CN210429732U - 一种pcb等离子体处理用的平面电极 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种PCB等离子体处理用的平面电极,所述电极板为空心盒子结构,由无盖盒子形状的底座和顶盖两部分构成,在底座上均匀的捞出细长的安装槽用于安置布气管路网,外部气体通过一个气体输入口进入到气体管网中,并均匀地分配到两个气体分支中,每个气体分支连接数量不等的布气管,气体由布气管下方的小孔溢出进入到电极间的等离子区域,在布气管网之间的间隙布置连续的液体盘管,液体盘管内通过对电极进行加热或冷却的导热液体,本实用新型的PCB等离子体处理用的平面电极,通过在电极内部布置供气管路,使得电极区域的气体分布均匀,从而改善PCB处理的均匀性。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子体处理领域,特别涉及一种PCB等离子体处理用的平面电极。
背景技术
采用低气压等离子体放电对PCB进行刻蚀和清洗是目前PCB生产过程中常用的工艺。一般的等离子体产生方式是通过两片平行的电极板之间放电来产生等离子体,电极板内通有液体管路,可以对电极板进行加热和降温,反应使用的气体通过布置在电极板某一侧的供气口提供,而真空的抽气口布置在供气口相对的另一边附近。这样的供气方式天然地使两片极板间的气体浓度沿着气体的流向形成不均匀匀的分布,从而影响到PCB处理的均匀性。
发明内容
为了克服上述缺陷,本实用新型提供了一种PCB等离子体处理用的平面电极,除组建等离子体的产生结构的功能外,并且电极还兼具了对PCB的加热和气体供应的功能。
本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种PCB等离子体处理用的平面电极,所述电极为空心盒子结构,由无盖盒子形状的底座和顶盖两部分构成,在底座上均匀的捞出细长的安装槽用于安置布气管路网,外部气体通过一个气体输入口进入到气体管网中,并均匀地分配到两个气体分支中,每个气体分支连接数量不等的布气管,气体由布气管下方的小孔溢出进入到电极间的等离子区域,在布气管网之间的间隙布置连续的液体盘管,液体盘管内通过对电极进行加热或冷却的导热液体。
作为本实用新型的进一步改进,所述液体盘管呈S状嵌设在底座内。
作为本实用新型的进一步改进,所述布气管刚好嵌入到电极底座上的空槽中,布气管下方的小孔面对等离子体区域。
作为本实用新型的进一步改进,所述布气管路网的两个气体分支说对应的布气管内的气流方向相反,用于抵消布气管中因为靠近进气端气流大带来的气体分布的不均匀性。
本实用新型的有益效果是:本实用新型的PCB等离子体处理用的平面电极,通过在电极内部布置供气管路,使得电极区域的气体分布均匀,从而改善PCB处理的均匀性。
附图说明
图1是本发明优选的一种电极底座示意图;
图2是本发明优选的一种电极顶盖示意图;
图3是本发明优选的一种气管网示意图;
图4是本发明优选的一种电极体的无盖总成示意图;
图中标示:1.1、电极底座,1.2、安装槽;2.1、电极顶盖;3.1、气体输入口;3.2、气体分支1;3.3、气体分支2;3.4、布气管;4.1、液体盘管。
具体实施方式
为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型保护范围的限定。
图1出示了本实用新型一种PCB等离子体处理用的平面电极的一种实施方式,所述电极为空心盒子结构,由无盖盒子形状的电极底座1.1和电极顶盖2.1部分构成,在电极底座1.1上均匀的捞出细长的安装槽1.2用于安置布气管路网3.4,外部气体通过一个气体输入口3.1进入到气体管网中,并均匀地分配到两个气体分支3.2,3.3中,每个气体分支连接数量不等的布气管,气体由布气管下方的小孔溢出进入到电极间的等离子区域,在布气管路网3.4之间的间隙布置连续的液体盘管4.1,液体盘管4.1内通过对电极进行加热或冷却的导热液体。
所述液体盘管4.1呈S状嵌设在电极底座内。
所述布气管路网3.4刚好嵌入到电极电极底座上的空槽中,布气管下方的小孔面对等离子体区域,使气体均匀地分配到等离子体区域,在布气管间隙,布置了连续的液体盘管,用于对电极的加热或冷却。
所述布气管路网3.4的两个气体分支3.2,3.3对应的布气管内的气流方向相反,用于抵消布气管中因为靠近进气端气流大带来的气体分布的不均匀性,用来补偿单根布气管气流量在气体进入口流量大,末段流量小的缺陷,布气管下面均匀得分布了小孔,使气体能逸出到等离子体区域。
Claims (4)
1.一种PCB等离子体处理用的平面电极,其特征在于:所述电极为空心盒子结构,由无盖盒子形状的电极底座(1.1)和电极顶盖(2.1)两部分构成,在电极底座(1.1)上均匀的捞出细长的安装槽(1.2)用于安置布气管路网(3.4),外部气体通过一个气体输入口(3.1)进入到气体管网中,并均匀地分配到两个气体分支(3.2,3.3)中,每个气体分支连接数量不等的布气管,气体由布气管下方的小孔溢出进入到电极间的等离子区域,在布气管路网(3.4)之间的间隙布置连续的液体盘管(4.1),液体盘管(4.1)内通过对电极进行加热或冷却的导热液体。
2.根据权利要求1所述的一种PCB等离子体处理用的平面电极,其特征在于:所述液体盘管(4.1)呈S状嵌设在电极底座内。
3.根据权利要求1所述的一种PCB等离子体处理用的平面电极,其特征在于:所述布气管路网(3.4)刚好嵌入到电极底座上的空槽中,布气管下方的小孔面对等离子体区域。
4.根据权利要求1所述的一种PCB等离子体处理用的平面电极,其特征在于:所述布气管路网(3.4)的两个气体分支(3.2,3.3)对应的布气管内的气流方向相反,用于抵消布气管中因为靠近进气端气流大带来的气体分布的不均匀性。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201921756532.2U CN210429732U (zh) | 2019-10-19 | 2019-10-19 | 一种pcb等离子体处理用的平面电极 |
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CN201921756532.2U CN210429732U (zh) | 2019-10-19 | 2019-10-19 | 一种pcb等离子体处理用的平面电极 |
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CN210429732U true CN210429732U (zh) | 2020-04-28 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN201921756532.2U Active CN210429732U (zh) | 2019-10-19 | 2019-10-19 | 一种pcb等离子体处理用的平面电极 |
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CN (1) | CN210429732U (zh) |
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