CN210119290U - 测量光源以及用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及测量光源以及用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置。用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光的测量光源包括块状块体，在块体中构造有照明腔、光成形腔和光射出腔，它们分别构造为块体中的空腔并且具有漫反射的内部面。照明腔通入光成形腔中。光成形腔通入光射出腔中。用于产生光的至少一个光源至少部分地布置在照明腔中。光射出腔具有光射出口。根据本实用新型，照明腔的轴线和光射出腔的轴线彼此间隔开布置。光成形腔被构造成用于使光传播方向反转。此外，本实用新型还涉及一种用于检测样本的至少一个绝对反射光谱的测量装置。测量装置尤其被用于在生产过程中对表面进行光谱探查，以便例如确定表面的颜色或光泽。

Description

测量光源以及用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置

技术领域

本实用新型涉及一种用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光的测量光源。此外，本实用新型还涉及一种用于检测样本的至少一个绝对反射光谱的并优选也用于执行参考测量的测量装置。该测量装置尤其被用于在生产过程中对表面进行光谱探查，以便例如确定表面的颜色或光泽或层厚度。

背景技术

DE 10 2011 050 969 A1示出了一种用于参考式测量经反射的光的设备，该设备具有空心体，该空心体在其内部具有漫散射的层以及光射出开口。该设备能够从测量位置转换到校准位置，由此，使光射出开口从第一探测轴线被带引到第二探测轴线中。

由DE 10 2010 041 749 A1公知有一种测量装置，其具有沿纵向方向延伸的空腔，该空腔具有朝向样本的开口和许多沿纵向方向布置的开口。另外的开口被用于光的耦合入。

US 6,422,718 B1、DE 34 31 367 A1和DE 20 2008 012 222 U1以不同实施方式示出了测量光源。

DE 10 2013 219 830 A1教导了一种用于在漫射照明的情况下进行反射测量的光学设备，其包括空心体，该空心体在其内部具有对光散射的表面以及具有光射出开口。光射出开口具有非旋转对称的形状。

DE 10 2014 215 193 A1示出了一种用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置。该测量装置包括光源和用于产生测量光的均匀的空间照明强度分布的均化器。测量装置还包括能运动的反射器和接收器。反射器与光源布置在样本的同一侧上。均化器优选由乌布利希球，由乌布利希管或由球柱体结构形成。在该测量装置中，在样本间距发生变化时或在发生样品歪斜时，乌布利希球导致了绝对测量的测量误差大于1％，这对很多应用来说都太高了。但在实验室条件之外，尤其是在生产过程中的在线测量的情况下，就无法避免样本间距变化和样品歪斜。

DE 10 2016 116 405 A1和EP 3 290 904 A2涉及一种用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光的测量光源。测量光源包括具有漫反射的内部面的空心体。在空心体中构造有凹状的凹面镜形的照明腔、管状的光成形腔和凹状的凹面镜形的光射出腔，它们具有共同的轴线。用于产生光的光源至少部分地布置在照明腔中。该光源例如由至少一个卤素灯和/或至少一个LED形成。光射出腔具有光射出口。照明腔和光射出腔利用其凹面镜形状彼此对置，并且通过管状的光成形腔连接。在空心体中布置有漫反射的反射盘，该反射盘用于使由空心体的布置在光射出腔内的内部面反射的光穿过光射出口向空心体之外反射。EP 3 290 904 A2还示出了用于检测样本的绝对反射光谱的并用于执行参考测量的不同的测量装置。

实用新型内容

基于现有技术，本实用新型的任务在于：提供一种用于检测反射光谱的测量装置，尤其是一种适用于此的用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光源，其明显比乌布利希球能更紧凑地实施。

所提出的任务通过如下测量光源以及通过如下用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置来解决。

根据本实用新型的测量光源被用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光。例如，利用根据本实用新型的测量光源可以实行对表面的光谱探查。

测量光源包括块状的块体，在其中构造有照明腔、光成形腔和光射出腔。照明腔、光成形腔和光射出腔分别构造为块体中的空腔。照明腔、光成形腔和光射出腔分别具有用于产生或传输漫射光的漫反射的内部面。照明腔通入光成形腔中，从而使光可以从照明腔射入到光成形腔中。光成形腔通入光射出腔中，从而使光可以从光成形腔射入到光射出腔中。

用于产生光的至少一个光源至少部分地布置在照明腔中。在任何情况下，至少一个光源都被布置成使光能够通过它被射到照明腔中，其中，至少一个光源可以部分地位于照明腔之外。

光射出腔具有光射出口，来自光射出腔的光可以通过光射出口被射向块体之外。从光射出口射出的光形成了可由测量光源产生的测量光。照明腔的轴线和光射出腔的轴线彼此间隔开地布置。照明腔的轴线优选地由照明腔的中心轴线形成。光射出腔的轴线优选地由光射出腔的中心轴线形成。光射出口的轴线和光射出腔的轴线优选重合。照明腔优选地被构造成用于使漫射光沿第一光传播方向在照明腔中进行光传播，该第一光传播方向位于照明腔的轴线中。光射出腔优选被构造成用于使漫射光沿第二光传播方向在光射出腔中进行光传播，该第二光传播方向位于光射出腔的轴线中。照明腔的轴线和光射出腔的轴线布置得彼此间隔较远，使得照明腔和光射出腔并排布置或上下相叠地布置。

根据本实用新型，光成形腔被构造成用于使漫射光的光传播方向反转。因此，从照明腔射入到光成形腔中的光在其穿过光成形腔传播的情况下使其光传播方向经历反转，从而使其以经反转的光传播方向从光成形腔射到光射出腔中。

根据本实用新型的测量光源的特别的优点是，它可以实施得非常紧凑，这是因为照明腔和光射出腔可以并排或上下相叠地布置并且光成形腔可以轴向相邻地布置。由此，可以最佳地利用结构空间。

可利用根据本实用新型的测量光源产生的测量光在其空间照明强度分布中具有优选至多0.2％的偏差。由此，使在测量绝对反射光谱时测量光源的在线使用成为可能，这是因为样本间距差异、样品厚度变化和样品歪斜是能容忍的。

可通过光源产生的光在其从光射出口射出之前在照明腔中、在光成形腔中以及在光射出腔中优选被反射至少三次。可通过光源产生的光在其从光射出口射出之前在照明腔中、在光成形腔中和在光射出腔中优选被反射至少四次。可通过光源产生的光的大部分在其从光射出口射出之前在照明腔中、在光成形腔中和在光射出腔中优选被反射多次。

第一光传播方向和第二光传播方向优选地彼此相反地取向。第一光传播方向和第二光传播方向相对彼此具有优选为180°±30°，进一步优选为180°±15°，并且特别优选为180°的角度。

光成形腔优选呈U形或V形地将照明腔与光射出腔连接。

照明腔的轴线和光射出腔的轴线优选地彼此平行地布置。照明腔和光射出腔优选地具有相同的轴向定位，也就是说具有沿轴向方向的相同的定位。因此，照明腔和光射出腔并排地或上下相叠地且沿轴向方向没有错位地布置。在这方面，照明腔、光成形腔和光射出腔构成U 形状或V形状，其中，照明腔和光射出腔形成U形状或V形状的侧边。

在根据本实用新型的测量光源的优选的实施方式中，在从光成形腔到光射出腔的过渡部处布置有均化器元件。均化器元件具有漫反射的照明面。均化器元件被构造成用于通过光射出口将从光射出腔的内部面反射的光反射向块体之外。均化器元件优选地布置在光射出腔的轴线中并垂直于该轴线地布置。均化器元件在该轴线中优选与光射出口对置。如果从外面透过光射出口看光射出腔的话，则能观察到均化器元件。从光成形腔到光射出腔的过渡部在关于光射出腔的轴线径向居中的区段中优选被均化器元件在视线上遮挡，其中，径向靠外的区段形成从光成形腔到光射出腔的光透射。

均化器元件优选具有平坦的或拱曲的盘的形状。拱曲的盘优选是球面形拱曲的。

均化器元件优选安设在接片上，该接片布置在光射出腔的中间的平面中。光射出腔的中间的平面优选地还形成照明腔的中间的平面和/ 或光成形腔的中间的平面。

照明腔优选具有至少一个光进入口，至少一个光源至少部分地布置在该至少一个光进入口中。至少一个光进入口优选由块体的其中布置有至少一个光源的开口形成。

照明腔优选具有其中两个光进入口，即第一光进入口和第二光进入口。第一光进入口和第二光进入口优选并排布置。在其中每个光进入口中布置有其中至少一个光源。其中一个或两个光进入口也可以分别布置有其中多个光源。照明腔也可以具有其中多于两个的光进入口。多于两个的光进入口可以成两个相邻的组地布置。

两个光进入口或两组光进入口是两个用于照明的通道。例如，双通道式的照明允许从不同的照明光谱中选定。通过双通道式的照明，尤其还可以预防测量光源的热过载。这两个通道可以交替利用。关于优选地也形成照明腔的和光成形腔的中间的平面的光射出腔的中间的平面地，具有照明腔、光成形腔和发射出腔的块状的块体优选对称构造。

两个光进入口之间的连接线或两组光进入口之间的连接线优选垂直于光射出腔的中间的平面布置。

在根据本实用新型的测量光源的优选的实施方式中，在第一光进入口中或者在第一组光进入口中并且在第二光进入口中或者在第二组光进入口中分别布置有形成测量光源的光源的卤素灯和多个LED。其优选分别是卤素灯和多个LED，优选是至少四个LED，并且进一步优选是至少10个LED。替选地，优选地，在第一光进入口中或者在第一组光进入口中布置有形成光源的至少一个卤素灯，而在第二光进入口中或者在第二组光进入口中布置有形成测量光源的光源的多个LED。在第二光进入口中或者在第二组光进入口中优选布置有至少四个 LED，并且进一步优选布置有至少10个LED。

多个LED、尤其是至少四个LED在它们的总和上具有如下发射光谱，其优选涵盖了光的可见范围，并且进一步优选涵盖了340nm至 1100nm的范围并且又进一步优选涵盖了340nm至1620nm范围。

至少一个光源也可以是由氙闪光灯、由氘灯、由红外线辐射器、由白光LED、由紫外线阴极或者由紫外线LED形成的闪光灯。光源还可以包括一个或多个光纤，光可以经由一个光纤或多个光纤被射到照明腔中。在这方面，例如，卤素灯可以布置在照明腔之外。在任何情况下，一个光纤或多个光纤作为光源的一部分通入照明腔中，从而使光源部分地布置在照明腔中。

在双通道式的照明的情况下，均化器元件优选具有两个侧向的扩展部，以便防止来自两个通道的仅被反射几次的光射入光射出腔中。侧向的扩展部之间的连接线优选垂直于光射出腔的中间的平面布置。

测量光源优选包括透镜，该透镜布置在光射出口前方的块体之外。通过透镜，使从光射出口射出的测量光的光束被增大，以便能够照亮更大的面。根据本实用新型的测量光源的特别的优点在于，它可以实施得很小，这导致光射出口也是小的。对于一些应用来说，小的光射出口可能过小。通过透镜，可以增大从光射出口射出的光的光束。

在根据本实用新型的测量光源的优选的实施方式中，块状的块体具有长方体的或立方体的基本形状，其具有两个倾斜的棱边，它们形成了光成形腔的外部面。

在根据本实用新型的测量光源的优选实施方式中，块状的块体包括至少两个子块体，它们彼此牢固地连接。尤其是在双通道式的照明的情况下，块状的块体优选包括三个这种彼此牢固连接的子块体。三个子块体中的第一子块体与三个子块体中的中间的第二子块体之间的连接平面与第一光进入口相交。三个子块体中的中间第二子块体与三个子块体中的第三子块体之间的连接平面与第二光进入口相交。第一子块体与第二子块体之间的连接平面以及第二子块体与第三子块体之间的连接平面优选彼此平行取向。第一子块体与第二子块体之间的连接平面以及第二子块体与第三子块体之间的连接平面优选平行于光射出腔的中间的平面地布置。光射出口优选构造在中间的第二子块体中。均化器元件和必要时的接片优选构造在中间的第二子块体中。

在根据本实用新型的测量光源的优选实施方式中，块体或子块体由聚四氟乙烯(PTFE)构成。该材料漫反射是非常好的。照明腔、光成形腔和光射出腔具有漫反射的表面，该表面具有在整个光谱中优选为至少96％的、特别优选至少为98％的反射率。

根据本实用新型的测量光源的特别的优点在于，它可以实施得很小。块体具有相应的外棱边，其长度优选不大于90mm，进一步优选不大于70mm。照明腔、光成形腔和光射出腔之间具有块状的块体的材料，尤其是聚四氟乙烯，壁厚优选为不大于12mm，并且进一步优选为不大于10mm。该壁厚优选为至少6mm。

根据本实用新型的测量装置被用于检测样本的绝对反射光谱。测量装置例如被用于在针对大型涂覆的诸如玻璃板或薄膜的面的生产过程中进行在线测量，以用于检查表面。为了检测绝对反射光谱，优选不需要参考样本。因此，测量装置优选也允许对所使用的测量光进行参考测量。

测量装置首先包括根据本实用新型的用于产生具有均匀的空间照明强度分布的测量光的测量光源。

测量装置还包括用于接收光的光学接收器，其与测量光源相对置地布置。所要接收的光是指测量光源在经过样本或经参考路径的路径之后的测量光。接收器的射入开口和测量光源的射出开口除了错位之外还彼此互相指向。光学接收器优选地布置在照明腔的轴线上。

测量装置被构造成用于平行于样本的表面布置。尤其地，光射出腔的轴线平行于样本的表面布置，即与样本的表面具有错位。

测量装置包括第一镜，该第一镜布置在测量光源的光射出口的轴线上并且被取向成用于反射测量光源的从光射出口射出的测量光。第一镜优选刚性地布置。第一镜优选具有球面的曲率。在光射出口与第一镜之间优选布置有所描述的用于增大从光射出口射出的测量光的光束的透镜。

测量装置还包括第二镜，该第二镜布置在光学接收器的轴线上并且被取向成用于将反射的测量光反射到光学接收器上。第二镜优选刚性地布置。第二镜优选布置在照明腔的轴线上。第二镜优选布置在照明腔与光学接收器之间。

测量装置优选包括第三镜，该第三镜能在至少两个位置上调节，为此，第三镜是可摆动的。第三镜优选能够在至少三个位置中调节。第三镜优选布置在第一镜与第二镜之间。在第三镜的第一位置中，该第三镜被取向成用于将来自第一镜的光路指向光学接收器。在第三镜的第二位置中，该第三镜被取向成用于释放从第二镜指向到光学接收器的测量光。在第三镜的第三位置中，该第三镜被取向成用于将从样本反射的测量光指向光学接收器。测量装置优选包括第四镜。

光学接收器优选地由光学的传感器、如尤其是光谱仪形成，或者至少由光学传感器的光学输入端形成。例如，光学接收器可以由输入光学器件形成，在其上联接有光纤，该光纤被引导至光谱仪。

测量光源、光学接收器、第一镜、第二镜以及必要时的第三镜优选形成测量头。测量头包括壳体，在其中布置有测量光源、接收器、第一镜、第二镜和必要时的第三镜。壳体具有测量开口，从第一镜反射的测量光可以通过该测量开口向外发射，并且从样本反射的测量光可以通过该测量开口向内尤其向第二镜发射。

优选地，其中多个测量头并排布置，以便构成测量装置。使用测量装置可以在样本的整个宽度上以窄规格沿轨迹收集测量数据。

根据本实用新型的测量装置的测量光源优选由根据本实用新型的测量光源的所述的优选的实施方式之一形成。此外，根据本实用新型的测量装置优选地也具有与根据本实用新型的测量光源及其优选的实施方式相关联地说明的其他特征。

附图说明

本实用新型的其他细节和改进方案参考附图由对本实用新型优选的实施方式的以下描述得出。其中：

图1：示出根据本实用新型的测量光源的优选的实施方式的侧视图；

图2：以俯视图示出图1中所示的测量光源；

图3：以第一剖视图示出图1中所示的测量光源；

图4：以第二剖视图示出图1中所示的测量光源；

图5：以第三剖视图示出图1中所示的测量光源；

图6：以透视的剖视图示出图1中所示的测量光源；

图7：示出在旁路测量期间的根据本实用新型的测量装置的优选的实施方式的简化的剖视图；

图8：示出在透射测量期间的图7中所示的测量装置；

图9：示出在反射测量期间的图7中所示的测量装置；以及

图10：示出在暗测量期间的图7中所示的测量装置。

具体实施方式

图1示出了根据本实用新型的测量光源的优选的实施方式的侧视图。测量光源包括由PTFE构成的块状的块体01。块体01由第一子块体02、第二子块体03和第三子块体04构成，它们彼此牢固连接或者一体式构造。块体01具有两个并排布置的光进入口06，在光进入口中分别布置有光源07(图6中示出)。块体01还具有光射出口08，由测量光源产生的光将从其中射出。

此外，还示出了针对图3中所示的横截面视图的截面标记AA和针对图4中所示的横截面视图的截面标记BB。

图2以俯视图示出了图1中所示的测量光源。示出了针对图5中所示的横截面视图的截面标记CC。

图3以第一横截面视图AA示出了图1中所示的测量光源。在该横截面视图中示出了块体01的内部，即照明腔11、光成形腔12和光射出腔13，它们分别由块体01中的空腔形成。照明腔11、光成形腔12和光射出腔13包括具有全部光谱的至少98％的反射率的漫反射的表面。光进入口06形成通向照明腔11的输入端。照明腔11通入光成形腔12中。光成形腔12通入光射出腔13中。光成形腔12是照明腔11 与光射出腔13之间的呈U形的连接部。由此，照明腔11和光射出腔 13被节省空间地上下相叠地布置。光成形腔12侧向地布置在照明腔 11和光射出腔13旁边。

图4以第二横截面视图BB示出了图1中所示的测量光源。在该横截面视图中又示出了照明腔11、光成形腔12和光射出腔13，其中，它们相比图2中所示地具有更小的横截面。在该横截面视图中示出了形式为球面形盘的均化器元件14，它位于光射出腔13中，并且与光射出腔08对置地布置(在图3中示出)。

图5以第三横截面视图CC示出了图1中所示的测量光源。在该横截面视图中还示出了光进入口06和光射出口08。

图6以透视的截面视图示出了图1中所示的测量光源。在该透视的截面视图中示出了照明腔11、光成形腔12和光射出腔13的空间上的延展度。在两个光进入口06中分别布置有两个光源07中的一个，光源在所示的实施方式中例如由卤素灯形成。通过两个光源07得到了测量光源的双通道式的实施方案。相应地，照明腔11、光成形腔12和光射出腔13具有垂直于在此所示的横截面平面的相应的延展度中，也就是说照明腔11、光成形腔12和光射出腔13以及测量光源在其整体性上具有用于双通道式的实施方案的提高了的宽度。

在该透视的截面视图中还示出了均化器元件14。该均化器元件14 具有两个侧向呈矩形的扩展部17，其防止了从两个通道仅反射几次的光射入到光射出腔13中。均化器元件14通过接片18保持在中间的第二子块体03中。

图7示出了在旁路测量期间的根据本实用新型的测量装置的优选的实施方式的简化的截面视图。测量装置具有图1中所示的测量光源，该测量光源尤其包括具有照明腔11、光成形腔12和光射出腔13以及光进入口06和光射出口08的块体01。测量光源还包括用于增大从光射出口08射出的测量光的光束的透镜20。测量装置包括第一镜21，穿射过透镜20的测量光落在其上。第一镜21是球面形拱曲的并且被牢固布置。测量装置还包括第二镜22，其指向光学接收器23。在光学接收器23之前布置有透镜24，该透镜聚焦反射的测量光。测量装置还包括第三镜26，该第三镜在其取向方面是可调节的并且在第一位置27 中、在第二位置28中、在第三位置29中和在第四位置31中示出。

样本(未示出)布置在样本平面32中。

测量装置还包括黑色标准33和反向镜(Gegenspiegel)34，它们布置在样本平面32之下。

示出了发生在旁路测量中的测量光的光路36，以便可以实行100％白色测量，由此，测量装置可被调准到测量光源的100％白色。因此，第三镜26的第一位置27被用于旁路测量。

图8示出了在透射测量期间的图7中所示的测量装置。示出了出现在该透射测量期间的测量光的光路37。光路37穿过样本平面32中的样本(未示出)，并且在反向镜34上并在第二镜22上反射。第三镜 26处于其第二位置28中，由此它释放了光路37。因此，第三镜26的第二位置28被用于透射测量。

图9示出了在反射测量期间的图7中所示的测量装置。示出了出现在该反射测量中的测量光的光路38。光路38被样本平面32中的样本(未示出)反射并且在处于其第三位置29中的第三镜26反射。因此，第三镜26的第三位置29被用于反射测量。

图10示出了在暗测量期间的图7中所示的测量装置。示出了光路 39，其象征地表示了光学接收器23经由处于第三位置29中的第三镜 26指向黑色标准33。因此，第三镜26的第三位置29也被用于暗测量。

附图标记列表

01 块状的块体

02 第一子块体

03 第二子块体

04 第三子块体

05 -

06 光进入口

07 光源

08 光射出口

09 -

10 -

11 照明腔

12 光成形腔

13 光射出腔

14 均化器元件

15 -

16 -

17 侧向的扩展部

18 接片

19 -

20 透镜

21 第一镜

22 第二镜

23 光学接收器

24 透镜

25 -

26 第三镜

27 第一位置

28 第二位置

29 第三位置

30 -

31 第四位置

32 样本平面

33 黑色标准

34 反向镜

35 -

36 在旁路测量中的光路

37 在透射测量中的光路

38 在反射测量中的光路

39 在暗测量中的光路

Claims (10)

1.测量光源，其特征在于，所述测量光源包括块状的块体(01)，在所述块体中构造有照明腔(11)、光成形腔(12)和光射出腔(13)，所述照明腔、所述光成形腔和所述光射出腔分别构造为所述块体(01)中的空腔并且具有漫反射的内部面；其中，所述照明腔(11)通入所述光成形腔(12)中；其中，所述光成形腔(12)通入所述光射出腔(13)中；其中，用于产生光的至少一个光源(07)至少部分地布置在所述照明腔(11)中；其中，所述光射出腔(13)具有光射出口(08)；其中，所述照明腔(11)的轴线和所述光射出腔(13)的轴线彼此间隔开布置；并且其中，所述光成形腔(12)被构造成用于使光传播方向反转。

2.根据权利要求1所述的测量光源，其特征在于，所述照明腔(11)被构造成用于沿第一光传播方向进行光传播，并且所述光射出腔(13)被构造成用于沿第二光传播方向进行光传播，其中，所述第一光传播方向和所述第二光传播方向彼此相反取向。

3.根据权利要求2所述的测量光源，其特征在于，所述照明腔(11)的轴线和所述光射出腔(13)的轴线彼此平行布置，其中，所述照明腔(11)和所述光射出腔(13)具有相同的轴向定位。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的测量光源，其特征在于，在从所述光成形腔(12)到所述光射出腔(13)的过渡部上布置有具有漫反射的照明面的均化器元件(14)，所述均化器元件布置在所述光射出腔(13)的轴线中并且垂直于所述光射出腔(13)的轴线布置。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的测量光源，其特征在于，所述照明腔(11)具有至少一个光进入口(06)，所述至少一个光源(07)至少部分地布置在所述至少一个光进入口中。

6.根据权利要求5所述的测量光源，其特征在于，所述照明腔(11)包括并排布置的两个所述光进入口(06)或两组光进入口(06)。

7.根据权利要求6所述的测量光源，其特征在于，所述光源(07)中的至少一个光源至少部分地布置在其中每个光进入口(06)中或至少部分地布置在其中每组光进入口(06)中。

8.根据权利要求7所述的测量光源，其特征在于，在其中第一光进入口(06)中或者在其中第一组光进入口(06)中布置有形式为卤素灯的至少一个光源(07)，其中，在其中第二光进入口(06)中或者在其中第二组光进入口(06)中布置有形式为多个LED的至少一个光源(07)。

9.根据权利要求6所述的测量光源，其特征在于，所述块状的块体(01)包括三个子块体(02、03、04)，所述三个子块体彼此牢固连接，其中，在所述三个子块体中的第一子块体(02)与所述三个子块体中的中间的第二子块体(03)之间的连接平面与第一光进入口(06)相交，其中，在所述三个子块体中的中间的第二子块体(03)与所述三个子块体中的第三子块体(04)之间的连接平面与第二光进入口(06)相交，并且其中，所述光射出口(08)构造在所述中间的第二子块体(03)中。

10.用于检测样本的绝对反射光谱的测量装置，其特征在于，所述测量装置包括：

-根据权利要求1至3中任一项所述的测量光源；

-用于接收测量光的光学接收器(23)，所述光学接收器与所述测量光源对置地布置；

-第一镜(21)，所述第一镜布置在所述光射出口(08)的轴线上，并且被取向成用于反射从所述光射出口(08)射出的测量光；以及

-第二镜(22)，所述第二镜布置在所述光学接收器(23)的轴线上，并且被取向成用于将反射来的测量光反射到所述光学接收器(23)上。

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