CN210197885U - 用于制备量子点膜的干燥设备 - Google Patents

用于制备量子点膜的干燥设备 Download PDF

Info

Publication number
CN210197885U
CN210197885U CN201920300012.4U CN201920300012U CN210197885U CN 210197885 U CN210197885 U CN 210197885U CN 201920300012 U CN201920300012 U CN 201920300012U CN 210197885 U CN210197885 U CN 210197885U
Authority
CN
China
Prior art keywords
quantum dot
drying apparatus
dot film
film according
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201920300012.4U
Other languages
English (en)
Inventor
Fangliang Cheng
程方亮
Jie Ge
葛婕
Hengzhou Shi
史横舟
Yunjun Wang
王允军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Xingshuo Nanotech Co Ltd
Original Assignee
Suzhou Xingshuo Nanotech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Xingshuo Nanotech Co Ltd filed Critical Suzhou Xingshuo Nanotech Co Ltd
Priority to CN201920300012.4U priority Critical patent/CN210197885U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN210197885U publication Critical patent/CN210197885U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

本申请公开了一种用于制备量子点膜的干燥设备,包括:箱体,所述箱体上至少设置有箱门和抽气孔;载物台,设置于所述箱体中,用于支撑预干燥基板;加热部,内置在所述载物台中,且通过加热使得所述预干燥基板的中心位置具有高于周边位置的温度。本申请有效的减缓因抽真空时,气流不均匀导致基板上中心位置处量子点溶液干燥速度更慢的问题。

Description

用于制备量子点膜的干燥设备
技术领域
本申请涉及发光器件领域,尤其涉及一种用于制备量子点膜的干燥设备。
背景技术
量子点是一种三维尺寸均在100纳米以内的纳米材料,其具有优良的电致发光性能,比如稳定性高、半峰宽窄等,因此量子点被用作电致发光器件的发光材料。
在基板中制备量子点发光膜时,一般将量子点溶液沉积在像素槽中后,通过在干燥设备中抽真空除去溶剂后得到量子点膜。现有常见用于干燥量子点溶液的设备中,由于抽真空时气流的影响,导致基板的中心位置处比周边位置处的量子点溶液干燥速度更慢,不利于基板的干燥一致性。
实用新型内容
本申请的目的在于提供一种用于制备量子点膜的干燥设备,以解决在干燥基板时,基板中心位置处比周边处的量子点溶液干燥速度更慢的问题。
根据本申请的一个方面,提供一种用于制备量子点膜的干燥设备,包括:箱体,且所述箱体上至少设置有箱门和抽气孔;载物台,设置于所述箱体中,用于支撑预干燥基板;加热部,内置在所述载物台中,且通过加热使得所述预干燥基板的中心位置具有高于周边位置的温度。
可选地,所述抽气孔设置在所述箱体的侧壁上,且所述抽气孔基本上对称设置。
可选地,所述抽气孔的数量在3到6个。
可选地,所述抽气孔设置在所述箱体的底部或者顶部。
可选地,所述加热部小于所述预干燥基板的面积。
可选地,所述加热部由多个独立的加热件构成,所述加热件的加热温度可以独立控制。
可选地,所述干燥设备中还设置有控温装置。
可选地,所述加热部为热气流加热器。
可选地,所述载物台的高度可以上下调节。
有益效果:本申请通过在载物台的内部设置加热部,使得基板中心位置处的温度高于周边位置处,从而使得基板中心处的量子点溶液的温度更高,有效的减缓因抽真空时,气流不均匀导致基板上中心位置处量子点溶液干燥速度更慢的问题。
附图说明
图1为一个示意性的实施方式中干燥设备的结构示意图;
图2为另一个示意性的实施方式中干燥设备的结构示意图;
图3为另一个示意性的实施方式中干燥设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施方式,对本申请实施例中的技术方案进行详细地描述。应注意的是,所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式,而不是全部实施方式。
根据本申请的一些示例性实施方式,如图1所示,提供一种用于制备量子点膜的干燥设备100,干燥设备100包括箱体11,箱体11上至少设置有箱门12和抽气孔13;载物台14,设置于箱体11中,用于支撑预干燥基板16;加热部15,内置在载物台14中,且通过加热使得基板16的中心位置处具有高于周边位置处的温度。
加热部15工作时,热量直接由载物台14传递到基板16上。本申请中,通过将加热部15设置在载物台14中,确保其正上方也就是基板16的中心处的温度较高,而基板16边缘处的温度较低,则可以有效增加基板16中心处的量子点溶液中溶剂的挥发速度,减小与基板16四周边缘处溶剂挥发速度的差距。
在一个实施例中,继续见图1,抽气孔13优选设置在箱体11的侧壁上,且抽气孔13基本上对称设置。抽气孔13的作用即为抽真空孔,当抽真空时,由于抽气孔13对称设置,则可以增加箱体1中气流的均匀性,同时也能更好的保证基板16的四周位置处量子点溶液中溶剂更容易挥发。原则上,抽气孔13越多时,更能增加箱体11中气流的均匀性,但是抽气孔13太多不利于工业上的制造,因此抽气孔13的数量优选3到6个。
在一个实施例中,继续见图2,干燥设备200包括箱体21,箱体21上至少设置有箱门22和抽气孔23;载物台24,设置于箱体21中,用于支撑预干燥基板26;加热部25,加热部25内置在载物台24上。抽气孔23优选设置在箱体21的正下方。当然,抽气孔23也可以设置在箱体21的上方。不管抽气孔23设置在箱体21的上方或者下方,基板24的中心位置处的溶剂挥发速度比四周处的挥发速度慢。
继续见图1,为了使得基板16中心位置处温度更高,加热部15小于基板16的面积,这样,可以有效避免当加热部15的面积过大时,使得基板16中心位置处与四周边缘位置处温度基本相同的缺陷。
在另一个实施方式中,见图3,干燥设备300包括箱体31,箱体31上至少设置有箱门32和抽气孔33;载物台34,设置于箱体31中,用于支撑预干燥基板36;加热部35,加热部35内置在载物台34中。加热部35是由多个独立的加热件构成,如图中加热件351、加热件352、加热件353标识,加热件351、加热件352、加热件353的加热温度可以独立控制。例如,在对基板36进行加热时,正对基板36中心处的加热件352的加热温度高于偏离中心处的加热件351和353,这样可以使得基板36上中心位置处的温度更高。为了达到对不同加热件的控温,本申请的干燥设备中还含有控温装置,以根据基板36的干燥需求进行升温和降温。
本申请中,加热部15优选为热气流加热器。
为进一步优化箱体11中的气流,载物台14的高度可以调节。
尽管发明人已经对本申请的技术方案做了较详细的阐述和列举,应当理解,对于本领域技术人员来说,对上述实施例作出修改和/或变通或者采用等同的替代方案是显然的,都不能脱离本申请精神的实质,本申请中出现的术语用于对本申请技术方案的阐述和理解,并不能构成对本申请的限制。

Claims (9)

1.一种用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,包括:
箱体,所述箱体上至少设置有箱门和抽气孔;
载物台,设置于所述箱体中,用于支撑预干燥基板;
加热部,内置在所述载物台中,且通过加热使得所述预干燥基板的中心位置具有高于周边位置的温度。
2.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述抽气孔设置在所述箱体的侧壁上,且所述抽气孔基本上对称设置。
3.根据权利要求2所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述抽气孔的数量在3到6个。
4.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述抽气孔设置在所述箱体的底部或者顶部。
5.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述加热部小于所述预干燥基板的面积。
6.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述加热部由多个独立的加热件构成,所述加热件的加热温度可以独立控制。
7.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述干燥设备中还设置有控温装置。
8.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述加热部为热气流加热器。
9.根据权利要求1所述的用于制备量子点膜的干燥设备,其特征在于,所述载物台的高度可以上下调节。
CN201920300012.4U 2019-03-11 2019-03-11 用于制备量子点膜的干燥设备 Active CN210197885U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201920300012.4U CN210197885U (zh) 2019-03-11 2019-03-11 用于制备量子点膜的干燥设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201920300012.4U CN210197885U (zh) 2019-03-11 2019-03-11 用于制备量子点膜的干燥设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN210197885U true CN210197885U (zh) 2020-03-27

Family

ID=69880838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201920300012.4U Active CN210197885U (zh) 2019-03-11 2019-03-11 用于制备量子点膜的干燥设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN210197885U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10066289B2 (en) Evaporation crucible and evaporation device
CN206834210U (zh) 用于喷墨打印oled发光区的真空干燥装置
CN101055433B (zh) 加热处理装置
CN101825808B (zh) 配向膜加热装置
CN207257129U (zh) 冷凝结构及减压干燥装置
CN208359724U (zh) 真空干燥设备
CN108759360A (zh) 蒸发辅助装置和干燥设备
CN108344254A (zh) 真空干燥装置
CN210197885U (zh) 用于制备量子点膜的干燥设备
WO2014169524A1 (zh) 光罩掩模板的制作方法及用该方法制作的光罩掩模板
CN209984951U (zh) 用于制备量子点膜的干燥设备
CN209984950U (zh) 用于制备量子点膜的干燥设备
CN202254671U (zh) 全方位电热鼓风干燥箱
CN208368548U (zh) 玻璃基板的烘烤装置
CN210425943U (zh) 一种热风循环烘道
CN107990632A (zh) 一种均匀度高的茶叶烘干机
US11420228B2 (en) Apparatus and method for removing bubbles in flexible substrate
US10871325B2 (en) Vaccum drying apparatus
CN104279841A (zh) 一种节能工业烤箱
CN216563033U (zh) 一种半导体晶圆烘烤装置
CN110079758B (zh) 烘烤装置及电致发光器件基板的烘烤方法
CN108155303B (zh) 喷墨打印膜层干燥加热装置及方法
KR20200086025A (ko) 온도 및 습도 조절형 히터를 갖는 Ÿ‡클린장비용 웨이퍼 공정챔버
CN203799174U (zh) 一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备
CN204779358U (zh) 顶部对流辐射夹层玻璃蒸压釜

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant