座的上方,所述储胶箱的下方通过泵连接有管道,所述管道的另一端与上胶辊的侧面连接,通过设置的上胶装置,上胶装置的储胶箱用于供胶,通过泵将胶输送到上胶辊的空腔结构内,上胶辊与传送带的上表面接触,实施上胶,支撑框架的上方位于上胶装置的一侧设置有压胶辊,所述支撑框架的下方安装有驱动装置,所述驱动装置与压胶辊之间固定连接,通过设置的压胶辊,压胶辊可以通过驱动装置的驱动移动,设置的压胶辊可以对涂过胶的尿不湿布匹进行压胶,使胶黏连的效果更好。
优选的,所述驱动装置包括驱动电机、丝杆、导杆、滑板和支撑杆,所述驱动电机安装在支撑框架的侧面,所述驱动电机的输出端上连接有丝杆,所述丝杆的端部通过轴承安装在支撑框架的另一端,所述导杆与丝杆之间平行设置,所述丝杆和导杆上滑动连接有滑板,所述滑板的两端固定连接有竖直固定的支撑杆,所述支撑杆的上端与压胶辊的两端固定连接。
优选的,所述支撑腿的下方安装有万向轮。
优选的,所述上胶辊为中空管状结构,所述上胶辊上均布有出胶孔。
优选的,所述支撑框架的内侧固定安装有支撑板,所述支撑板位于传送带上层的下方。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:该尿不湿加工用涂胶装置,通过设置的步进电机,步进电机可以驱动一侧的滚筒旋转,滚筒在带动传送带的旋转运行,通过设置的上胶装置,上胶装置的储胶箱用于供胶,通过泵将胶输送到上胶辊的空腔结构内,上胶辊与传送带的上表面接触,实施上胶,设置的压胶辊可以对涂过胶的尿不湿布匹进行压胶,使胶黏连的效果更好,设计合理,结构简单,上胶效果好,效率高。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的驱动装置结构示意图;
图3为本实用新型的支撑框架结构示意图;
图4为本实用新型的上胶装置结构示意图。
图中:1、支撑腿;2、万向轮;3、支撑框架;4、滚筒;5、步进电机;6、支撑板;7、上胶装置;701、储胶箱;702、上胶辊;703、泵;704、管道;8、压胶辊;9、驱动装置;901、驱动电机;902、丝杆;903、导杆;904、滑板;905、支撑杆;10、传送带。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4,一种尿不湿加工用涂胶装置,包括支撑腿1,所述支撑腿1的上方固定安装有支撑框架3,所述支撑框架3的两端通过轴承安装有滚筒4,所述支撑框架3的一侧安装有步进电机5,所述步进电机5与滚筒4的一端传动连接,所述滚筒4上传动连接有传送带10,通过设置的步进电机5,步进电机5可以驱动一侧的滚筒4旋转,滚筒4在带动传送带10的旋转运行。
需要说明的是,在传送带10的下方设置有支撑板6,用于支撑传送带10的上层输送带,可以将尿不湿的布料放置在传送带10进行输送涂胶作业。
支撑框架3的上方设置有上胶装置7,所述上胶装置7包括储胶箱701、上胶辊702、泵703和管道704,所述上胶辊702通过轴承座安装在传送带10的上方,所述储胶箱701安装在轴承座的上方,所述储胶箱701的下方通过泵703连接有管道704,所述管道704的另一端与上胶辊702的侧面连接,通过设置的上胶装置7,上胶装置7的储胶箱701用于供胶,通过泵703将胶输送到上胶辊702的空腔结构内,上胶辊702与传送带10的上表面接触,实施上胶。
支撑框架3的上方位于上胶装置7的一侧设置有压胶辊8,所述支撑框架3的下方安装有驱动装置9,所述驱动装置9与压胶辊8之间固定连接,通过设置的压胶辊8,压胶辊8可以通过驱动装置9的驱动移动,设置的压胶辊8可以对涂过胶的尿不湿布匹进行压胶,使胶黏连的效果更好。
具体的,所述驱动装置9包括驱动电机901、丝杆902、导杆903、滑板904和支撑杆905,所述驱动电机901安装在支撑框架3的侧面,所述驱动电机901的输出端上连接有丝杆902,所述丝杆902的端部通过轴承安装在支撑框架3的另一端,所述导杆903与丝杆902之间平行设置,所述丝杆902和导杆903上滑动连接有滑板904,所述滑板904的两端固定连接有竖直固定的支撑杆905,所述支撑杆905的上端与压胶辊8的两端固定连接,所述支撑腿1的下方安装有万向轮2,所述上胶辊702为中空管状结构,所述上胶辊702上均布有出胶孔。
需要说明的是,该尿不湿加工用涂胶装置,通过设置的步进电机5,步进电机5可以驱动一侧的滚筒4旋转,滚筒4在带动传送带10的旋转运行,通过设置的上胶装置7,上胶装置7的储胶箱701用于供胶,通过泵703将胶输送到上胶辊702的空腔结构内,上胶辊702与传送带10的上表面接触,实施上胶,设置的压胶辊8可以对涂过胶的尿不湿布匹进行压胶,使胶黏连的效果更好,设计合理,结构简单,上胶效果好,效率高。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (5)

1.一种尿不湿加工用涂胶装置,包括支撑腿(1),其特征在于:所述支撑腿(1)的上方固定安装有支撑框架(3),所述支撑框架(3)的两端通过轴承安装有滚筒(4),所述支撑框架(3)的一侧安装有步进电机(5),所述步进电机(5)与滚筒(4)的一端传动连接,所述滚筒(4)上传动连接有传送带(10),所述支撑框架(3)的上方设置有上胶装置(7),所述上胶装置(7)包括储胶箱(701)、上胶辊(702)、泵(703)和管道(704),所述上胶辊(702)通过轴承座安装在传送带(10)的上方,所述储胶箱(701)安装在轴承座的上方,所述储胶箱(701)的下方通过泵(703)连接有管道(704),所述管道(704)的另一端与上胶辊(702)的侧面连接,所述支撑框架(3)的上方位于上胶装置(7)的一侧设置有压胶辊(8),所述支撑框架(3)的下方安装有驱动装置(9),所述驱动装置(9)与压胶辊(8)之间固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种尿不湿加工用涂胶装置,其特征在于:所述驱动装置(9)包括驱动电机(901)、丝杆(902)、导杆(903)、滑板(904)和支撑杆(905),所述驱动电机(901)安装在支撑框架(3)的侧面,所述驱动电机(901)的输出端上连接有丝杆(902),所述丝杆(902)的端部通过轴承安装在支撑框架(3)的另一端,所述导杆(903)与丝杆(902)之间平行设置,所述丝杆(902)和导杆(903)上滑动连接有滑板(904),所述滑板(904)的两端固定连接有竖直固定的支撑杆(905),所述支撑杆(905)的上端与压胶辊(8)的两端固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种尿不湿加工用涂胶装置,其特征在于:所述支撑腿(1)的下方安装有万向轮(2)。
4.根据权利要求1所述的一种尿不湿加工用涂胶装置,其特征在于:所述上胶辊(702)为中空管状结构,所述上胶辊(702)上均布有出胶孔。
5.根据权利要求1所述的一种尿不湿加工用涂胶装置,其特征在于:所述支撑框架(3)的内侧固定安装有支撑板(6),所述支撑板(6)位于传送带(10)上层的下方。
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