CN210704193U - 一种新型工艺瓷的抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型工艺瓷的抛光装置，包括底座，底座内部设置有驱动电机，驱动电机通过皮带连接有旋转轴，旋转轴上端连接有抛光磨盘，抛光磨盘上端通过螺栓固定有抛光头，抛光磨盘外围设置有防溅凸起，防溅凸起内侧设置有环形沟槽，环形沟槽下端连接有吸尘器，底座侧面上设置有滑动轨道，滑动轨道内部设置有滑动块，滑动块上端连接有驱动气缸，滑动块通过连接杆连接有陶瓷夹具，通过在抛光的外侧设置防溅凸起，减小了抛光过程中粉尘的飞溅，并通过吸尘器将飞溅的粉尘吸除，提高了清洁卫生性，通过上端的喷淋头形成了伞状的水幕，进一步将飞溅出去多余的粉尘清除，双重保障消除粉尘飞溅，提高了整个抛光装置的卫生性，值得推广。

Description

一种新型工艺瓷的抛光装置

技术领域

本实用新型涉及工艺瓷技术领域，具体为一种新型工艺瓷的抛光装置。

背景技术

陶瓷是以天然粘土以及各种天然矿物为主要原料经过粉碎混炼、成型和煅烧制得的材料的各种制品。以前人们把用陶土制作成的在专门的窑炉中高温烧制的物品称作陶瓷，陶瓷是陶器和瓷器的总称。陶瓷的传统概念是指所有以粘土等无机非金属矿物为原料的人工工业产品。它包括由粘土或含有粘土的混合物经混炼，成形，煅烧而制成的各种制品。由最粗糙的土器到最精细的精陶和瓷器都属于它的范围。对于它的主要原料是取之于自然界的硅酸盐矿物(如粘土、石英等)，因此与玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工业，同属于“硅酸盐工业”的范畴。

陶瓷的发展史是中华文明史的一个重要的组成部分，中国作为四大文明古国之一，为人类社会的进步和发展做出了卓越的贡献，其中陶瓷的发明和发展更具有独特的意义，中国历史上各朝各代有着不同艺术风格和不同技术特点。

随着近代科学技术的发展，近百年来又出现了许多新的陶瓷品种。它们不再使用或很少使用粘土、长石、石英等传统陶瓷原料，而是使用其他特殊原料，甚至扩大到非硅酸盐，非氧化物的范围，并且出现了许多新的工艺。

申请号为CN201520532032.6，名称为一种陶瓷抛光装置的实用新型专利，包括底座、第一电机及第一电动伸缩杆，底座左侧设置有第一电机，第一电机左侧设置有第一电动伸缩杆，第一电动伸缩杆上端连接有横杆；横杆中部设置有第二电机，第二电机通过第一转轴连接于抛光装置上端，抛光装置下端设置有超声波发射器及磨头；抛光装置下方设置有防护框，防护框设置于底座之上，防护框内设置有旋转盘，旋转盘上设置有工作台，工作台右端铰接于旋转盘右侧，工作台左侧通过第二电动伸缩杆与旋转盘左侧相连，该新型结构设计合理，使用完全，能有效去除料纹和麻点，抛光效果好，能够加工不同高度、不同倒角的陶瓷器具，通用性强，减震效果好，方便移动，受力稳定，使用寿命长。

但是，在使用的时候，当使用的时候，陶瓷抛光过程中容易产生一些灰尘，引起加工环境的污染，带来了很多不便之处，因此设计了一种新型工艺瓷的抛光装置。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足,本实用新型提供一种新型工艺瓷的抛光装置，能有效的解决背景技术提出的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种新型工艺瓷的抛光装置，包括底座，所述底座内部设置有驱动电机，所述驱动电机通过皮带连接有旋转轴，所述旋转轴上端连接有抛光磨盘，所述抛光磨盘上端通过螺栓固定有抛光头，所述抛光磨盘外围设置有防溅凸起，所述防溅凸起内侧设置有环形沟槽，所述环形沟槽下端连接有吸尘器，所述底座侧面上设置有滑动轨道，所述滑动轨道内部设置有滑动块，所述滑动块上端连接有驱动气缸，所述滑动块通过连接杆连接有陶瓷夹具，所述陶瓷夹具外围设置有喷淋头，所述喷淋头上端连接有进水接口，所述底座上端设置有集尘凹槽，所述集尘凹槽上设置有排渣口。

进一步地，所述旋转轴下端设置有滚珠轴承。

进一步地，所述陶瓷夹具内设置有防护垫层，所述防护垫层采用硅橡胶材料制成。

进一步地，所述防溅凸起与集尘凹槽之间为锥面型结构。

进一步地，所述排渣口下端设置有残渣收集桶。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型通过在抛光的外侧设置防溅凸起，减小了抛光过程中粉尘的飞溅，并通过吸尘器将飞溅的粉尘吸除，提高了清洁卫生性；

(2)本实用新型通过上端的喷淋头形成了伞状的水幕，进一步将飞溅出去多余的粉尘清除，双重保障消除粉尘飞溅，提高了整个抛光装置的卫生性，值得推广。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的A处的结构示意图；

图3为本实用新型的B处的结构示意图。

图中标号：

1-底座，2-驱动电机，3-皮带，4-旋转轴，5-抛光磨盘，6-螺栓，7-抛光头，8-防溅凸起，9-环形沟槽，10-吸尘器，11-滑动轨道，12-滑动块，13-驱动气缸，14-连接杆，15-陶瓷夹具，16-喷淋头，17-进水接口，18-集尘凹槽，19-排渣口，20-滚珠轴承，21-防护垫层，22-残渣收集桶。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1至图3所示，本实用新型提供了一种新型工艺瓷的抛光装置，包括底座1，所述底座1内部设置有驱动电机2，所述驱动电机2通过皮带3连接有旋转轴4，所述旋转轴4上端连接有抛光磨盘5，所述抛光磨盘55上端通过螺栓6固定有抛光头7，所述抛光磨盘5外围设置有防溅凸起8，所述防溅凸起8内侧设置有环形沟槽9，所述环形沟槽9下端连接有吸尘器10，所述底座1侧面上设置有滑动轨道11，所述滑动轨道11内部设置有滑动块12，所述滑动块12上端连接有驱动气缸13，所述滑动块12通过连接杆14连接有陶瓷夹具15，所述陶瓷夹具15外围设置有喷淋头16，所述喷淋头16上端连接有进水接口17，所述底座1上端设置有集尘凹槽18，所述集尘凹槽18上设置有排渣口19；

本实用新型的工作原理为：在使用的时候，在进行打磨的时候，将陶瓷通过陶瓷夹具15夹紧，陶瓷夹具15通过内部的螺杆与衬片将陶瓷夹紧固定之后，驱动电机2开启带动抛光磨盘5转动，驱动气缸13下压，带动夹持的陶瓷调节高度，与下端的抛光头7接触之后进行抛光打磨，产生的粉尘飞溅出去的时候，首先被防溅凸起8遮挡，且被吸尘器10吸收，通过环形沟槽9吸收到吸尘器10内部，而上端的进水接口17接通水管之后，水进入喷淋头16内部，喷淋头16的下端为伞状结构包裹在陶瓷夹具15外围，形成了伞状的水幕结构，阻挡灰尘进一步发散出来，水雾将多余的粉尘冲刷到集尘凹槽18内，双重保护，使得抛光更加清洁卫生。

作为优选的实施方式，所述旋转轴4下端设置有滚珠轴承20，提高了转动的稳定性。

作为优选的实施方式，所述陶瓷夹具15内设置有防护垫层21，所述防护垫层21采用硅橡胶材料制成，避免磨伤陶瓷的外壁。

作为优选的实施方式，所述防溅凸起8与集尘凹槽18之间为锥面型结构，方便水流流入到集尘凹槽18内。

作为优选的实施方式，所述排渣口19下端设置有残渣收集桶22，提高了残渣的收集能力。

综上所述，本实用新型的主要特点在于：

(1)本实用新型通过在抛光的外侧设置防溅凸起，减小了抛光过程中粉尘的飞溅，并通过吸尘器将飞溅的粉尘吸除，提高了清洁卫生性；

(2)本实用新型通过上端的喷淋头形成了伞状的水幕，进一步将飞溅出去多余的粉尘清除，双重保障消除粉尘飞溅，提高了整个抛光装置的卫生性，值得推广。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种新型工艺瓷的抛光装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)内部设置有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)通过皮带(3)连接有旋转轴(4)，所述旋转轴(4)上端连接有抛光磨盘(5)，所述抛光磨盘(5)上端通过螺栓(6)固定有抛光头(7)，所述抛光磨盘(5)外围设置有防溅凸起(8)，所述防溅凸起(8)内侧设置有环形沟槽(9)，所述环形沟槽(9)下端连接有吸尘器(10)，所述底座(1)侧面上设置有滑动轨道(11)，所述滑动轨道(11)内部设置有滑动块(12)，所述滑动块(12)上端连接有驱动气缸(13)，所述滑动块(12)通过连接杆(14)连接有陶瓷夹具(15)，所述陶瓷夹具(15)外围设置有喷淋头(16)，所述喷淋头(16)上端连接有进水接口(17)，所述底座(1)上端设置有集尘凹槽(18)，所述集尘凹槽(18)上设置有排渣口(19)。

2.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置，其特征在于：所述旋转轴(4)下端设置有滚珠轴承(20)。

3.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置，其特征在于：所述陶瓷夹具(15)内设置有防护垫层(21)，所述防护垫层(21)采用硅橡胶材料制成。

4.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置，其特征在于：所述防溅凸起(8)与集尘凹槽(18)之间为锥面型结构。

5.根据权利要求1所述的一种新型工艺瓷的抛光装置，其特征在于：所述排渣口(19)下端设置有残渣收集桶(22)。

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