CN210167340U - 一种减少硅片划痕的吸盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及硅片上下料技术领域，具体是一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体顶端设置有凸台，所述凸台上设置有若干安装孔，所述凸台底部设置有盖板，所述盖板内侧设置有吸附机构，所述盖板左侧设置有工作面，本实用新型，通过使工作面与凸台左端共面，使工作面的加工变得更加简单，大大提高了工作面的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质，通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片上下料技术领域，具体是一种减少硅片划痕的吸盘。
背景技术
随着国家对光伏发电的补贴减少平价上网成了目前主流的方式，为了能够具备和常规动力发电相抗衡，因此，太阳能电站必须有低的制造成本快的回收周期及高的发电效率，目前单晶硅的使用也越来越广泛，发电效率已经达到20%以上，随着黑硅制绒技术的广泛应用，对硅片表面的质量要求越来越高，因此在硅片生产过程当中，产生微量的划痕等都严重影响在硅片的发电效率。
前市场上的取放太阳能硅片的吸盘，吸盘工作面位于凸台的一侧，由于凸台的存在，给磨削和抛光带来了一定的困难，平面度和粗糙度很难达到使用要求，因此，针对以上现状，迫切需要开发一种减少硅片划痕的吸盘，以克服当前实际应用中的不足。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种减少硅片划痕的吸盘，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体顶端设置有凸台，所述凸台上设置有若干安装孔，所述凸台底部设置有盖板，所述盖板内侧设置有吸附机构，所述盖板左侧设置有工作面。
作为本实用新型进一步的方案：所述工作面与凸台左端共面。
作为本实用新型进一步的方案：所述盖板外表面和凸台底面为同一平面。
作为本实用新型进一步的方案：所述吸附机构包括气流通道和真空室，所述气流通道设置盖板内侧，所述气流通道右侧设置若干真空室，所述真空室与气流通道之间通过连接孔连接。
作为本实用新型进一步的方案：所述工作面内设置有用于安放盖板的凹槽。
作为本实用新型进一步的方案：所述凸台内侧设置有通气孔，所述通气孔与气流通道固定连接。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1.通过使工作面与凸台左端共面，使工作面的加工变得更加简单，大大提高了工作面的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质；
2.通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。
附图说明
图1为减少硅片划痕的吸盘的结构示意图。
图2为减少硅片划痕的吸盘的主视图。
图3为减少硅片划痕的吸盘的侧视图。
图中：1-吸盘本体，2-盖板，3-安装孔，4-通气孔，5-凸台，6-气流通道，7-真空室，8-工作面，9-凹槽，10-连接孔。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利，而不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利的限制。
在本专利的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
实施例1
请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体1，所述吸盘本体1顶端设置有凸台5，所述凸台5上设置有若干安装孔3，所述凸台5底部设置有盖板2，所述盖板2内侧设置有吸附机构，所述盖板2左侧设置有工作面8。
实施例2
本实施例中，所述工作面8与凸台5左端共面，通过使工作面8与凸台5左端共面，使工作面8的加工变得更加简单，大大提高了工作面8的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质。
本实施例中，所述盖板2外表面和凸台5底面为同一平面。
本实施例中，所述吸附机构包括气流通道6和真空室7，所述气流通道6设置盖板2内侧，所述气流通道6右侧设置若干真空室7，所述真空室7与气流通道6之间通过连接孔10连接，通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面8上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。
本实施例中，所述所述工作面8内设置有用于安放盖板2的凹槽9。
本实施例中，所述凸台5内侧设置有通气孔4，所述通气孔4与气流通道6固定连接。
该减少硅片划痕的吸盘，通过使工作面8与凸台5左端共面，使工作面8的加工变得更加简单，大大提高了工作面8的平整度和粗糙度，保证了装置所吸附硅片的品质，通过设置吸附机构，可以将硅片牢牢吸附在工作面8上，密封性好，不会出现漏气现象，不会影响吸盘的吸力。
本实用新型的工作原理是：将吸盘本体1上的通气孔4和真空泵连接，启动真空泵，真空室7内的空气沿气流通道6从通气孔4排出，当硅片和工作面8贴合时，在真空室7内部行成负压，从而实现对硅片的吸取，而通过将工作面8做在凸台5的反面，没有了凸台5的干涉，使工作面8的加工更加简单，大大提高了工作面8的平整度和粗糙度。
以上的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。
Claims (6)
1.一种减少硅片划痕的吸盘，包括吸盘本体（1），其特征在于，所述吸盘本体（1）顶端设置有凸台（5），所述凸台（5）上设置有若干安装孔（3），所述凸台（5）底部设置有盖板（2），所述盖板（2）内侧设置有吸附机构，所述盖板（2）左侧设置有工作面（8）。
2.根据权利要求1所述的减少硅片划痕的吸盘，其特征在于，所述工作面（8）与凸台（5）左端共面。
3.根据权利要求1所述的减少硅片划痕的吸盘，其特征在于，所述盖板（2）外表面和凸台（5）底面为同一平面。
4.根据权利要求1所述的减少硅片划痕的吸盘，其特征在于，所述吸附机构包括气流通道（6）和真空室（7），所述气流通道（6）设置盖板（2）内侧，所述气流通道（6）右侧设置若干真空室（7），所述真空室（7）与气流通道（6）之间通过连接孔（10）连接。
5.根据权利要求2所述的减少硅片划痕的吸盘，其特征在于，所述工作面（8）内设置有用于安放盖板（2）的凹槽（9）。
6.根据权利要求4所述的减少硅片划痕的吸盘，其特征在于，所述凸台（5）内侧设置有通气孔（4），所述通气孔（4）与气流通道（6）固定连接。
Priority Applications (1)
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| CN201921450509.0U CN210167340U (zh) | 2019-09-03 | 2019-09-03 | 一种减少硅片划痕的吸盘 |
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2019
- 2019-09-03 CN CN201921450509.0U patent/CN210167340U/zh active Active
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