CN210156432U - 减压干燥装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种减压干燥装置，其中，减压干燥装置用于加热待干燥基板，所述待干燥基板设有至少一像素坑，所述减压干燥装置包括：外壳，设有干燥腔，所述待干燥基板设于所述干燥腔内；冷凝板，设于所述干燥腔内，并与所述待干燥基板相对设置，所述冷凝板面向所述像素坑的一侧设有第一涂层，所述第一涂层的亲水程度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐增大。本实用新型技术方案改变冷凝液滴流向，进而形成厚度均匀的像素内部膜，增大显示面板的像素内部发光面积，从而提升显示面板的整体亮度。

Description

减压干燥装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种减压干燥装置。

背景技术

在实际的工艺过程中，传统的减压干燥装置中的像素坑中墨水的挥发容易受咖啡环效应的影响，形成中间薄边缘厚的咖啡环状的像素内部膜。而中间薄两边厚的像素内部膜在通电时，电流更倾向于从中间较薄的区域通过，导致像素只有中间部分发光，减小了像素内的发光面积，使得整个显示面板的开口率显著下降，显示面板的整体亮度偏低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种减压干燥装置，旨在改变冷凝液滴流向，进而形成厚度均匀的像素内部膜，提升显示面板的整体亮度。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种减压干燥装置，用于干燥待干燥基板，所述待干燥基板设有至少一像素坑，所述减压干燥装置包括：

外壳，设有干燥腔，所述待干燥基板设于所述干燥腔内；

冷凝板，设于所述干燥腔内，并与所述待干燥基板相对设置，所述冷凝板面向所述像素坑的一侧设有第一涂层，所述第一涂层的亲水程度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐增大。

优选地，所述第一涂层的密度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减少。

优选地，所述待干燥基板设有多个间隔设置的所述像素坑，所述冷凝板对应每一所述像素坑设有一所述第一涂层，并且所述第一涂层的轮廓与所述像素坑的轮廓一致。

优选地，所述冷凝板还设有与多个所述第一涂层邻接的第二涂层，所述第二涂层的亲水程度大于或等于所述第一涂层正对所述像素坑的边缘区域的亲水程度。

优选地，所述第二涂层的密度小于或等于所述第一涂层正对所述像素坑的边缘区域的密度。

优选地，所述第一涂层的厚度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减小。

优选地，所述冷凝板的厚度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减小，并且所述第一涂层形成在所述冷凝板厚度变化的表面上。

优选地，所述冷凝板面向所述像素坑的一侧设有凹槽，所述凹槽与所述像素坑正对设置，且所述凹槽的槽底壁与所述像素坑的距离从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减少。

优选地，所述干燥腔具有相对设置的上腔壁和下腔壁，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁的温控平台，所述温控平台承载所述干燥基板，并用于干燥所述待干燥基板。

优选地，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁和所述温控平台之间的第一升降组件，以及设于所述上腔壁和所述冷凝板之间的第二升降组件，所述第一升降组件可驱动所述温控平台带动所述待干燥基板远离或靠近所述冷凝板，所述第二升降组件可驱动所述冷凝板远离或靠近所述温控平台。

本实用新型技术方案通过在外壳设有干燥腔，将待干燥基板设于干燥腔内，冷凝板与所述待干燥基板相对设置，且所述冷凝板设有与所述像素坑位置对应的第一涂层，所述第一涂层的亲水程度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐增大；即冷凝板设置第一涂层的表面能从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐增大，如此驱动冷凝板上的冷凝液滴也从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向运动；使得冷凝板正对像素坑的区域没有冷凝液滴，待干燥基板的像素坑中心区域的溶剂挥发速率较快；冷凝板正对非像素坑的区域密集分布有冷凝液滴，进而抑制像素坑的边缘区域的墨水的挥发也受到抑制，使得像素坑边缘区域的溶剂挥发速率较慢；由于像素坑中心区域的挥发速率大于边缘区域，因此在像素坑内的墨水内部形成了由边缘向中心的流动，由于这种流动的方向抑制墨水的溶质往像素坑边缘移动的趋向，待墨水的溶剂完全干燥后，像素坑能形成厚度均匀的像素内部膜，增大显示面板的像素内部发光面积，从而提升显示面板的整体亮度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型减压干燥装置一实施例的干燥过程的截面结构示意图；

图2为本实用新型减压干燥装置的冷凝板的局部放大图；

图3为本实用新型减压干燥装置干燥后的结构示意图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				1	外壳	311	第一自组装单层膜
1a	上腔壁	32	第二涂层
				1b	下腔壁	4	温控平台
2	待干燥基板	5	第一升降组件
				21	像素坑	6	第二升降组件
3	冷凝板	7	抽气阀
				31	第一涂层	11	干燥腔

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种减压干燥装置。

在本实用新型实施例中，参照图1至图3，该一种减压干燥装置，用于干燥待干燥基板2，所述待干燥基板2设有至少一像素坑21，包括：

外壳1，设有干燥腔11，待干燥的所述基板2设于所述干燥腔11内；

冷凝板3，设于所述干燥腔11内，并与所述待干燥基板2相对设置，所述冷凝板3面向所述像素坑21的一侧设有第一涂层31，所述第一涂层31的亲水程度从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐增大。

有机发光二极管的结构包括：阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极。其中的空穴注入层、空穴传输层、发光层除了可以使用传统的蒸镀方法来制备外，还可以使用喷墨打印的方法来制备，即将有机材料溶解到有机溶剂中制成墨水，再用喷墨打印的方式准确沉积到每一个像素坑21中。沉积后，经过减压干燥，使溶剂完全挥发，只留下有机材料，然后再对有机材料进行烘烤，便完成一层功能层的制备。

其中的减压干燥过程，通过降低环境的压力来降低有机溶剂的沸点，使得其挥发速率提高，达到去除溶剂的目的。减压干燥的过程对最终有机材料成膜的形貌有着显著的影响，而成膜的形貌将决定OLED器件的效率、寿命、色坐标以及像素内部的发光面积(电流倾向于从厚度较薄的地方经过，若像素坑内薄膜厚度差异较大，将只有薄的地方发光)。通常情况下，要求有机材料在像素坑内形成平坦、厚度均匀的薄膜。

传统的减压干燥装置在减压干燥的过程中，基板上像素坑内的墨水挥发产生溶剂蒸汽，溶剂蒸汽遇到温度较低的冷凝板，在上方形成凝结液滴，从而降低待干燥基板的表面溶剂蒸汽的浓度，加快墨水中溶剂的挥发速率。同时，这些冷凝板上的凝结液滴也同样会挥发出少量溶剂蒸汽。当减压干燥过程结束时，墨水中的溶剂和冷凝板上的凝结液滴都会完全挥发，然后被去除。

但是，在实际的工艺过程中，传统的减压干燥装置并不能保证最终形成的有机材料薄膜是平坦且厚度均匀的。像素坑中墨水的挥发容易受咖啡环效应的影响，形成中间薄边缘厚的咖啡环结构。咖啡环效应对墨水挥发的影响过程如下：当墨水在像素坑内开始挥发后，墨水中的墨溶质的颗粒流动性较大，墨溶质容易被蒸发的推动力推动至像素坑的边缘，此时，墨水边缘挥发的溶剂需要由中间部分进行补充，使得墨水内部形成了由中心向边缘的流动方向，不断将墨溶质搬送并沉积到了墨水液面边缘附近，最终形成了中间薄两边厚的有机材料薄膜。由于像素内部膜的厚度呈中间薄两边厚的状态，因此通电时，电流更倾向于从中间较薄的区域通过，导致像素只有中间部分发光。由于像素内的发光面积减小，使得整个显示面板的开口率显著下降，显示面板的整体亮度偏低。

为此，在本实施例中，通过在冷凝板3上设置与像素坑21位置对应的第一涂层31，且该第一涂层31的亲水程度从对应像素坑21的中心向对应像素坑21的边缘的方向呈逐渐增大，即通过改变第一涂层31的表面能，且将第一涂层31的表面能根据冷凝液滴从正对像素坑21的中心向对应像素坑21的边缘的方向呈梯度递增设置；如此，在减压干燥装置蒸发过程，像素坑21内的墨水的溶剂蒸发并在冷凝板3冷凝形成冷凝液滴后，尤其是在第一涂层31形成的冷凝液滴会从表面能最小的位置移动至表面能最大的位置，进而驱动冷凝液滴向着冷凝板3正对像素坑21以外的区域移动，使得冷凝板3正对像素坑21的区域几乎没有冷凝液滴，而正对非像素坑区域则密集分布有冷凝液滴；此时由于移动到冷凝板3正对非像素坑区域的冷凝液滴挥发出溶剂蒸汽，并挥发至冷凝板3与像素坑21的边缘之间的空间中，使得冷凝板3与像素坑21的边缘之间的空间的溶剂蒸汽浓度较高，如此让像素坑21边缘区域墨水的挥发也受到抑制，挥发速率较慢。而待干燥基板2的像素坑21的中心与冷凝板3之间的空间没有冷凝液滴，像素坑21的中心与冷凝板3之间的空间的溶剂蒸汽浓度较小，使得像素坑21的中心位置的墨水能进行高效冷凝，直接加快像素坑21中心区域的溶剂挥发速率。由于像素坑21的中心区域的挥发速率大于像素坑21的边缘区域，因此在像素坑21内的墨水内部形成了由边缘向中心的流动，由于这种流动的方向抑制墨水的溶质在咖啡环效应作用下从像素坑21边缘向像素坑21的中心移动的趋向，待墨水的溶剂完全干燥后，像素坑21能形成厚度均匀的像素内部膜，从而提升显示面板的整体亮度。由于像素坑内膜厚均匀性得到提高，像素内部的发光面积能够有效增大，使得显示面板的开口率增加，让显示面板的发光亮度得到显著提高。同时，冷凝液滴被转移到冷凝板3正对非像素坑区域的位置，即使冷凝液滴在异常情况下脱离冷凝板3(例如，冷凝液滴自重过大，超过其与冷凝板3之间的结合力)，落回待干燥基板2，也不会落入像素坑21中，对已经成像素内部膜的有机材料进行重溶，从而避免像素内部膜的形貌受到影响。

本实用新型技术方案通过在外壳1设有干燥腔11，将待干燥基板2设于干燥腔11内，冷凝板3与所述待干燥基板2相对设置，且所述冷凝板3设有与所述像素坑21位置对应的第一涂层31，所述第一涂层31的亲水程度从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐增大；即冷凝板3设置第一涂层31的表面能从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐增大，如此驱动冷凝板3上的冷凝液滴也从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向运动；使得冷凝板3正对像素坑21的区域没有冷凝液滴，待干燥基板2的像素坑21中心区域的溶剂挥发速率较快；冷凝板3正对非像素坑的区域密集分布有冷凝液滴，进而抑制像素坑21的边缘区域的墨水的挥发也受到抑制，使得像素坑21边缘区域的溶剂挥发速率较慢；由于像素坑21中心区域的挥发速率大于边缘区域，因此在像素坑21内的墨水内部形成了由边缘向中心的流动，由于这种流动的方向抑制墨水的溶质往像素坑21边缘移动的趋向，待墨水的溶剂完全干燥后，像素坑21能形成厚度均匀的像素内部膜，增大显示面板的像素内部发光面积，从而提升显示面板的整体亮度。

优选地，参照图1至图3，所述第一涂层31密度从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐减少。

在本实施例中，第一涂层31为第一自组装单层膜，设于所述冷凝板3朝向所述像素坑21的表面。利用第一橡胶载体作为“印章”，以十八烷基三氯硅烷(OTS)为“墨水”，以冷凝板3为“印纸”，通过接触打印方法，可以将特定量的十八烷基三氯硅烷打印到冷凝板3上，形成第一自组装单层膜311，且受到第一橡胶载体形状的调控下，第一橡胶载体中心与冷凝板3的接触要比其边缘与冷凝板3的接触充分很多，因此，冷凝板3上的第一自组装单层膜311的密度会呈现由接触中心向边缘方向的梯度分布，即第一自组装单层膜311的密度会呈现由接触中心向边缘方向逐渐减少的变化；上述的第一涂层31的制备方法步骤简单，易于操作。通过在冷凝板3对应像素坑21的位置设置不同密度的第一组装单层膜311，形成从正对像素坑21中心区域向正对非像素坑中心区域的亲水程度递增的状态，使得冷凝液滴附着在冷凝板3的力度也从正对像素坑21中心区域向正对非像素坑中心区域呈梯度递增的变化。形成梯度亲水程度的第一涂层还有很多方法，在此不一一举例，但不限于以上的方法。

进一步地，参照图1至图3，所述待干燥基板2设有多个间隔设置的所述像素坑21，所述冷凝板3对应每一所述像素坑21设有一所述第一涂层31，并且所述第一涂层31的轮廓与所述像素坑21的轮廓一致。在本实施例中，通过设置多个像素坑21，利用多个像素坑21同时形成一平坦且密度更大的像素内部膜，进而增多显示面板的像素数量，从而提高显示面板的分辨率。进一步地，在本实施例中，通过以上设置，形状与像素坑21一致的第一橡胶载体在打印后，形成的第一自组装单层膜311的形状也与像素坑21的形状一致，如此，使得第一自组装单层膜311的密度分布的形状与像素坑21的形状更贴合，进而在第一自组装单层膜311冷凝析出的冷凝液滴分布的位置与像素坑21的更贴合，从而增大像素坑21的边缘与冷凝板3之间的空间的溶剂浓度，以提高像素坑21内的墨水从边缘向中心流动的流动趋向。

进一步地，参照图1至图3，所述冷凝板3还设有与多个所述第一涂层31邻接的第二涂层32，所述第二涂层32的亲水程度大于或等于所述第一涂层31正对所述像素坑21的边缘区域的亲水程度。

在本实施例中，通过在第一涂层31相互邻接的区域设置第二涂层32，增大冷凝板3在第一涂层31以外的区域的亲水程度，当减压干燥装置在干燥蒸发过程中，增加在冷凝板3正对非像素坑的区域形成冷凝液滴的数量，进而提升像素坑21的边缘与冷凝板3之间的空间的溶剂溶度，进一步抑制像素坑21内的墨水从边缘区域蒸发的量，从而提高像素坑21内的墨水从边缘向中心流动的流动趋向，以形成更平坦的像素内部膜。

优选地，所述第二涂层32密度小于或等于所述第一涂层31正对所述像素坑21的边缘区域的密度。

在本实施例中，第二涂层32为设于所述冷凝板3面向所述像素坑21的表面的第二自组装单层膜。直接在冷凝板3正对非像素坑的区域均匀涂覆十八烷基三氯硅烷，以让十八烷基三氯硅烷形成密度均匀的第二自组装单层膜，进而改变冷凝板3正对非像素坑的区域的亲水程度；且所述第二自组装单层膜的密度小于或等于所述第一自组装单层膜311正对所述像素坑21的边缘区域的密度，如此设置，冷凝板3正对非像素坑的区域吸附冷凝液滴的能力与冷凝板3正对像素坑21边缘的区域的吸附冷凝液滴的能力一致，进一步增大冷凝板3正对非像素坑的区域吸附冷凝液滴的数量。形成第二自组装单层膜的十八烷基三氯硅烷的分量小于或等于形成第一自组装单层膜的边缘区域的分量，且形成第二自组装单层膜的十八烷基三氯硅烷与冷凝板3的接触时间小于或等于形成第一自组装单层膜的边缘区域的十八烷基三氯硅烷与冷凝板3的接触时间。

进一步地，参照图1至图3，在一实施例中，所述第一涂层31的厚度从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐减小。

在本实施例中，通过第一涂层31的厚度从正对像素坑21的中心向像素坑21的边缘方向逐渐减少，如此设置，使得第一涂层31正对像素坑21的中心与第一涂层31正对像素坑21的边缘形成高度差，进一步增大冷凝板3正对非像素坑的区域吸附冷凝液滴的数量。在本实施例中，第一涂层31是第一自组装单层膜，第一涂层31还可以采用其他材料，只要符合改变冷凝板3的表面能即可。

进一步地，参照图1至图3，在另一实施例中，所述冷凝板3的厚度从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐减小，并且所述第一涂层31形成在所述冷凝板3厚度变化的表面上。如此设置，使得第一涂层31正对像素坑21的中心与第一涂层31正对像素坑21的边缘形成高度差，并驱动冷凝液滴从正对像素坑21的中心向正对像素坑21的边缘的方向移动，从而进一步增大冷凝板3正对非像素坑的区域吸附冷凝液滴的数量。在本实施例中，第一涂层31是第一自组装单层膜，第一涂层31还可以采用其他材料，只要符合改变冷凝板3的表面能即可。

进一步地，参照图1至图3，所述冷凝板3面向所述像素坑21的一侧设有凹槽(图未示)，所述凹槽与所述像素坑21正对设置，且所述凹槽的槽底壁与所述像素坑21的距离从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐减少。

在本实施例中，当像素坑21的墨水蒸发并在凹槽中形成冷凝液滴，而凹槽的槽底壁与像素坑21的距离从正对所述像素坑21的中心向所述像素坑21的边缘的方向逐渐减少，使得位于凹槽的槽底壁的冷凝液滴在凹槽的槽底壁与像素坑21的距离变化而产生相应的重力势能变化，进而驱动凹槽的槽底壁正对像素坑21中心的冷凝液滴向凹槽的槽底壁正对像素坑21边缘的区域移动，从而提高像素坑21内的墨水从边缘向中心流动的流动趋向，以形成更平坦的像素内部膜。

优选地，参照图1至图3，所述干燥腔11具有相对设置的上腔壁1a和下腔壁1b，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁1b的温控平台4，所述温控平台承载所述待干燥基板2，并用于加热所述待干燥基板2。具体地，所述温控平台4的一侧与所述下腔壁1b连接，另一侧与所述待干燥基板2背向所述像素坑21的一侧连接。通过设置温控平台4对待干燥基板2进行加热，使得待干燥基板2的像素坑21的墨水能蒸发形成像素内部膜。

进一步地，参照图1至图3，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁1b和所述温控平台4之间的第一升降组件5，所述第一升降组件5可驱动所述温控平台4带动所述待干燥基板2远离或靠近所述冷凝板3。

具体地，所述第一升降组件5的一侧与所述下腔壁1b连接，另一侧与所述温控平台4背向所述待干燥基板2的一侧连接；在本实施例中，通过在温控平台4与下腔壁1b之间设置第一升降组件5，利用第一升降组件5带动温控平台4在下腔壁1b升降，使得与温控平台4连接的待干燥基板2与冷凝板3之间的距离可变化，以让待干燥基板2与冷凝板3之间的距离可根据实际的情况进行调整，从而提升减压干燥装置的干燥效果。第一升降组件5可采用升降气缸结构或者电机、丝杆和滑块的组合结构。

进一步地，参照图1至图3，所述减压干燥装置还包括设于所述上腔壁1a和所述冷凝板3之间的第二升降组件6，所述第二升降组件6可驱动所述冷凝板3远离或靠近所述温控平台4。

具体地，所述第二升降组件6的一侧与所述上腔壁1a连接，另一侧与所述冷凝板3背向第一涂层31的一侧连接。在本实施例中，通过在上腔壁1a与冷凝板3之间设置第二升降组件6，利用第二升降组件6的升降带动冷凝板3在上腔壁1a升降，使得冷凝板3与温控平台4之间的距离可变化，以让待干燥基板2与冷凝板3之间的距离可根据实际的情况进行调整，进一步增大温控平台4与冷凝板3之间的距离的调整范围，从而提升减压干燥装置的干燥效果。第二升降组件6可采用升降气缸结构或者电机、丝杆和滑块的组合结构。

进一步地，参照图1至图3，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁1b的抽气阀门7，且所述抽气阀门7与抽气设备连通。在本实施例中，当像素坑21中已形成像素内部膜后，将抽气设备开启，可通过抽气阀门7将干燥腔11内的溶剂蒸汽抽出干燥腔11外，以保证整个干燥腔11的干燥，避免溶剂蒸汽再一次进入至像素坑21中。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种减压干燥装置，用于干燥设有至少一像素坑的基板，其特征在于，包括：

外壳，设有干燥腔，待干燥的所述基板设于所述干燥腔内；

冷凝板，设于所述干燥腔内，所述冷凝板面向所述像素坑的一侧设有第一涂层，所述第一涂层的亲水程度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐增大。

2.如权利要求1所述的减压干燥装置，其特征在于，所述第一涂层的密度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减少。

3.如权利要求1所述的减压干燥装置，其特征在于，所述待干燥基板设有多个间隔设置的所述像素坑，所述冷凝板对应每一所述像素坑设有一所述第一涂层，并且所述第一涂层的轮廓与所述像素坑的轮廓一致。

4.如权利要求3所述的减压干燥装置，其特征在于，所述冷凝板还设有与多个所述第一涂层邻接的第二涂层，所述第二涂层的亲水程度大于或等于所述第一涂层正对所述像素坑的边缘区域的亲水程度。

5.如权利要求4所述的减压干燥装置，其特征在于，所述第二涂层的密度小于或等于所述第一涂层正对所述像素坑的边缘区域的密度。

6.如权利要求1-5任一项所述的减压干燥装置，其特征在于，所述第一涂层的厚度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减小。

7.如权利要求1-5任一项所述的减压干燥装置，其特征在于，所述冷凝板的厚度从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减小，并且所述第一涂层形成在所述冷凝板厚度变化的表面上。

8.如权利要求7所述的减压干燥装置，其特征在于，所述冷凝板面向所述像素坑的一侧对应每一像素坑设有凹槽，且所述凹槽的槽底壁与所述像素坑的距离从正对所述像素坑的中心向所述像素坑的边缘的方向逐渐减少。

9.如权利要求1至5中任意一项所述的减压干燥装置，其特征在于，所述干燥腔具有相对设置的上腔壁和下腔壁，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁的温控平台，所述温控平台承载所述待干燥基板，并用于干燥所述待干燥基板。

10.如权利要求9所述的减压干燥装置，其特征在于，所述减压干燥装置还包括设于所述下腔壁和所述温控平台之间的第一升降组件，以及设于所述上腔壁和所述冷凝板之间的第二升降组件，所述第一升降组件可驱动所述温控平台带动所述待干燥基板远离或靠近所述冷凝板，所述第二升降组件可驱动所述冷凝板远离或靠近所述温控平台。

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