CN210039764U - 一种电缆的表面等离子处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种电缆的表面等离子处理设备，其包括由不锈钢制成的箱体，所述箱体分为一级容纳箱和位于一级容纳箱下方的二级容纳箱，所述一级容纳箱内设置有介质式等离子处理器，所述介质式等离子处理器包括两个电极，两个所述电极分别设置在一级容纳箱的两端，所述介质式等离子处理器两端的顶部均连接有一级连接块，所述一级连接块与一级容纳箱的顶部连接，两个所述电极之间连接有陶瓷电极管，所述二级容纳箱内设有供电设备，所述供电设备与电极相连，所述一级容纳箱的两端均固定设置有走线轮，所述一级容纳箱的侧面设置有供电缆穿过的走线孔。本实用新型具有对电缆表面处理更加均匀充分的效果。

Description

一种电缆的表面等离子处理设备

技术领域

本实用新型涉及电缆制造领域，尤其是涉及一种电缆的表面等离子处理设备。

背景技术

目前，在电线电缆的生产过程中，需要使用挤塑机对裸露导线的外部喷涂绝缘体，以使得电线电缆具有较好的绝缘性。挤塑机在对导线外部进行喷徐后，绝缘体的表面的光洁度和平整度往往不能达到要求，从而导致后续在绝缘体表面进行印刷工序时，容易发生油墨难以附着在绝缘体表面的情况。为改善电缆表面的绝缘体的表面性质，一般会对电缆表进行等离子处理，等离子处理可以对高分子材料的表面进行改性处理，且在处理后不会改变材料基体的固有性能，其改性的作用仅仅发生在材料表面，从而大幅度提高线缆表面的附着力，便于后续的印刷工序。

现有技术中，公告号为CN202797489U的中国实用新型专利公开了一种同轴电缆接头、组合结构及等离子体处理装置。一种同轴电缆接头，包括接头本体、第一绝缘件、第二绝缘件、导体插件、导体接头、接地导电板以及标准压接件，同轴电缆中的内导体整体嵌入导体插件内部并与其连接，导体接头上端部连接射频电极，其下端部包覆导体插件；接地导电板紧靠接头本体设置，环绕第一绝缘件并接地；标准压接件设置于接头本体下端部，用于使接头本体和同轴电缆外导体连接；接头本体上表面临近接地导电板处设有一凹槽，该凹槽内设有一接地垫圈，其高度超出凹槽的深度，该接地垫圈分别与接头本体和接地导电板电连接。本实用新型可以保证同轴电缆接头接地良好，实现了对通过同轴电缆的高频信号更好的屏蔽效果。

上述现有技术方案存在以下缺陷：在实际使用的过程中，现有的等离子处理设备仅通过单一的等离子喷头对电缆表面进行处理，而电缆走线的速度较高，从而容易发生电缆表面等离子处理不均匀和不充分的情况，从而影响后续的表面印刷等工序。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种电缆的表面等离子处理设备，具有对电缆表面处理更加均匀充分的优点。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种电缆的表面等离子处理设备，包括由不锈钢制成的箱体，所述箱体分为一级容纳箱和位于一级容纳箱下方的二级容纳箱，所述一级容纳箱内设置有介质式等离子处理器，所述介质式等离子处理器包括两个电极，两个所述电极分别设置在一级容纳箱的两端，所述介质式等离子处理器两端的顶部均连接有一级连接块，所述一级连接块与一级容纳箱的顶部连接，两个所述电极之间连接有陶瓷电极管，所述二级容纳箱内设有供电设备，所述供电设备与电极相连，所述一级容纳箱的两端均固定设置有走线轮，所述一级容纳箱的侧面设置有供电缆穿过的走线孔。

通过采用上述技术方案，该种等离子处理器的处理原理为介质阻挡放电，其原理为：电极在通电后，随着电压的升高，陶瓷电极管中间的空气被击穿，从而使得通电区域内的气体出现等离子反应，再随着电压升高，陶瓷电极管内空气中的电子含量不断增加，从而使得各气体分子之间发生非弹性碰撞，从而使得电子含量进一步增加，当电子密度高于Paschen击穿电压时，两个电极之间便产生许多放电微丝，从而使得陶瓷电极管整个长度方向上产生大量的脉冲电流，从而对在陶瓷电极管下方的电缆表面进行等离子处理，与传统的等离子处理方式相比，该种方式产生的等离子体分布的范围较大，可以对长段电缆的整个表面进行等离子处理，扩大了等离子处理的范围，并使得处理过程更加均匀和充分。同时，由于处理范围的增大，电缆的走线速度可以适当提高，提高了工作效率。走线轮用于承载电缆，走线孔为电缆走线提供空间。

本实用新型进一步设置为，所述陶瓷电极管为方形管且两端密封，所述陶瓷电极管中部开设有通气孔。

通过采用上述技术方案，等离子产生时容易使得陶瓷电极管内的气体温度升高，从而导致气体发生体积膨胀，通气孔的设置可以平衡陶瓷电极管的内外气压差。

本实用新型进一步设置为，所述介质式等离子处理器设置有两组，且两组所述介质式等离子处理器对称设置，所述位于下方的介质式等离子处理器的两端固定连接有二级连接块，所述二级连接块与一级容纳箱顶部连接。

通过采用上述技术方案，设置两个介质式等离子处理器，可以对电缆的上端面和下端面同时进行等离子处理，进一步提高等离子处理效果。

本实用新型进一步设置为，所述一级连接块和二级连接块之间设置有调节组件，所述调节组件包括与一级连接块固定连接的一级齿条和与二级连接块固定连接的二级齿条，所述一级容纳箱顶部设置有供一级齿条和二级齿条穿过的安装孔，所述一级齿条和二级齿条之间啮合设置有传动齿轮，所述传动齿轮固定连接有转动轴，所述一级容纳箱外顶面上设置有支撑块，所述支撑块与转动轴之间转动连接。

通过采用上述技术方案，工作人员通过转动与传动齿轮连接的转动轴，可以使得传动齿轮带动一级齿条和二级齿条向相反的方向运动，从而实现两个介质式等离子处理器之间距离的改变，在对直径不同的电缆进行等离子处理时，为达到更好的处理效果，需要适当调整两个介质式等离子处理器之间的距离。

本实用新型进一步设置为，所述一级齿条的相对的两侧面上及所述二级齿条相对的两侧面上分别设置有沿一级齿条和二级齿条长度方向延伸的卡接凸条，所述安装孔内壁侧面对应位置开设有与卡接凸条配合的卡接凹槽。

通过采用上述技术方案，卡接凸条和卡接凹槽的设置可以对一级齿条和二级齿条的移动轨迹进行限位，使得一级齿条和二级齿条均沿垂直于一级容纳箱上表面的方向进行移动，提高了机构整体的传动稳定性。

本实用新型进一步设置为，两根所述转动轴之间固定连接，所述转动轴的一端设置有旋转把手，所述支撑块上设置有与转动轴表面抵接的锁紧螺栓。

通过采用上述技术方案，两个转动轴之间固定连接，使得两个转动轴可以同步转动，从而使得两个介质式等离子处理器在距离调节的过程中同步发生位移，即两者的对称轴位置始终不变，从而使得电缆两端等离子处理的效果处于平衡的状态，改善等离子处理效果。

本实用新型进一步设置为，两个所述介质式等离子处理器之间形成有处理空间，所述处理空间为长方体形的区域，所述处理空间的中心线所在的直线与两个走线轮的上端面相切设置。

通过采用上述技术方案，走线轮的位置设置可以使得电缆的走线方向始终位于两个介质式等离子处理器的中间位置，使得电缆两侧受到的等离子处理效果较为均匀。

本实用新型进一步设置为，所述一级容纳箱正对两个介质式等离子处理器的一面铰接有检修门，所述检修门与一级容纳箱之间设置有锁定结构，所述检修门表面开设有若干散热孔。

通过采用上述技术方案，检修门的设置可以将介质式等离子处理器与外界隔离，减少其对工作人员造成损伤的可能性，同时也方便工作人员对等离子处理设备内部进行检修。散热孔的设置可以对工作时的介质式等离子处理器进行散热。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1.通过介质式等离子处理器的设置，能够起到扩大等离子处理范围从而改善等离子处理效果的效果；

2.通过调节组件的设置，能够起到调节两个介质式等离子处理器之间的距离的效果；

3.通过检修门的设置，能够起到方便对一级容纳箱进行检修的效果。

附图说明

图1是一实施例中一种电缆的表面等离子处理设备的整体结构示意图。

图2是图1中A部的放大示意图。

图3是图1中B部的放大示意图。

图4是一实施例中检修门的整体结构示意图。

图中，1、箱体；11、一级容纳箱；111、走线轮；112、走线孔；113、安装孔；1131、卡接凹槽；114、支撑块；1141、锁紧螺栓；115、检修门；1151、锁定结构；1152、散热孔；12、二级容纳箱；121、供电设备；2、介质式等离子处理器；21、电极；22、陶瓷电极管；221、通气孔；23、一级连接块；24、二级连接块；25、处理空间；3、调节组件；31、一级齿条；311、卡接凸条；32、二级齿条；33、传动齿轮；34、转动轴；341、旋转把手。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

参照图1，为本实用新型公开的一种电缆的表面等离子处理设备，包括箱体1，箱体1分为上下两层，箱体1的上层为一级容纳箱11，箱体1的下层为二级容纳箱12。一级容纳箱11内设置有介质式等离子处理器2，二级容纳箱12内设有与介质式等离子处理器2电连接的供电设备121。一级容纳箱11的两端均固定设置有走线轮111，一级容纳箱11的侧面设置有供电缆穿过的走线孔112（参照图2）。走线轮111用于承载电缆，走线孔112为电缆走线提供空间。

参照图1和图2，介质式等离子处理器2包括两个电极21，两个电极21分别设置在一级容纳箱11的两端，介质式等离子处理器2两端的顶部均连接有一级连接块23，一级连接块23与一级容纳箱11的顶部连接，两个电极21之间连接有陶瓷电极21管，供电设备121与电极21相连。陶瓷电极21管为方形管且两端密封，陶瓷电极21管中部开设有通气孔221。等离子产生时容易使得陶瓷电极21管内的气体温度升高，从而导致气体发生体积膨胀，通气孔221的设置可以平衡陶瓷电极21管的内外气压差。

参照图2和图3，介质式等离子处理器2设置有两组，且两组介质式等离子处理器2对称设置，位于下方的介质式等离子处理器2的两端固定连接有二级连接块24，二级连接块24与一级容纳箱11顶部连接，一级连接块23和二级连接块24之间设置有调节组件3。两个介质式等离子处理器2之间形成有处理空间25，处理空间25为长方体形的区域，两个介质式等离子处理器2，可以对电缆的上端面和下端面同时进行等离子处理，进一步提高等离子处理效果。处理空间25的中心线所在的直线与两个走线轮111的上端面相切设置。

参照图4，一级容纳箱11正对两个介质式等离子处理器2的一面铰接有检修门115，检修门115与一级容纳箱11之间设置有锁定结构1151，检修门115表面开设有若干散热孔1152。检修门115的设置可以将介质式等离子处理器2与外界隔离，减少其对工作人员造成损伤的可能性，同时也方便工作人员对等离子处理设备内部进行检修。散热孔1152的设置可以对工作时的介质式等离子处理器2进行散热。

参照图3，调节组件3包括与一级连接块23固定连接的一级齿条31和与二级连接块24固定连接的二级齿条32，一级容纳箱11顶部设置有供一级齿条31和二级齿条32穿过的安装孔113，一级齿条31和二级齿条32之间啮合设置有传动齿轮33，传动齿轮33固定连接有转动轴34，一级容纳箱11外顶面上设置有支撑块114，支撑块114与转动轴34之间转动连接。一级齿条31的相对的两侧面上及二级齿条32相对的两侧面上分别设置有沿一级齿条31和二级齿条32长度方向延伸的卡接凸条311，安装孔113内壁侧面对应位置开设有与卡接凸条311配合的卡接凹槽1131。卡接凸条311和卡接凹槽1131的设置可以对一级齿条31和二级齿条32的移动轨迹进行限位，使得一级齿条31和二级齿条32均沿垂直于一级容纳箱11上表面的方向进行移动，提高了机构整体的传动稳定性。

参照图1和图3，两根转动轴34之间固定连接，转动轴34的一端设置有旋转把手341，支撑块114上设置有与转动轴34表面抵接的锁紧螺栓1141。

本实施例的实施原理为：该种等离子处理器的处理原理为介质阻挡放电，其原理为：电极21在通电后，随着电压的升高，陶瓷电极21管中间的空气被击穿，从而使得通电区域内的气体出现等离子反应，再随着电压升高，陶瓷电极21管内空气中的电子含量不断增加，从而使得各气体分子之间发生非弹性碰撞，从而使得电子含量进一步增加，当电子密度高于Paschen击穿电压时，两个电极21之间便产生许多放电微丝，从而使得陶瓷电极21管整个长度方向上产生大量的脉冲电流，从而对在陶瓷电极21管下方的电缆表面进行等离子处理，与传统的等离子处理方式相比，该种方式产生的等离子体分布的范围较大，可以对长段电缆的整个表面进行等离子处理，扩大了等离子处理的范围，并使得处理过程更加均匀和充分。同时，由于处理范围的增大，电缆的走线速度可以适当提高，提高了工作效率。

工作人员通过转动与传动齿轮33连接的转动轴34，可以使得传动齿轮33带动一级齿条31和二级齿条32向相反的方向运动，从而实现两个介质式等离子处理器2之间距离的改变，在对直径不同的电缆进行等离子处理时，为达到更好的处理效果，需要适当调整两个介质式等离子处理器2之间的距离。两个转动轴34可以同步转动，从而使得两个介质式等离子处理器2在距离调节的过程中同步发生位移，即两者的对称轴位置始终不变，从而使得电缆两端等离子处理的效果处于平衡的状态，改善等离子处理效果。

本具体实施方式的实施例均为本实用新型的较佳实施例，并非依此限制本实用新型的保护范围，故：凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种电缆的表面等离子处理设备，包括由不锈钢制成的箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)分为一级容纳箱(11)和位于一级容纳箱(11)下方的二级容纳箱(12)，所述一级容纳箱(11)内设置有介质式等离子处理器(2)，所述介质式等离子处理器(2)包括两个电极(21)，两个所述电极(21)分别设置在一级容纳箱(11)的两端，所述介质式等离子处理器(2)两端的顶部均连接有一级连接块(23)，所述一级连接块(23)与一级容纳箱(11)的顶部连接，两个所述电极(21)之间连接有陶瓷电极(21)管，所述二级容纳箱(12)内设有供电设备(121)，所述供电设备(121)与电极(21)相连，所述一级容纳箱(11)的两端均固定设置有走线轮(111)，所述一级容纳箱(11)的侧面设置有供电缆穿过的走线孔(112)。

2.根据权利要求1所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：所述陶瓷电极(21)管为方形管且两端密封，所述陶瓷电极(21)管中部开设有通气孔(221)。

3.根据权利要求1所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：所述介质式等离子处理器(2)设置有两组，且两组所述介质式等离子处理器(2)对称设置，所述位于下方的介质式等离子处理器(2)的两端固定连接有二级连接块(24)，所述二级连接块(24)与一级容纳箱(11)顶部连接。

4.根据权利要求3所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：所述一级连接块(23)和二级连接块(24)之间设置有调节组件(3)，所述调节组件(3)包括与一级连接块(23)固定连接的一级齿条(31)和与二级连接块(24)固定连接的二级齿条(32)，所述一级容纳箱(11)顶部设置有供一级齿条(31)和二级齿条(32)穿过的安装孔(113)，所述一级齿条(31)和二级齿条(32)之间啮合设置有传动齿轮(33)，所述传动齿轮(33)固定连接有转动轴(34)，所述一级容纳箱(11)外顶面上设置有支撑块(114)，所述支撑块(114)与转动轴(34)之间转动连接。

5.根据权利要求4所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：所述一级齿条(31)的相对的两侧面上及所述二级齿条(32)相对的两侧面上分别设置有沿一级齿条(31)和二级齿条(32)长度方向延伸的卡接凸条(311)，所述安装孔(113)内壁侧面对应位置开设有与卡接凸条(311)配合的卡接凹槽(1131)。

6.根据权利要求4所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：两根所述转动轴(34)之间固定连接，所述转动轴(34)的一端设置有旋转把手(341)，所述支撑块(114)上设置有与转动轴(34)表面抵接的锁紧螺栓(1141)。

7.根据权利要求6所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：两个所述介质式等离子处理器(2)之间形成有处理空间(25)，所述处理空间(25)为长方体形的区域，所述处理空间(25)的中心线所在的直线与两个走线轮(111)的上端面相切设置。

8.根据权利要求7所述的一种电缆的表面等离子处理设备，其特征在于：所述一级容纳箱(11)正对两个介质式等离子处理器(2)的一面铰接有检修门(115)，所述检修门(115)与一级容纳箱(11)之间设置有锁定结构(1151)，所述检修门(115)表面开设有若干散热孔(1152)。

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