CN210544343U - 半导体器件加工车间用废气净化设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及废气处理附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体器件加工车间用废气净化设备，其可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性；包括箱体，箱体的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置和活性炭吸附装置，箱体的右端设置有出气管，并在出气管处设置有出气风机；还包括喷淋塔、溶液配制箱、水箱、第一喷淋泵、第二喷淋泵、第一连通风管、第二连通风管、隔板、中和水槽、第一喷淋装置和第二喷淋装置，喷淋塔的内部设置有放置腔，隔板将放置腔隔成上腔室和下腔室，喷淋塔的左端设置有与下腔室相通的进气管，并在进气管处设置有进气风机。
Description
技术领域
本实用新型涉及废气处理附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体器件加工车间用废气净化设备。
背景技术
众所周知，半导体器件加工车间用废气净化设备是一种用于半导体器件生产加工过程中，对其车间内产生的废气进行净化处理的辅助装置，其在废气处理的领域中得到了广泛的使用；现有的半导体器件加工车间用废气净化设备包括箱体，箱体的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置和活性炭吸附装置，箱体的左端和右端分别设置有进气管和出气管，并在进气管和出气管处分别设置有进气风机和出气风机；现有的半导体器件加工车间用废气净化设备使用时，通过进气风机将废气抽送至工作腔内，通过UV光解装置对废气进行光解处理，将废气中的有机成分分解，然后通过活性炭吸附装置对废气进行吸附，经过处理的气体自出气管排出；现有的半导体器件加工车间用废气净化设备使用中发现，废气中含有酸碱成分，容易对 UV光解装置造成腐蚀，影响设备的使用寿命，导致实用性较低。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性的半导体器件加工车间用废气净化设备。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，包括箱体，箱体的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置和活性炭吸附装置，箱体的右端设置有出气管，并在出气管处设置有出气风机；还包括喷淋塔、溶液配制箱、水箱、第一喷淋泵、第二喷淋泵、第一连通风管和第二连通风管，所述喷淋塔的内部设置有放置腔，并在放置腔内横向设置有隔板，所述隔板将放置腔隔成上腔室和下腔室，所述上腔室内设置有中和水槽，所述并在中和水槽的顶部设置有第一喷淋装置，所述第一喷淋泵的输入端与溶液配制箱连通，第一喷淋泵的输出端伸入至上腔室内并与第一喷淋装置的输入端连通，所述第一连通风管的一端自隔板的上方穿过隔板伸入至下腔室内，第一连通风管的另一端自中和水槽的顶部伸入至中和水槽内并至中和水槽的底部，所述下腔室的内顶壁上设置有第二喷淋装置，所述第二喷淋泵的输入端与水箱连通，第二喷淋泵的输出端伸入至下腔室内并与第二喷淋装置的输入端连通，所述第二连通风管的一端自喷淋塔的顶端伸入至上腔室内，第二连通风管的另一端自箱体的左端伸入至工作腔内，喷淋塔的左端设置有与下腔室相通的进气管，并在进气管处设置有进气风机。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第一回流管和第二回流管，所述第一回流管的输入端自喷淋塔的一侧底部伸入至下腔室内，第一回流管的输出端与水箱连通，所述第二回流管的输入端伸入至上腔室内并与中和水槽连通，第二回流管的另一端与溶液配制箱连通。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第一电机，所述第一电机安装于喷淋塔的顶端，并在第一电机的底部输出端设置有传动轴，所述传动轴的底端自喷淋塔的顶端伸入至上腔室并插入至中和水槽内，并在传动轴上设置有多组搅拌叶，所述多组搅拌叶均位于中和水槽内。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第二电机，所述第二电机安装于溶液配制箱的顶端，并在第二电机的底部输出端设置有转轴，所述转轴的底端自溶液配制箱的顶端伸入至溶液配制箱内，并在转轴上设置有搅拌杆，所述搅拌杆位于溶液配制箱内。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括酸碱检测仪，所述酸碱检测仪的检测端伸入至下腔室内并位于下腔室的底部，酸碱检测仪的显示端位于溶液配制箱上。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括放置框，所述箱体的左端顶部设置有插入口，所述放置框的底端自箱体的顶端穿过插入口伸入至工作腔内，并在放置框的顶端设置有密封板，所述密封板的底端与箱体的顶端贴紧，并且密封板通过螺栓安装于箱体的顶端，放置框位于UV光解装置的左侧，并在放置框内装有沸石干燥剂。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，所述中和水槽的顶部设置有两组成膜网，两组成膜网位于第一喷淋装置的下方，并在两组成膜网之间留有成膜间隙。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，所述第一回流管和第二回流管上均设置有调节阀。
与现有技术相比本实用新型的有益效果为：通过进气风机将废气抽送至下腔室内，通过第二喷淋泵将水箱内的清水抽送至第二喷淋装置中并喷出，对下腔室内的废气进行逆向喷淋，除去废气中的颗粒杂质，然后废气通过第一连通风管进入上腔室并充入中和水槽内，通过中和水槽内的中和液对废气中的酸性成分或者碱性成分进行中和，通过第一喷淋泵将熔液配置箱内配制的中和液抽送至第一喷淋装置中并喷出，对上腔室内中和水槽中溢出的废气进行喷淋，进一步提高对废气中酸性成分或者碱性成分的中和效果，然后废气通过第二连通风管进入箱体内，再进行UV光解处理和吸附处理，可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型图1的A处局部放大结构示意图；
图3是本实用新型图1的B处局部放大结构示意图；
附图中标记：1、箱体；2、UV光解装置；3、活性炭吸附装置；4、出气管；5、出气风机；6、喷淋塔；7、溶液配制箱；8、水箱；9、第一喷淋泵；10、第二喷淋泵；11、第一连通风管；12、第二连通风管；13、隔板；14、中和水槽；15、第一喷淋装置；16、第二喷淋装置；17、进气管；18、进气风机；19、第一回流管；20、第二回流管； 21、第一电机；22、传动轴；23、搅拌叶；24、第二电机；25、转轴； 26、搅拌杆；27、酸碱检测仪；28、放置框；29、密封板；30、沸石干燥剂；31、成膜网；32、调节阀。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
如图1至图3所示，本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，包括箱体1，箱体1的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置2和活性炭吸附装置3，箱体1的右端设置有出气管4，并在出气管4处设置有出气风机5；还包括喷淋塔6、溶液配制箱7、水箱8、第一喷淋泵9、第二喷淋泵10、第一连通风管11和第二连通风管12，喷淋塔6的内部设置有放置腔，并在放置腔内横向设置有隔板13，隔板13将放置腔隔成上腔室和下腔室，上腔室内设置有中和水槽14，并在中和水槽14的顶部设置有第一喷淋装置 15，第一喷淋泵9的输入端与溶液配制箱7连通，第一喷淋泵9的输出端伸入至上腔室内并与第一喷淋装置15的输入端连通，第一连通风管11的一端自隔板13的上方穿过隔板13伸入至下腔室内，第一连通风管11的另一端自中和水槽14的顶部伸入至中和水槽14内并至中和水槽14的底部，下腔室的内顶壁上设置有第二喷淋装置16，第二喷淋泵10的输入端与水箱8连通，第二喷淋泵10的输出端伸入至下腔室内并与第二喷淋装置16的输入端连通，第二连通风管12的一端自喷淋塔6的顶端伸入至上腔室内，第二连通风管12的另一端自箱体1的左端伸入至工作腔内，喷淋塔6的左端设置有与下腔室相通的进气管17，并在进气管17处设置有进气风机18；通过进气风机将废气抽送至下腔室内，通过第二喷淋泵将水箱内的清水抽送至第二喷淋装置中并喷出，对下腔室内的废气进行逆向喷淋，除去废气中的颗粒杂质，然后废气通过第一连通风管进入上腔室并充入中和水槽内，通过中和水槽内的中和液对废气中的酸性成分或者碱性成分进行中和，通过第一喷淋泵将熔液配置箱内配制的中和液抽送至第一喷淋装置中并喷出，对上腔室内中和水槽中溢出的废气进行喷淋，进一步提高对废气中酸性成分或者碱性成分的中和效果，然后废气通过第二连通风管进入箱体内，再进行UV光解处理和吸附处理，可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第一回流管19和第二回流管20，第一回流管19的输入端自喷淋塔6的一侧底部伸入至下腔室内，第一回流管19的输出端与水箱8连通，第二回流管20的输入端伸入至上腔室内并与中和水槽14连通，第二回流管20的另一端与溶液配制箱7连通；通过第一回流管和第二回流管可以将下腔室内的水和中和水槽内的中和液导送回水箱和溶液配制箱内。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第一电机21，第一电机21安装于喷淋塔6的顶端，并在第一电机21的底部输出端设置有传动轴22，传动轴22的底端自喷淋塔6的顶端伸入至上腔室并插入至中和水槽14内，并在传动轴22上设置有多组搅拌叶23，多组搅拌叶23均位于中和水槽14内；通过第一电机带动传动轴和多组搅拌叶转动，对中和水槽内的中和液进行搅拌，使中和液与废气充分混合，提高对废气中酸性成分或者碱性成分的中和效果。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括第二电机24，第二电机24安装于溶液配制箱7的顶端，并在第二电机24 的底部输出端设置有转轴25，转轴25的底端自溶液配制箱7的顶端伸入至溶液配制箱7内，并在转轴25上设置有搅拌杆26，搅拌杆26 位于溶液配制箱7内；通过第二电机带动转轴和搅拌杆转动，方便根据废气中酸碱成分的浓度和成分，配置不同的中和液。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括酸碱检测仪27，酸碱检测仪27的检测端伸入至下腔室内并位于下腔室的底部，酸碱检测仪27的显示端位于溶液配制箱7上；通过酸碱检测仪可以对下腔室内水溶液的酸碱性进行检测。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，还包括放置框28，箱体1的左端顶部设置有插入口，放置框28的底端自箱体1 的顶端穿过插入口伸入至工作腔内，并在放置框28的顶端设置有密封板29，密封板29的底端与箱体1的顶端贴紧，并且密封板29通过螺栓安装于箱体1的顶端，放置框28位于UV光解装置2的左侧，并在放置框28内装有沸石干燥剂30；通过沸石干燥剂可以对喷淋塔处理后的气体进行干燥，保证后续UV光解装置和活性炭吸附装置对废气的处理效果。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，中和水槽14的顶部设置有两组成膜网31，两组成膜网31位于第一喷淋装置 15的下方，并在两组成膜网31之间留有成膜间隙；第一喷淋装置喷出的中和液落在两组成膜网上，在两组成膜网之间形成水膜，废气穿过中和液形成的水膜时，进一步被中和。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，第一回流管 19和第二回流管20上均设置有调节阀32；可以对第一回流管和第二回流管的回流速度进行调节。
本实用新型的半导体器件加工车间用废气净化设备，其在工作时，在完成上述动作之前，首先将其移动到用户需要的位置，通过进气风机将废气抽送至下腔室内，通过第二喷淋泵将水箱内的清水抽送至第二喷淋装置中并喷出，对下腔室内的废气进行逆向喷淋，除去废气中的颗粒杂质，然后废气通过第一连通风管进入上腔室并充入中和水槽内，通过中和水槽内的中和液对废气中的酸性成分或者碱性成分进行中和，通过第一喷淋泵将熔液配置箱内配制的中和液抽送至第一喷淋装置中并喷出，对上腔室内中和水槽中溢出的废气进行喷淋，进一步提高对废气中酸性成分或者碱性成分的中和效果，然后废气通过第二连通风管进入箱体内，再进行UV光解处理和吸附处理，可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性，通过第一回流管和第二回流管可以将下腔室内的水和中和水槽内的中和液导送回水箱和溶液配制箱内，可以对第一回流管和第二回流管的回流速度进行调节，通过第一电机带动传动轴和多组搅拌叶转动，对中和水槽内的中和液进行搅拌，使中和液与废气充分混合，提高对废气中酸性成分或者碱性成分的中和效果，通过第二电机带动转轴和搅拌杆转动，方便根据废气中酸碱成分的浓度和成分，配置不同的中和液，通过沸石干燥剂可以对喷淋塔处理后的气体进行干燥，保证后续UV光解装置和活性炭吸附装置对废气的处理效果，第一喷淋装置喷出的中和液落在两组成膜网上，在两组成膜网之间形成水膜，废气穿过中和液形成的水膜时，进一步被中和。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (8)
1.一种半导体器件加工车间用废气净化设备，包括箱体(1)，箱体(1)的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置(2)和活性炭吸附装置(3)，箱体(1)的右端设置有出气管(4)，并在出气管(4)处设置有出气风机(5)；其特征在于，还包括喷淋塔(6)、溶液配制箱(7)、水箱(8)、第一喷淋泵(9)、第二喷淋泵(10)、第一连通风管(11)和第二连通风管(12)，所述喷淋塔(6)的内部设置有放置腔，并在放置腔内横向设置有隔板(13)，所述隔板(13)将放置腔隔成上腔室和下腔室，所述上腔室内设置有中和水槽(14)，所述并在中和水槽(14)的顶部设置有第一喷淋装置(15)，所述第一喷淋泵(9)的输入端与溶液配制箱(7)连通，第一喷淋泵(9)的输出端伸入至上腔室内并与第一喷淋装置(15)的输入端连通，所述第一连通风管(11)的一端自隔板(13)的上方穿过隔板(13)伸入至下腔室内，第一连通风管(11)的另一端自中和水槽(14)的顶部伸入至中和水槽(14)内并至中和水槽(14)的底部，所述下腔室的内顶壁上设置有第二喷淋装置(16)，所述第二喷淋泵(10)的输入端与水箱(8)连通，第二喷淋泵(10)的输出端伸入至下腔室内并与第二喷淋装置(16)的输入端连通，所述第二连通风管(12)的一端自喷淋塔(6)的顶端伸入至上腔室内，第二连通风管(12)的另一端自箱体(1)的左端伸入至工作腔内，喷淋塔(6)的左端设置有与下腔室相通的进气管(17)，并在进气管(17)处设置有进气风机(18)。
2.如权利要求1所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，还包括第一回流管(19)和第二回流管(20)，所述第一回流管(19)的输入端自喷淋塔(6)的一侧底部伸入至下腔室内，第一回流管(19)的输出端与水箱(8)连通，所述第二回流管(20)的输入端伸入至上腔室内并与中和水槽(14)连通，第二回流管(20) 的另一端与溶液配制箱(7)连通。
3.如权利要求2所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，还包括第一电机(21)，所述第一电机(21)安装于喷淋塔(6)的顶端，并在第一电机(21)的底部输出端设置有传动轴(22)，所述传动轴(22)的底端自喷淋塔(6)的顶端伸入至上腔室并插入至中和水槽(14)内，并在传动轴(22)上设置有多组搅拌叶(23)，所述多组搅拌叶(23)均位于中和水槽(14)内。
4.如权利要求3所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，还包括第二电机(24)，所述第二电机(24)安装于溶液配制箱(7)的顶端，并在第二电机(24)的底部输出端设置有转轴(25)，所述转轴(25)的底端自溶液配制箱(7)的顶端伸入至溶液配制箱(7)内，并在转轴(25)上设置有搅拌杆(26)，所述搅拌杆(26)位于溶液配制箱(7)内。
5.如权利要求4所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，还包括酸碱检测仪(27)，所述酸碱检测仪(27)的检测端伸入至下腔室内并位于下腔室的底部，酸碱检测仪(27)的显示端位于溶液配制箱(7)上。
6.如权利要求5所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，还包括放置框(28)，所述箱体(1)的左端顶部设置有插入口，所述放置框(28)的底端自箱体(1)的顶端穿过插入口伸入至工作腔内，并在放置框(28)的顶端设置有密封板(29)，所述密封板(29)的底端与箱体(1)的顶端贴紧，并且密封板(29)通过螺栓安装于箱体(1)的顶端，放置框(28)位于UV光解装置(2)的左侧，并在放置框(28)内装有沸石干燥剂(30)。
7.如权利要求6所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，所述中和水槽(14)的顶部设置有两组成膜网(31)，两组成膜网(31)位于第一喷淋装置(15)的下方，并在两组成膜网(31)之间留有成膜间隙。
8.如权利要求7所述的半导体器件加工车间用废气净化设备，其特征在于，所述第一回流管(19)和第二回流管(20)上均设置有调节阀(32)。
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| CN114797368A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-29 | 苏州毕恩思实验器材有限公司 | 一种节能型实验室用废气净化设备 |
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