CN210819064U - 一种玻璃基板薄化加工用抛光垫 - Google Patents
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Abstract
一种玻璃基板薄化加工用抛光垫，属于液晶玻璃基板薄化加工技术领域，该抛光垫，包括由上到下依次层叠设置的聚氨酯层、缓冲层和背胶层，所述聚氨酯层通过粘结胶层与缓冲层固定粘结，所述缓冲层底部粘覆所述背胶层，所述聚氨酯层上设置有导液槽，本实用新型的有益效果是，该抛光垫整体结构稳定，通过缓冲层的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，而且导液槽的设计增加了抛光液的流动速度和分布的均匀性，从整体上提高了抛光质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及液晶玻璃基板薄化加工技术领域，尤其涉及一种玻璃基板薄化加工用抛光垫。
背景技术
化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing，CMP)是薄化行业蚀刻后去除基板表面不良的一种手段，这种工艺就是为了能够获得既平坦、又无划痕和杂质玷污的表面而专门设计的。
CMP属于化学作用和机械作用相结合的技术，其过程相当复杂，且影响抛光效果的因素很多。首先，基板抛光面与抛光液中的氧化剂、催化剂等发生化学反应，生成一层相对容易去除的软质层，然后在抛光液中的磨料和抛光垫的机械作用下去除软质层,使工件表面重新裸露出来，然后再进行化学反应，这样在化学作用过程和机械作用过程的交替进行中完成工件表面抛光。
作为CMP关键部件之一，抛光垫具有以下功能:(1)贮存抛光液，并把它运送到基板的整个加工区域，使抛光均匀；(2)从基板抛光表面去除抛光过程产生的残留物质如抛光碎屑、抛光垫碎片等；(3)传递材料去除所需的机械载荷；(4)维持抛光过程所需的机械和化学环境。抛光垫性能主要由抛光垫的材料种类、材料性能、表面结构和状态等决定。抛光垫的选择对与控制CMP抛光效果有着至关重要的作用。
目前液晶玻璃面板薄化行业蚀刻后抛光通常采用邵氏硬度在30-90A之间的聚氨酯材质的抛光垫进行薄化后基板的抛光，当抛光垫硬度在邵氏50-90A时，抛光垫表面平坦度发生变化超出管控范围后修整难度大，生产时需要耗费大量的人力进行修整，且很难保证其一致性、抛光均匀性差；当抛光垫硬度在邵氏30-50A时，由于抛光垫与基板接触易发生局部形变，蚀刻过程中产生的凸点、蚀刻不均等凸起不良无法去除。则对于邵氏硬度在30-90A之间抛光垫在使用过程中需要频繁修整，修整对抛光垫本身损耗很大，使现有抛光垫使用寿命不高。
另外，抛光垫的表面沟槽形状及尺寸是抛光垫性能的关键参数之一，它直接影响到抛光区域抛光液的分布和运动，影响抛光区域的温度分布，影响化学反应速率和机械去除作用，从而影响到化学机械抛光的抛光质量和抛光效率，不同的沟槽表面形状对抛光垫性能及抛光效果产生不同影响。常见的抛光垫沟槽表面结构形状有：圆环型、网格型、正负螺旋对数型、放射线型及渐开线型，但上述沟槽槽为均匀凹槽，抛光液的流动效率低，流动的均匀性不高，影响基板的抛光质量。
综上，如何对传统的抛光垫结构进行改进，来减少抛光垫的修正次数，提高抛光垫的使用寿命和抛光垫的抛光质量是目前抛光行业面临的问题。
实用新型内容
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种玻璃基板薄化加工用抛光垫，主要解决了传统的抛光垫由于其具有固定的邵氏硬度值，会使修正难度大或需要频繁修整，则会影响抛光的质量和增加抛光成本的问题，进一步解决了由于抛光垫沟槽结构设计不合理，使抛光液流动不够均匀，影响抛光质量的问题，目的在于，设计一种抛光垫，在其中添加缓冲层，而且整体结构稳定，通过缓冲层的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，降低了抛光成本。
为实现上述目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：所述玻璃基板薄化加工用抛光垫，包括由上到下依次层叠设置的聚氨酯层、缓冲层和背胶层，所述聚氨酯层通过粘结胶层与缓冲层固定粘结，所述缓冲层底部粘覆所述背胶层，所述聚氨酯层上设置有导液槽。
进一步地，所述缓冲层的材质设置为聚酯海绵。
进一步地，所述粘结胶层的材质设置为环氧树脂胶。
进一步地，所述聚氨酯层的底部设置有与之一体的定位柱，所述缓冲层上设置有与所述定位柱插接配合的定位孔。
进一步地，所述定位孔设置为盲孔且设置在所述缓冲层的中心，所述定位柱设置在所述聚氨酯层的中心。
进一步地，所述导液槽设置有多个且均匀分布在所述聚氨酯层的表面，多个导液槽之间相通连。
进一步地，所述导液槽的槽口设置为圆形或多边形，所述导液槽设置为上端口径小于下端口径的锥形槽。
进一步地，所述背胶层的外周设置有与抛光平台外缘粘贴的延伸块。
本实用新型的有益效果是：
1、该抛光垫设置为层叠结构，包括由上到下依次设置的聚氨酯层、缓冲层和背胶层，聚氨酯层通过粘结胶层与缓冲层粘结，缓冲层底部粘覆背胶层，与传统结构相比，增加了一层缓冲层，而且整体设置为一体式结构，整体结构稳定，通过缓冲层的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，延长了抛光垫的使用寿命，降低了抛光成本。
2、另外，聚氨酯层的底部中心设置有定位柱，缓冲层中心设置有与定位柱插接配合的定位孔，再通过环氧树脂胶将聚氨酯层和缓冲层粘合固定，提高了整体结构的稳定性，提高了抛光垫的使用寿命；导液槽设置为上端口径小于下端口径的锥形槽，锥形槽可产生一定的抽吸压力，增加了抛光液的流动速度，多个导液槽均匀布置在聚氨酯层的表面且相连通，导液槽之间相连通可使抛光垫表面的抛光液快速均匀分布，从而使抛光后的产品获得高度的平整度和光滑度，提高了抛光质量；背胶层的外周设置有与抛光平台外缘粘贴的延伸块，提高了抛光垫与抛光平台粘贴的牢固性。
综上，本实用新型整体结构稳定，通过缓冲层的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，而且导液槽的设计增加了抛光液的流动速度和分布的均匀性，从整体上提高了抛光质量。
附图说明
下面对本实用新型说明书各幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：
图1为本实用新型的剖视图；
图2为本实用新型的俯视图；
上述图中的标记均为：1.聚氨酯层，11.导液槽，12.定位柱，2.缓冲层，21.定位孔，3.背胶层，31.延伸块，4.粘结胶层。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
本实用新型具体的实施方案为：如图1和图2所示，一种玻璃基板薄化加工用抛光垫，包括由上到下依次层叠设置的聚氨酯层1、缓冲层2和背胶层3，缓冲层2的材质设置为聚酯海绵，聚氨酯层1通过粘结胶层4与缓冲层2固定粘结，粘结胶层4的材质设置为环氧树脂胶，缓冲层2底部粘覆背胶层3，聚氨酯层1上设置有导液槽11，与传统结构相比，增加了一层缓冲层2，而且整体设置为一体式结构，整体结构稳定，通过缓冲层2的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，延长了抛光垫的使用寿命，降低了抛光成本。
具体地，如图1所示，聚氨酯层1的底部设置有与之一体的定位柱12，缓冲层2上设置有与定位柱12插接配合的定位孔21，定位孔21设置为盲孔且设置在缓冲层2的中心，定位柱12设置在聚氨酯层1的中心，当定位柱12插接在定位孔21中后，再通过环氧树脂胶将聚氨酯层1和缓冲层2粘合固定，提高了整体结构的稳定性，提高了抛光垫的使用寿命。
具体地，如图2所示，导液槽11设置有多个且均匀分布在聚氨酯层1的表面，多个导液槽11之间通过条形槽相通连，使抛光液可快速均匀分布在所需抛光的液晶玻璃基板和抛光垫之间，提高了抛光质量；而且该导液槽11的槽口设置为圆形或多边形，附图2显示的槽口形状为四边形，圆形未显示，导液槽11设置为上端口径小于下端口径的锥形槽，锥形槽可产生一定的抽吸压力，进一步增加了抛光液的流动速度，提高了抛光的效率和质量，而且锥形槽可更好地储存抛光液，进一步节省了抛光液的流量。
另外，如图1和图2所示，背胶层3的外周设置有与抛光平台外缘粘贴的延伸块31，该延伸块31可设置成3个或3个以上，附图2显示了4个延伸块31且均匀分布在背胶层3的外周，提高了抛光垫与抛光平台粘贴的牢固性。
综上，本实用新型整体结构稳定，通过缓冲层的弹性弥补了抛光垫形貌变化对抛光效果的影响，使其既具有硬质抛光垫的去除率，又具有软质抛光垫的抛光均匀性，减少了人力维护，提升了生产效率，而且导液槽的设计增加了抛光液的流动速度和分布的均匀性，从整体上提高了抛光质量。
以上所述，只是用图解说明本实用新型的一些原理，本说明书并非是要将本实用新型局限在所示所述的具体结构和适用范围内，故凡是所有可能被利用的相应修改以及等同物，均属于本实用新型所申请的专利范围。
Claims (8)
1.一种玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于，包括由上到下依次层叠设置的聚氨酯层(1)、缓冲层(2)和背胶层(3)，所述聚氨酯层(1)通过粘结胶层(4)与缓冲层(2)固定粘结，所述缓冲层(2)底部粘覆所述背胶层(3)，所述聚氨酯层(1)上设置有导液槽(11)。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述缓冲层(2)的材质设置为聚酯海绵。
3.根据权利要求1所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述粘结胶层(4)的材质设置为环氧树脂胶。
4.根据权利要求2所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述聚氨酯层(1)的底部设置有与之一体的定位柱(12)，所述缓冲层(2)上设置有与所述定位柱(12)插接配合的定位孔(21)。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述定位孔(21)设置为盲孔且设置在所述缓冲层(2)的中心，所述定位柱(12)设置在所述聚氨酯层(1)的中心。
6.根据权利要求1～5任意一项所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述导液槽(11)设置有多个且均匀分布在所述聚氨酯层(1)的表面，多个导液槽(11)之间相通连。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述导液槽(11)的槽口设置为圆形或多边形，所述导液槽(11)设置为上端口径小于下端口径的锥形槽。
8.根据权利要求6所述的玻璃基板薄化加工用抛光垫，其特征在于：所述背胶层(3)的外周设置有与抛光平台外缘粘贴的延伸块(31)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201921253803.2U Active CN210819064U (zh) | 2019-08-05 | 2019-08-05 | 一种玻璃基板薄化加工用抛光垫 |
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