CN210012894U - 一种磁控溅射镀膜用真空箱 - Google Patents
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Abstract
本实用新型创造提供了一种磁控溅射镀膜用真空箱,包括箱体和箱体上转动安装的门体,所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构;所述门体边缘设有外裙板,箱体上对应外裙板设有内裙板,所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆;所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧,外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔,伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。本实用新型创造结构简单,易于操作,且密封性能很好,通过设置多个拉紧机构,伸缩拉杆和拉板可以持续稳定的拉紧固定门体,大大提高了这种真空箱在工作时的稳定性和密封性。
Description
技术领域
本发明创造属于磁控溅射镀膜设备领域,尤其是涉及一种磁控溅射镀膜用真空箱。
背景技术
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用;磁控溅射镀膜是目前应用广泛的镀膜沉积工艺,镀膜过程需要在真空箱内进行,现有的密封性能好的真空箱开合起来十分麻烦,极大的影响了镀膜加工的效率,但普通的真空箱普遍不能很好的满足使用条件,密封性能较差,容易造成镀膜质量下降。
发明内容
有鉴于此,本发明创造旨在克服上述现有技术中存在的缺陷,提出一种磁控溅射镀膜用真空箱。
为达到上述目的,本发明创造的技术方案是这样实现的:
一种磁控溅射镀膜用真空箱,包括箱体和箱体上转动安装的门体,所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构;所述门体边缘设有外裙板,箱体上对应外裙板设有内裙板,所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆;所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧,外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔,伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。
进一步的,所述外裙板通过加强板与门体连接。
进一步的,所述拉板朝向箱体外的一侧设有用于加强拉板结构强度的横梁,伸缩拉杆上设有与横梁匹配的限位槽。
进一步的,所述横梁的长度方向与拉板的长度方向相同。
进一步的,所述横梁左右两侧均通过定位板与拉板连接。
进一步的,所述定位板间隔设置多个,每两个相邻的定位板之间均设有用于容纳伸缩拉杆的间隙。
相对于现有技术,本发明创造具有以下优势:
本发明创造结构简单,易于操作,且密封性能很好,通过设置多个拉紧机构,伸缩拉杆和拉板可以持续稳定的拉紧固定门体,大大提高了这种真空箱在工作时的稳定性和密封性;拉板上设置的横梁和定位板不仅可以加强拉板的结构强度,使拉板能更稳定的拉紧固定门体,而且横梁和定位板还可以很好的限制住拉板的移动,避免拉板在拉紧门体时发生晃动或移动,确保拉板可以持续稳定的拉紧固定门体,进一步提高了这种真空箱在工作过程中的稳定性,使这种真空箱内可以持续保持真空环境,确保磁控溅射镀膜可以稳定进行
附图说明
构成本发明创造的一部分的附图用来提供对本发明创造的进一步理解,本发明创造的示意性实施例及其说明用于解释本发明创造,并不构成对本发明创造的不当限定。在附图中:
图1为本发明创造的结构示意图;
图2为本发明创造实施例中箱体的结构示意图;
图3为本发明创造实施例中拉紧机构的结构示意图;
图4为本发明创造实施例中伸缩拉杆拉紧拉板时的结构示意图。
附图标记说明:
1-门体;2-外裙板;3-加强板;4-拉板;5-横梁;6-滑槽;7-定位板;8-伸缩拉杆;9-箱体;10-密封条;11-内裙板;12-过孔;13-限位槽。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明创造中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在本发明创造的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明创造和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明创造的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明创造的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本发明创造的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本发明创造中的具体含义。
下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明创造。
一种磁控溅射镀膜用真空箱,如图1至图4所示,包括箱体9和箱体上转动安装的门体1,所述门体1通过铰链转动安装在箱体9上,箱体上朝向门体1的一侧设有密封条10、以及用于固定门体1的拉紧机构,密封条10可以采用现有的橡胶密封条10;所述门体1边缘设有外裙板2,箱体9上对应外裙板2设有内裙板11,具体的,门体边缘设有外裙板,箱体边缘设有能与外裙板贴合的内裙板,内裙板11和外裙板2上也可以对应设置密封条10,通过设置外裙板2和内裙板11加大了门体和箱体的接触面积,门体与箱体贴合后真空箱整体的密封效果更好;
所述拉紧机构包括外裙板2上滑动设置的拉板4、以及箱体9上用于拉紧拉板4的伸缩拉杆8;所述拉板4设置在外裙板2上异于箱体9的一侧,外裙板2和内裙板11上均设有用于伸缩拉杆8通过的通孔,具体的,为提高稳定性,通孔的形状大小需要与伸缩拉杆相匹配,只要可以使伸缩拉杆不会发生晃动即可;
所述伸缩拉杆8穿过通孔的一端设有用于容纳拉板4的过孔12;所述拉紧机构可以设置多个,伸缩拉杆8可以采用电动推杆或液压缸,只要可以实现拉紧拉板4即可;具体的,当门体1关闭后,操作人员可以控制伸缩拉杆伸长,当伸缩拉杆穿过内裙板11和外裙板2上的通孔后,操作人员可以滑动拉板4,使拉板4穿过过孔12,此时相当于伸缩拉杆拉住了拉板;之后操作人员只需再控制伸缩拉杆收缩,伸缩拉杆会向箱体方向拉紧拉板,拉板会在伸缩拉杆的带动下拉紧门体,从而使门体与箱体贴合的更加紧密,大大提高了这种真空箱的密封性能。
所述外裙板2通过加强板3与门体连接,内裙板上也可以设置加强板与箱体连接;通过设置加强板3大大加强了内裙板/外裙板与对应箱体/门体连接的结构强度,从而避免外裙板/内裙板发生断裂或弯曲,当拉板4拉紧挤压外裙板2时,外裙板可以更好的带动门体与箱体贴合。
所述拉板4朝向箱体外的一侧设有用于加强拉板4结构强度的横梁5,伸缩拉杆8上设有与横梁5匹配的限位槽13;所述横梁5的长度方向与拉板4的长度方向相同;横梁5可以与拉板4形成T型结构,相比其他结构,T型结构大大加强了拉板4的结构强度,避免拉板弯折,从而使拉板4能均匀的拉紧门体1,有利于提高门体处的密封性能;同时通过限位槽13与横梁5配合,限位槽13还可以很好的限制住拉板,避免拉板上下晃动,使拉板能持续稳定的拉紧门体,大大提高了这种真空箱在工作时的稳定性和密封性。
所述外裙板上设有用于安装拉板的滑槽6,所述横梁左右两侧均通过定位板7与拉板连接;定位板7可以起到与加强板相同的作用,定位板7可以很好的加强拉板与横梁连接处的结构强度,从而使拉板能更稳定的拉紧固定门体。
所述定位板7间隔设置多个,每两个相邻的定位板7之间均设有用于容纳伸缩拉杆的间隙,定位板间隙的长度可以与伸缩拉杆的宽度相同,只要可以使任意相邻两个定位板能够卡住伸缩拉杆即可;当伸缩拉杆拉紧拉板时,定位板7可以顶住伸缩拉杆的两侧,从而避免拉板4发生横向的移动,进一步提高了拉板在拉紧门体时的稳定性,确保伸缩拉杆和拉板能更好的拉紧固定门体。
本发明创造结构简单,易于操作,且密封性能很好,通过设置多个拉紧机构,伸缩拉杆和拉板可以持续稳定的拉紧固定门体,大大提高了这种真空箱在工作时的稳定性和密封性;拉板上设置的横梁和定位板不仅可以加强拉板的结构强度,使拉板能更稳定的拉紧固定门体,而且横梁和定位板还可以很好的限制住拉板的移动,避免拉板在拉紧门体时发生晃动或移动,确保拉板可以持续稳定的拉紧固定门体,进一步提高了这种真空箱在工作过程中的稳定性,使这种真空箱内可以持续保持真空环境,确保磁控溅射镀膜可以稳定进行。
以上所述仅为本发明创造的较佳实施例而已,并不用以限制本发明创造,凡在本发明创造的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明创造的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:包括箱体和箱体上转动安装的门体,所述箱体上朝向门体的一侧设有密封条、以及用于固定门体的拉紧机构;所述门体边缘设有外裙板,箱体上对应外裙板设有内裙板,所述拉紧机构包括外裙板上滑动设置的拉板、以及箱体上用于拉紧拉板的伸缩拉杆;所述拉板设置在外裙板上异于箱体的一侧,外裙板和内裙板上均设有用于伸缩拉杆通过的通孔,伸缩拉杆穿过通孔的一端设有用于容纳拉板的过孔。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:所述外裙板通过加强板与门体连接。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:所述拉板朝向箱体外的一侧设有用于加强拉板结构强度的横梁,伸缩拉杆上设有与横梁匹配的限位槽。
4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:所述横梁的长度方向与拉板的长度方向相同。
5.根据权利要求3所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:所述横梁左右两侧均通过定位板与拉板连接。
6.根据权利要求5所述的一种磁控溅射镀膜用真空箱,其特征在于:所述定位板间隔设置多个,每两个相邻的定位板之间均设有用于容纳伸缩拉杆的间隙。
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CN201920326967.7U CN210012894U (zh) | 2019-03-14 | 2019-03-14 | 一种磁控溅射镀膜用真空箱 |
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CN201920326967.7U Active CN210012894U (zh) | 2019-03-14 | 2019-03-14 | 一种磁控溅射镀膜用真空箱 |
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