CN219756052U - 废气处理系统 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及半导体技术领域,具体公开一种废气处理系统,包括大气总排管路、尾气总排管路以及控制器,大气总排管路经各第一分排管路连接至各工艺设备,尾气总排管路经各第二分排管路连接至各工艺设备,所述大气总排管路排放的气体中氧气浓度大于所述尾气总排管路排放的气体中氧气浓度,控制器分别连接所述第一分排管路和所述第二分排管路,用于控制所述第一分排管路和所述第二分排管路的通断。相较于一对一的废气处理方式,本申请中废气集中处理方式的成本大大降低,且提高了建筑面积利用率。
Description
技术领域
本申请涉及半导体技术领域,特别是涉及一种废气处理系统。
背景技术
外延设备在保养和取片过程中,腔体内往往会有空气混入,而腔体内工艺气体中的氢气与空气混合有爆炸的危险,因此行业内往往会给每台外延设备均配置一台尾气处理设备,每台外延设备的尾气均排放至其对应的尾气处理设备,进行尾气处理达标排放。然而,每台外延设备均配置一台尾气处理设备的话,造成产品制造成本大幅增加,建筑面积利用率大幅下降。
发明内容
基于此,有必要针对上述问题,提供一种废气处理系统。
根据本申请实施例的第一方面,提供一种废气处理系统,包括:
大气总排管路,经各第一分排管路连接至各工艺设备;
尾气总排管路,经各第二分排管路连接至各工艺设备,所述大气总排管路排放的气体中氧气浓度大于所述尾气总排管路排放的气体中氧气浓度;
控制器,分别连接所述第一分排管路和所述第二分排管路,用于控制所述第一分排管路和所述第二分排管路的通断。
在其中一个实施例中,所述废气处理系统还包括气体探测器,所述气体探测器设置于各所述工艺设备的气体排放口,用于探测气体中氧气浓度;
所述控制器电性连接所述气体探测器,用于根据所述气体探测器探测到的氧气浓度控制所述第一分排管路和所述第二分排管路的通断。
在其中一个实施例中,所述控制器用于在探测到的氧气浓度达到预设浓度值时,打开所述第一分排管路,关闭所述第二分排管路,以及在探测到的氧气浓度未达到预设浓度值时,关闭所述第一分排管路,打开所述第二分排管路。
在其中一个实施例中,所述预设浓度值位于22.4%~26.4%之间。
在其中一个实施例中,所述预设浓度值包括24.4%。
在其中一个实施例中,各所述第一分排管路中设置有第一阀门,各所述第二分排管路中设置有第二阀门;
所述控制器分别电性连接所述第一阀门和所述第二阀门。
在其中一个实施例中,所述第一阀门和所述第二阀门包括气动阀门。
在其中一个实施例中,所述废气处理系统还包括连接所述尾气总排管路的尾气处理设备。
在其中一个实施例中,所述废气处理系统还包括连接所述大气总排管路的排风设备。
在其中一个实施例中,所述工艺设备包括外延设备。
本申请提供的废气处理系统包括大气总排管路、尾气总排管路以及控制器,大气总排管路经过各个第一分排管路连接至各工艺设备,尾气总排管路经过各个第二分排管路连接至各工艺设备,控制器分别连接第一分排管路和第二分排管路,用于控制第一分排管路和第二分排管路的通断。即,各个工艺设备公用一条大气总排管路和一条尾气总排管路,各个工艺设备产生的废气可以统一经大气总排管路或尾气总排管路排出,相较于一对一的废气处理方式,本方案中废气集中处理方式的成本大大降低,且提高了建筑面积利用率。并且,控制器可以通过控制各个工艺设备对应的第一分排管路和第二分排管路的通断,进而控制工艺设备内的废气经尾气总排管路排出还是经大气总排管路排出。
附图说明
图1为本申请一实施例提供的废气处理系统的结构示意图。
附图标记说明:
100、大气总排管路;
200、尾气总排管路;
300、工艺设备;310、第一分排管路;311、第一阀门;320、第二分排管路;321、第二阀门;
400、气体探测器。
具体实施方式
为了便于理解本申请,下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的优选实施方式。但是,本申请可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反的,提供这些实施方式的目的是为了对本申请的公开内容理解得更加透彻全面。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
目前,外延设备的废气处理方式往往采用一对一的方式,即,一台外延设备对应一根废气处理管路、一台废气处理设备,外延设备所产生的废气经过其对应的废气处理管路排放至废气处理设备,再经废气处理设备处理后进行达标排放。但是,每台外延设备均配置一根废气处理管路、一台废气处理设备,造成产品制造成本大幅增加,建筑面积利用率大幅下降,生产稳定性大幅降低。
同样地,除了外延设备之外,其他工艺设备的废气处理方式也会存在相同的问题。
为解决上述问题,在一个实施例中,提供了一种废气处理系统。
参照图1,本实施例提供的废气处理系统包括大气总排管路100、尾气总排管路200以及控制器。
其中,大气总排管路100经各第一分排管路310连接至各工艺设备300,尾气总排管路200经各第二分排管路320连接至各工艺设备300,所述大气总排管路100排放的气体中氧气浓度大于所述尾气总排管路200排放的气体中氧气浓度。控制器分别连接所述第一分排管路310和所述第二分排管路320,用于控制所述第一分排管路310和所述第二分排管路320的通断。即,各个工艺设备300公用一条大气总排管路100和一条尾气总排管路200,各个工艺设备300产生的废气均可以统一经大气总排管路100或尾气总排管路200排出,相较于一对一的废气处理方式,本方案中废气集中处理方式的成本大大降低,且提高了建筑面积利用率。并且,控制器可以通过控制各个工艺设备300对应的第一分排管路310和第二分排管路320的通断,进而控制工艺设备300内的废气经尾气总排管路200排出还是经大气总排管路100排出,智能化程度高。
本实施例中,大气总排管路100和尾气总排管路200为独立设置的两条管路,各个工艺设备300通过各自对应的分排管路连接至大气总排管路100和尾气总排管路200,其中,各工艺设备300对应的用于连接大气总排管路100的管路为第一分排管路310,各工艺设备300对应的用于连接尾气总排管路200的管路为第二分排管路320,第一分排管路310与第二分排管路320是独立设置的两条管路,且第一分排管路310和第二分排管路320的进气端均连接至工艺设备300的气体排放口。在实际应用中,大气总排管路100负责排放的废气与尾气总排管路200负责排放的废气存在区别,区别在于大气总排管路100负责排放的废气中氧气浓度要大于尾气总排管路200负责排放的废气中氧气浓度,即针对工艺设备300中产生的具有不同氧气浓度的废气,可以采用不同的管路进行排放至不同类别的废气处理设备中进行废气处理,进而在处理达标后排放至外界。由此可以提高废气处理过程的安全性和效率。
在其中一个实施例中,所述废气处理系统还包括气体探测器400,所述气体探测器400设置于各所述工艺设备300的气体排放口,用于探测气体中氧气浓度。所述控制器电性连接所述气体探测器400,用于根据所述气体探测器400探测到的氧气浓度控制所述第一分排管路310和所述第二分排管路320的通断。
本实施例中,气体探测器400可以为氧气探测器,每个工艺设备300的气体排放口均可以设置一个气体探测器400,通过气体探测器400可以对工艺设备300排放出的气体中氧气浓度进行检测,当检测到氧气浓度时,气体探测器400可以将检测到的氧气浓度发送至控制器,控制器可以根据氧气浓度值控制第一分排管路310或第二分排管路320的通断,进而使得不同氧气浓度的废气可以进入到不同的总排管路(即大气总排管路100或尾气总排管路200)。
在其中一个实施例中,所述控制器用于在探测到的氧气浓度达到预设浓度值时,打开所述第一分排管路310,关闭所述第二分排管路320,以及在探测到的氧气浓度未达到预设浓度值时,关闭所述第一分排管路310,打开所述第二分排管路320。
即,可以预先设定预设浓度值,控制器可以将探测器探测到的氧气浓度值与预设浓度值进行比对,若探测到的氧气浓度值超出预设浓度值,则可以控制第一分排管路310打开,控制第二分排管路320关闭,进而使工艺设备300的废气经第一分排管路310进入大气总排管路100,若探测到的氧气浓度值未超出预设浓度值,则可以控制第一分排管路310关闭,控制第二分排管路320打开,进而使工艺设备300的废气经第二分排管路320进入尾气总排管路200。
在其中一个实施例中,所述预设浓度值位于22.4%~26.4%之间。具体地,预设浓度值可以为22.4%或23.2%或24.4%或25.6%或26.4%等,具体可以根据实际需求而定。
在其中一个实施例中,所述预设浓度值包括24.4%。
在其中一个实施例中,各所述第一分排管路310中设置有第一阀门311,各所述第二分排管路320中设置有第二阀门321,所述控制器分别电性连接所述第一阀门311和所述第二阀门321。
每个工艺设备300对应的第一分排管路310均设置有第一阀门311,每个工艺设备300对应的第二分排管路320均设置有第二阀门321,控制器可以控制第一阀门311、第二阀门321的打开或关闭,进而实现控制第一阀门311所在的第一分排管路310的通断以及第二阀门321所在的第二分排管路320的通断。例如,当气体探测器400探测到的氧气浓度达到24.4%时,控制器可以控制第一阀门311打开,控制第二阀门321关闭,进而打开第一分排管路310,关闭第二分排管路320,工艺设备300的废气经过第一分排管路310排放至大气总排管路100;当气体探测器400探测到的氧气浓度未达到24.4%时,控制器可以控制第一阀门311关闭,控制第二阀门321打开,进而关闭第一分排管路310,打开第二分排管路320,工艺设备300的废气经过第二分排管路320排放至尾气总排管路200。
在其中一个实施例中,所述第一阀门311和所述第二阀门321包括气动阀门。气动阀门是借助压缩空气驱动的阀门,其相对于电动阀门成本较低,并且气动阀门开关动作速度可以调整,结构较为简单,易维护,动作过程中因气体本身的缓冲特性,不易因卡住而损坏,在一些要求防爆的场合使用气动阀门比电动阀门更为可靠。由于气动阀门的组成没有电子元件,因此在输送易燃易爆炸介质的时候即使发生故障也不会因为电子元件产生火花,给工况造成安全隐患。气动阀门还具有故障复位的功能,可以根据工况需要选择气开型或气关型,气源发生故障的时候阀门可以根据管路安全需要自动恢复至全开或全闭状态。
在其中一个实施例中,本实施例提供的所述废气处理系统还包括连接所述尾气总排管路200的尾气处理设备。尾气总排管路200中传输的气体可以最终传输至与之相连的尾气处理设备,通过尾气处理设备对气体进行处理后再进行达标排放。
在其中一个实施例中,本实施例提供的所述废气处理系统还包括连接所述大气总排管路100的排风设备。即,大气总排管路100中传输的气体可以最终传输至与之相连的排风设备,通过排风设备将气体排放至大气中。
本实施例中所提及的所述工艺设备300可以包括外延设备,也可以包括其他的工艺设备300,只要需要进行废气处理的工艺设备300均适用于本方案。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种废气处理系统,其特征在于,所述废气处理系统包括:
大气总排管路,经各第一分排管路连接至各工艺设备;
尾气总排管路,经各第二分排管路连接至各工艺设备,所述大气总排管路排放的气体中氧气浓度大于所述尾气总排管路排放的气体中氧气浓度;
控制器,分别连接所述第一分排管路和所述第二分排管路,用于控制所述第一分排管路和所述第二分排管路的通断。
2.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气处理系统还包括气体探测器,所述气体探测器设置于各所述工艺设备的气体排放口,用于探测气体中氧气浓度;
所述控制器电性连接所述气体探测器,用于根据所述气体探测器探测到的氧气浓度控制所述第一分排管路和所述第二分排管路的通断。
3.根据权利要求2所述的废气处理系统,其特征在于,所述控制器用于在探测到的氧气浓度达到预设浓度值时,打开所述第一分排管路,关闭所述第二分排管路,以及在探测到的氧气浓度未达到预设浓度值时,关闭所述第一分排管路,打开所述第二分排管路。
4.根据权利要求3所述的废气处理系统,其特征在于,所述预设浓度值位于22.4%~26.4%之间。
5.根据权利要求4所述的废气处理系统,其特征在于,所述预设浓度值包括24.4%。
6.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,各所述第一分排管路中设置有第一阀门,各所述第二分排管路中设置有第二阀门;
所述控制器分别电性连接所述第一阀门和所述第二阀门。
7.根据权利要求6所述的废气处理系统,其特征在于,所述第一阀门和所述第二阀门包括气动阀门。
8.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气处理系统还包括连接所述尾气总排管路的尾气处理设备。
9.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述废气处理系统还包括连接所述大气总排管路的排风设备。
10.根据权利要求1所述的废气处理系统,其特征在于,所述工艺设备包括外延设备。
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