CN210657214U - 一种气体回用装置及单晶硅生产设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种气体回用装置及单晶硅生产设备，该气体回用装置包括：气体净化模块、检测模块以及控制模块；其中，气体净化模块分别与单晶硅生产设备的出气口及进气口连接，检测模块分别与气体净化模块的出气口和单晶硅生产设备的进气口连接，控制模块分别与所述气体净化模块、所述纯净气体储存罐、所述检测模块电性连接，所述控制模块用于控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气。本实用新型实施例中，可以避免将不符合使用要求的气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质。

Description

一种气体回用装置及单晶硅生产设备

技术领域

本实用新型涉及单晶硅制造技术领域，特别是涉及一种气体回用装置及单晶硅生产设备。

背景技术

单晶硅生产设备在采用拉晶法生产单晶硅时，通常需要往炉内引入惰性气体，利用惰性气体对晶体生长环境的吹扫作用，可以带走挥发物及氧化物等杂质，提高拉晶过程的稳定性及单晶硅的品质。

现有的技术中，为了提高惰性气体的利用率，通常在单晶硅生产设备上设置有气体回用装置，以对单晶硅生产设备排出的惰性气体进行净化，得到回用气体，并将该回用气体通入单晶硅生产设备内进行重复使用。现有的气体回用装置中，在将单晶硅生产设备的惰性气体进行净化后，往往直接将回用气体通入单晶硅生产设备内使用。

然而，在气体回用装置的对单晶硅生产设备排出的惰性气体进行净化的过程中，在气体回用装置出现故障的情况下，或者，在气体回用装置的回用管道出现泄露的情况下，很容易导致该回用气体无法满足使用需求。在实际应用中，将不符合使用需求的回用气体通入单晶硅生产设备内，很容易降低单晶硅的品质。

实用新型内容

鉴于上述问题，提出了本实用新型以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种气体回用装置及单晶硅生产设备。

为了解决上述问题，一方面，本实用新型公开了一种气体回用装置，应用于单晶硅生产设备，所述单晶硅生产设备的进气口与纯净气体储存罐连接；所述气体回用装置包括：气体净化模块、检测模块以及控制模块；其中，

所述气体净化模块分别与所述单晶硅生产设备的出气口及进气口连接，所述气体净化模块用于净化所述单晶硅生产设备排出的气体，还用于向所述单晶硅生产设备提供净化后的气体；

所述检测模块分别与所述气体净化模块的出气口、所述单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态；

所述控制模块分别与所述气体净化模块、所述纯净气体储存罐、所述检测模块电性连接，所述控制模块用于控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气。

可选的，所述气体回用装置还包括：气体排放管道、回用供气管道、进气管道以及检测管道；

其中，所述气体排放管道分别与所述单晶硅生产设备的出气口、所述气体净化模块的进气口连接；

所述回用供气管道分别与所述气体净化模块的出气口、所述单晶硅生产设备的进气口连接；

所述进气管道分别与所述纯净气体储存罐、所述单晶硅生产设备的进气口连接；

所述检测管道分别与所述检测模块、所述单晶硅生产设备的进气口连接。

可选的，所述气体回用装置还包括：第一控制阀和第二控制阀，所述第一控制阀和所述第二控制阀分别与所述控制模块连接；其中，

所述第一控制阀设置于所述气体排放管道与所述气体净化模块的进气口之间，所述第一控制阀用于控制所述气体排放管道与所述气体净化模块之间的通断；

所述第二控制阀设置于所述气体净化模块的出气口与所述回用供气管道之间，所述第二控制阀用于控制所述气体净化模块与所述回用供气管道之间的通断。

可选的，所述气体回用装置还包括：回用排气管道；其中

所述回用排气管道的一端与所述第二控制阀连接，所述回用排气管道的另一端与所述第一控制阀连接。

可选的，所述第一控制阀、所述第二控制阀皆为三通阀。

可选的，所述气体回用装置还包括：第三控制阀以及第四控制阀，所述第三控制阀和所述第四控制阀分别与所述控制模块连接；其中，

所述第三控制阀设置于所述检测管道与所述单晶硅生产设备的进气口之间，所述第三控制阀用于控制所述检测管道的通断；

所述第四控制阀设置于所述进气管道与所述单晶硅生产设备的进气口之间，所述第四控制阀用于控制所述进气管道的通断。

可选的，所述第三控制阀、所述第四控制阀皆为三通阀。

可选的，所述气体净化模块包括：过滤部件、第一纯化部件以及第二纯化部件；其中，

所述第一纯化部件分别与所述过滤部件、所述第二纯化部件连接；

所述过滤部件与所述气体排放管道连接；

所述第二纯化部件与所述检测模块连接。

另一方面，本实用新型实施例还提供一种单晶硅生产设备，包括如上所述的气体回用装置。

可选的，所述单晶硅生产设备还包括：单晶炉和与所述单晶炉连接的真空泵；

其中，所述单晶炉的进气口分别与所述纯净气体储存罐、所述检测模块连接；

所述真空泵的出气口与所述气体净化模块连接。本实用新型包括以下优点：

本实用新型实施例中，所述检测模块分别与气体净化模块的出气口和单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块可以用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态。所述控制模块可以根据所述检测模块的检测结果，控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气，以避免将不符合使用要求的气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质。

附图说明

图1是本实用新型的一种气体回用装置的结构示意图之一；

图2是本实用新型的一种气体回用装置的结构示意图之二。

附图标记说明：

11-气体净化模块；111-过滤部件；112-第一纯化部件；113-第二纯化部件；12-检测模块；13-控制模块；14-纯净气体储存罐；15-单晶硅生产设备；151-单晶炉；152-真空泵；21-气体排放管道；22-回用供气管道；23-检测管道；24-进气管道；25-回用排气管道；31-第一控制阀；32-第二控制阀；33-第三控制阀；34-第四控制阀。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

本实用新型实施例提供了一种气体回用装置，应用于单晶硅生产设备，所述单晶硅生产设备的进气口与纯净气体储存罐连接；所述气体回用装置包括：气体净化模块、检测模块以及控制模块；其中，所述气体净化模块分别与所述单晶硅生产设备的出气口及进气口连接，所述气体净化模块用于净化所述单晶硅生产设备排出的气体，还用于向所述单晶硅生产设备提供净化后的气体；所述检测模块分别与所述气体净化模块的出气口、所述单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态；所述控制模块分别与所述气体净化模块、所述纯净气体储存罐、所述检测模块电性连接，所述控制模块用于控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气。

本实用新型实施例中，所述气体回用装置可以应用于单晶硅生产设备，包括气体净化模块、检测模块以及控制模块，其中，检测模块通过分别与气体净化模块的出气口和单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块可以用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态。所述控制模块可以根据所述检测模块的检测结果，控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气，以避免将不符合使用要求的气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质

参照图1，示出了本实用新型的一种气体回用装置的结构示意图之一，如图1所示，气体回用装置具体可以包括：气体净化模块11、检测模块12以及控制模块13。该气体回用装置应用于单晶硅生产设备15，单晶硅生产设备15的进气口与纯净气体储存罐14连接。

具体地，气体净化模块11可以为净化塔、过滤器等净化装置。气体净化模块11分别与单晶硅生产设备15的出气口及进气口连接，气体净化模块11可以用于净化单晶硅生产设备15排出的气体，同时，气体净化模块11还可以用于向单晶硅生产设备15提供净化后的气体。在实际应用中，气体净化模块11与单晶硅生产设备15的出气口连接，可以对单晶硅生产设备15排出的气体进行净化，气体净化模块11与单晶硅生产设备15的进气口连接，可以将净化后的气体提供给单晶硅生产设备15，从而实现气体的循环利用。

具体地，检测模块12可以为气体纯度测试仪等装置。检测模块12分别与气体净化模块11的出气口、单晶硅生产设备15的进气口连接，检测模块12用于检测气体净化模块11输出的净化后的气体的状态，以及检测进入单晶硅生产设备15的气体的状态。具体的，检测模块12通过与气体净化模块11的出气口连接，可以检测气体净化模块11输出的净化后的气体的状态是否满足单晶硅生产设备15的使用需求。与此同时，检测模块12还可以与单晶硅生产设备15的进气口连接，检测进入单晶硅生产设备15的气体的状态是否满足单晶硅生产设备15的使用需求。

具体地，控制模块13可以为可执行程序的控制器，通过执行预先存储在该控制器上的程序，即可控制气体净化模块11向单晶硅生产设备15供气，或者，控制纯净气体储存罐14向单晶硅生产设备15供气。控制模块13分别与气体净化模块11、纯净气体储存罐14和检测模块12电性连接，控制模块13可以用于控制气体净化模块11向单晶硅生产设备15供气，或者，控制纯净气体储存罐14向单晶硅生产设备15供气。

例如，单晶硅生产设备15可以为单晶炉，单晶硅生产用的气体可以为氩气。

在实际应用中，当检测模块12检测到气体净化模块11输出的净化后的气体的状态满足单晶硅生产设备15的使用需求，同时，检测到进入单晶硅生产设备15的气体的状态也满足单晶硅生产设备15的使用需求时，控制模块13可以控制气体净化模块11对单晶炉15进行供气，将气体净化模块11净化后的气体通入单晶硅生产设备15中；如果检测模块12检测到气体净化模块11输出的净化后的气体的状态和进入单晶硅生产设备15的气体的状态至少有一个不满足使用需求时，控制模块13将直接控制纯净气体储存罐14为单晶硅生产设备15供气，以避免将不符合使用要求的气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质。

参照图2，示出了本实用新型的一种气体回用装置的结构示意图之二，如图2所示，本实用新型实施例中，气体回用装置还包括：气体排放管道21、回用供气管道22、检测管道23以及进气管道24；其中，气体排放管道21分别与单晶硅生产设备15的出气口、气体净化模块11的进气口连接，气体排放管道21用于将从单晶硅生产设备15中排出的气体通入到气体净化模块11中，以便于气体净化模块11对排出的气体进行净化，需要说明的是，气体排放管道21还可以直接将单晶硅生产设备15排出的气体排入到空气中，以避免气体净化模块11中由于通入过多的气体而出现故障。

回用供气管道22分别与气体净化模块11的出气口、单晶硅生产设备15的进气口连接，回用供气管道22用于将气体净化模块11净化后的满足单晶硅生产设备15使用需求的气体通入到单晶硅生产设备15中，以实现气体的重复利用。

检测管道23分别与检测模块12、单晶硅生产设备15的进气口连接，检测管道23用于将通入单晶硅生产设备15之前的气体部分疏导至检测模块12，以利于检测模块12对该气体进行检测，以免将污染后的气体通入到单晶硅生产设备15中，需要说明的是，本实施例中，通过气体净化模块11净化后的气体有可能会在回用供气管道22出现泄露的状态下而被二次污染，故需要通过检测模块12对进入单晶硅生产设备15的进气口之前的气体进行检测，以保证通入到单晶硅生产设备15中的气体的纯度。

本实用新型实施例中，在回用供气管道22出现泄露的情况下，可以停止其为单晶硅生产设备15供气，并通过纯净气体储存罐14为单晶硅生产设备15供气，从而避免了单晶硅生产设备15内通入不符合使用需求的气体，并保证了单晶硅生产设备15的正常运行，提高了单晶硅的品质。

在实际应用中，由于进气管道24分别与纯净气体储存罐14、单晶硅生产设备15的进气口连接，进气管道24用于直接将纯净气体储存罐14内的纯净的气体通入单晶硅生产设备15中，当气体净化模块11输出的净化后的气体不满足使用需求或者回用供气管道22出现泄露的时候，控制模块13可以及时控制纯净气体储存罐14对单晶硅生产设备15进行供气，确保通入单晶硅生产设备15内的气体均为满足使用需求的纯净气体，从而提高了单晶硅的品质。

在实际应用中，气体净化模块11还可以自带有状态检测设备和预警设备，当气体净化模块11出现故障无法使用的时候，状态检测设备会及时进行检测并通过预警设备报警。本实施例中，通过将控制模块13与气体净化模块11的状态检测设备进行连接，在气体净化模块11的工作状态为异常状态的情况下，控制模块13用于控制纯净气体储存罐14对单晶硅生产设备15进行供气，在气体净化模块11的工作状态为正常工作状态的情况下，控制模块13用于控制气体净化模块11对单晶硅生产设备15进行供气。

为了便于控制模块13对各个管道的控制，本实施例提供的气体回用装置还包括：第一控制阀31、第二控制阀32、第三控制阀33以及第四控制阀34，且第一控制阀31、第二控制阀32、第三控制阀33以及第四控制阀34分别与控制模块13连接，下面将对各个控制阀的作用及其设置位置进行详细说明：

本实用新型实施例提供的气体回用装置，第一控制阀31设置于气体排放管道21和气体净化模块11的进气口之间，第一控制阀31用于控制气体排放管道21和气体净化模块11之间的通断。当气体净化模块11处于正常工作状态的时候，可以打开第一控制阀31使得从气体排放管道21内排出的气体进入气体净化模块11中进行净化。

本实用新型实施例中，第二控制阀32设置于气体净化模块11的出气口和回用供气管道22之间，第二控制阀32用于控制气体净化模块11与回用供气管道22之间的通断。例如，当检测模块12检测到回用供气管道22的泄露状态为已泄露状态的时候，控制模块13控制第二控制阀32关闭向回用供气管道22中通入净化后的气体。

在实际应用中，为了保证整个装置的正常运行，本实施例的气体回用装置还包括回用排气管道25，其中，回用排气管道25的一端与第二控制阀32连接，回用排气管道25的另一端与第一控制阀31连接，在第二控制阀32关闭向回用供气管道22中通入净化后的气体的同时，控制模块13还可以控制第二控制阀32打开向回用排气管道25的供气，使净化后的气体通入回用排气管道25中，并控制第一控制阀31使回用排气管道25内的气体进入气体净化模块11重新净化，同时，控制单晶硅生产设备15内的气体直接从气体排放管道21排出，防止气体净化模块11中由于通入过多气体而出现故障。

在实际应用中，当检测模块12检测到气体净化模块11净化后的气体的状态不满足使用需求时，控制模块13也可以控制第二控制阀32直接向回用排气管道25供气，并控制第一控制阀31使回用排气管道25内的气体进入气体净化模块11中重新进行净化，如此反复，直到净化后的气体满足使用需求为止。

本实用新型实施例，通过回用排气管道25的设置，可以对不满足使用需求的气体进一步进行净化，以得到满足使用需求的净化后的气体，进一步提高了气体的利用率。

本实用新型实施例中，第三控制阀33设置于检测管道23与单晶硅生产设备15的进气口之间，第三控制阀33用于控制检测管道23的通断，使得净化后的部分气体通向检测管道23，以便于检测模块12对通入到单晶硅生产设备15内的净化后的气体进行检测，进而用于监控回用供气管道22的泄露状态。

本实用新型实施例中，第四控制阀34设置于进气管道24与单晶硅生产设备15的进气口之间，第四控制阀34用于控制进气管道24的通断，当需要纯净气体储存罐14对单晶硅生产设备15进行供气时，只需要通过第四控制阀34接通进气管道24即可，另外需要说明的是，当进气管道24向单晶硅生产设备15供气的时候，需要关闭第三控制阀33对检测管道23的供气，以节约纯净气体。

如图2所示，在实际应用中，为了减少控制阀的使用量，将第一控制阀31、第二控制阀32、第三控制阀33和第四控制阀34均设置为三通阀，每个控制阀可以控制两个管道的通断，节省资源。具体的，第一控制阀31用于控制气体排放管道21向气体净化模块11的通断或者回用排气管道25向气体净化模块11的通断；第二控制阀32用于控制回用供气管道22的通断或者回用排气管道25的通断；第三控制阀33用于控制检测管道23的通断或者回用供气管道22的通断；第四控制阀34用于控制进气管道24的通断或者回用供气管道22的通断。

本实用新型实施例，通过多个控制阀的设置，可以实现控制模块13对各个模块和管道的控制，提高了整个气体回用装置的自动化程度。

可选的，气体净化模块11包括过滤部件111、第一纯化部件112和第二纯化部件113，其中，第一纯化部件112分别与过滤部件111、第二纯化部件113连接，过滤部件111与气体排放管道21连接，第二纯化部件113与检测模块12连接，过滤部件111、第一纯化部件112以及第二纯化部件113用于对单晶硅生产设备15排出的气体进行净化。一般，气体刚通入到气体净化模块11中的时候，需要一个循环预热的过程，直到气体净化模块11中的温度达到处理气体最佳温度，且处理后的气体达到使用需求的时候才开始通过回用供气管道22对单晶硅生产设备15进行供气。

综上，本实用新型实施例提供的气体回用装置至少包括以下优点：

本实用新型实施例中，所述检测模块分别与气体净化模块的出气口和单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块可以用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态。所述控制模块可以根据所述检测模块的检测结果，控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气，以避免将不符合使用要求的气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质。

本实用新型实施例还提供了一种单晶硅生产设备，包括上述实施例所述的气体回用装置，其中，气体回用装置的具体结构和基本原理已经在前述实施例中进行了详细的描述，本实施例在此不再赘述。

如图2所示，单晶硅生产设备15还可以包括：单晶炉151和与单晶炉151连接的真空泵152，其中，单晶炉151的进气口分别与纯净气体储存罐14、检测模块12连接，真空泵152的出气口与气体净化模块11连接。其中，单晶炉151主要用于在惰性气体环境下生产单晶硅，而真空泵152用于抽吸单晶炉151内产生的气体，并将抽吸出来的气体通入到气体净化模块11中进行净化。

综上，本实用新型实施例提供的单晶硅生产设备至少包括以下优点：

本实用新型实施例提供的单晶硅生产设备，通过设置本实用新型上述实施例提供的气体回用装置，可以对单晶硅生产设备排出的气体进行净化后重复利用，并且通过设置检测模块和控制模块，可以避免在气体回用装置出现故障或者泄露的情况下将不满足使用需求的气体通入到单晶硅生产设备中，提高了生产单晶硅的品质。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上对本实用新型所提供的一种气体回用装置及单晶硅生产设备，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种气体回用装置，应用于单晶硅生产设备，所述单晶硅生产设备的进气口与纯净气体储存罐连接；其特征在于，所述气体回用装置包括：气体净化模块、检测模块以及控制模块；其中，

所述气体净化模块分别与所述单晶硅生产设备的出气口及进气口连接，所述气体净化模块用于净化所述单晶硅生产设备排出的气体，还用于向所述单晶硅生产设备提供净化后的气体；

所述检测模块分别与所述气体净化模块的出气口、所述单晶硅生产设备的进气口连接，所述检测模块用于检测所述气体净化模块输出的净化后的气体的状态，以及检测进入所述单晶硅生产设备的气体的状态；

所述控制模块分别与所述气体净化模块、所述纯净气体储存罐、所述检测模块电性连接，所述控制模块用于控制所述气体净化模块向所述单晶硅生产设备供气，或者，控制所述纯净气体储存罐向所述单晶硅生产设备供气。

2.根据权利要求1所述的气体回用装置，其特征在于，所述气体回用装置还包括：气体排放管道、回用供气管道、进气管道以及检测管道；

其中，所述气体排放管道分别与所述单晶硅生产设备的出气口、所述气体净化模块的进气口连接；

所述回用供气管道分别与所述气体净化模块的出气口、所述单晶硅生产设备的进气口连接；

所述进气管道分别与所述纯净气体储存罐、所述单晶硅生产设备的进气口连接；

所述检测管道分别与所述检测模块、所述单晶硅生产设备的进气口连接。

3.根据权利要求2所述的气体回用装置，其特征在于，所述气体回用装置还包括：第一控制阀和第二控制阀，所述第一控制阀和所述第二控制阀分别与所述控制模块连接；其中，

所述第一控制阀设置于所述气体排放管道与所述气体净化模块的进气口之间，所述第一控制阀用于控制所述气体排放管道与所述气体净化模块之间的通断；

所述第二控制阀设置于所述气体净化模块的出气口与所述回用供气管道之间，所述第二控制阀用于控制所述气体净化模块与所述回用供气管道之间的通断。

4.根据权利要求3所述的气体回用装置，其特征在于，所述气体回用装置还包括：回用排气管道；其中

所述回用排气管道的一端与所述第二控制阀连接，所述回用排气管道的另一端与所述第一控制阀连接。

5.根据权利要求3所述的气体回用装置，其特征在于，所述第一控制阀、所述第二控制阀皆为三通阀。

6.根据权利要求2所述的气体回用装置，其特征在于，所述气体回用装置还包括：第三控制阀以及第四控制阀，所述第三控制阀和所述第四控制阀分别与所述控制模块连接；其中，

所述第三控制阀设置于所述检测管道与所述单晶硅生产设备的进气口之间，所述第三控制阀用于控制所述检测管道的通断；

所述第四控制阀设置于所述进气管道与所述单晶硅生产设备的进气口之间，所述第四控制阀用于控制所述进气管道的通断。

7.根据权利要求6所述的气体回用装置，其特征在于，所述第三控制阀、所述第四控制阀皆为三通阀。

8.根据权利要求2所述的气体回用装置，其特征在于，所述气体净化模块包括：过滤部件、第一纯化部件以及第二纯化部件；其中，

所述第一纯化部件分别与所述过滤部件、所述第二纯化部件连接；

所述过滤部件与所述气体排放管道连接；

所述第二纯化部件与所述检测模块连接。

9.一种单晶硅生产设备，其特征在于，包括：权利要求1至8任一项所述的气体回用装置。

10.根据权利要求9所述的单晶硅生产设备，其特征在于，所述单晶硅生产设备还包括：单晶炉和与所述单晶炉连接的真空泵；

其中，所述单晶炉的进气口分别与所述纯净气体储存罐、所述检测模块连接；

所述真空泵的出气口与所述气体净化模块连接。

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